CN203284454U - 在工件上形成光学膜的设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及在工件上形成各种功能光学膜的设备，该设备的结构包括一机座，机座上设有一密封微波罩，密封微波罩的上下位置分别连接有输气管道和真空泵；所述密封微波罩内安装有工件固定夹，且所述密封微波罩上方依次安装有天线、同轴机构、以及模式转换器，且所述模式转换器通过波导管连接有微波发生源，工作时将工件直接置于密封微波罩内即可完成清洗、加热、活化、附着等一系列工序，自动化程度好，具有很高的沉积效率，本实用新型结构新颖，同样适用于形状复杂的3D工件表面的处理，灵活性大，具有广泛的应用前景和经济效益。
Description
技术领域：
本实用新型属于灯具技术领域，涉及灯珠及灯杯表面成膜技术，特指在工件上形成光学膜的设备。
背景技术：
目前，通用的灯珠外表面制备红外截止膜方法和灯杯内表面制备红外透射膜的方法都是采用物理真空蒸镀。制备红外截止膜和红外透射膜是分别将二氧化硅(SiO2)和二氧化钛(TiO2)固体颗粒物通过电子枪加热气化，在真空腔体内旋转的圆盘上放有灯珠或灯杯，气化后的二氧化钛(TiO2)和二氧化硅(SiO2)遇冷附着在灯珠外表面或灯杯的内表面，只是通过蒸发量控制膜层厚度并最终生成结构和层数不同的红外截止膜或者红外透射膜。
现有的方法和成膜设备，主要存在以下不足之处：
其一，灯珠外玻璃表面没有经过活化和洁净化处理，使得膜层附着度不够，灯丝通电后发出高热，灯珠表面温度可达450度，膜层很容易脱落失效；
其二，需要额外的加热源，要一直给被处理的灯珠或灯杯加热；
其三，由于沉积速度慢，导致工艺时间很长，需要几个小时；
其四，气化后的二氧化硅(SiO2)和二氧化钛(TiO2)由于没有导向性，造成旋转圆盘中心部分和边缘部位的灯珠或者灯杯附着的二氧化硅(SiO2)和二氧化钛(TiO2)这两种物质沉积量不均匀；
其五，灯珠的外表面或者灯杯的内表面膜层厚度不均匀，达不到质量要求。
实用新型内容：
针对背景技术所存在的不足，本实用新型提供一种在工件上形成光学膜的设备，解决膜层遇高温脱落和沉积量不均匀等问题，在实现效率提升的同时保证其产品质量。
为实现上述目的，本实用新型的设备，结构上包括一机座，机座上设有一密封微波罩，密封微波罩的上下位置分别连接有输气管道和真空泵；所述的密封微波罩内安装有工件固定夹，且所述密封微波罩的上方依次安装有天线、同轴机构、模式转换器，且所述模式转换器通过波导管连接有微波发生源。
进一步的措施是：
所述的天线为单天线或者“Y”形天线或者“X”形天线或者双“X”形天线。
所述的模式转换器为方形波导转同轴的模式转换器。
所述的波导管为方形波导管。
所述的微波发生源为脉冲微波发生源。
本实用新型的有益效果在于：设计新颖，结构紧凑，将工件置于密封微波罩内即可完成清洗、加热、活化、附着等一系列工序，自动化程度高，生产效率提高的同时也保证了产品质量，本实用新型同样适用于形状复杂的3D工件表面的处理，应用面和灵活性较大，具有广泛的应用前景和经济效益。
附图说明：
图1是本实用新型一种实施例设备的结构示意图；
图2是本实用新型另一种实施例设备的结构示意图。
图中：1、机座，2、密封微波罩，21、输气管道，22、工件固定夹，3、真空泵，4、天线，5、同轴机构，6、模式转换器，7、波导管，8、微波发生源，9、工件。
具体实施方式：
下面结合具体实施例和附图对本实用新型作进一步的说明。
如图1或图2所示，该设备具有一机座1，于所述机座1上设有一密封微波罩2，密封微波罩2连接有输气管道21和真空泵3，输气管道21可外接至少两个支气管道，以分别通入反应气体；其中，图1实施例中输气管道21是顶置式的，适用于在工件外表面成膜；而图2实施例中输气管道21则为底置式，工件9扣于输气管道21的出口上，适用于在工件9的内表面成膜。所述密封微波罩2内安装有工件固定夹22，且所述密封微波罩2上方依次安装有天线4、同轴机构5、以及模式转换器6，本实施例中模式转换器6为方形波导转同轴的模式转换器；所述模式转换器6通过波导管7连接有微波发生源8。所述的波导管7为方形波导管。本实施例采用的微波发生源8是脉冲微波发生源，其供应的等离子发生器的数量可以是1、2、4、8、16...个不等。
其工作过程如下：微波发生源8产生脉冲微波经过波导管7导入模式转换器6，模式转换器6以及同轴机构5把脉冲微波传输的方式由方形波导方式转换到同轴传输方式，然后通过天线4发到下面，穿过能使微波穿透的材料所制的密封微波罩2内，脉冲微波对密封微波罩2内的气体电离作用产生等离子体，从而使密封微波罩2内形成等离子作用区。当工件9置于密封微波罩2的工件固定夹22后，先对密封微波罩2利用真空泵3抽真空，达到一定真空度后，经输气管道21通入氧气，由通入的氧气被脉冲微波作用产生的氧气等离子体作加热、表面清洁和表面活化处理；然后，通入的反应气体和氧气被电离作用产生的如硅等离子体或钛等离子体与氧等离子体结合，在工件9表面沉积形成成分为SiO2或TiO2的红外截止膜或红外透射膜。
其中，所述的天线4可以是单天线或者“Y”形天线或者“X”形天线或者双“X”形天线，即单台微波发生源8所配的天线形状。采用“Y”形天线或者“X”形天线或者双“X”形天线，其可以使导入密封微波罩2中的脉冲微波分布更均匀，而且可适合多个工件一起沉积附着成膜，大幅提高生产效率。并且产品的质量有保证，具有广泛的应用前景。
Claims (5)
1.一种在工件上形成光学膜的设备，其特征在于：所述的设备包括一机座，机座上设有一密封微波罩，密封微波罩的上下位置分别连接有输气管道和真空泵；所述密封微波罩内安装有工件固定夹，且所述密封微波罩上方依次安装有天线、同轴机构、模式转换器，且所述模式转换器通过波导管连接有微波发生源。
2.根据权利要求1所述的在工件上形成光学膜的设备，其特征在于：所述的天线为单天线或者“Y”形天线或者“X”形天线或者双“X”形天线。
3.根据权利要求1所述的在工件上形成光学膜的设备，其特征在于：所述的模式转换器为方形波导转同轴的模式转换器。
4.根据权利要求1所述的在工件上形成光学膜的设备，其特征在于：所述的波导管为方形波导管。
5.根据权利要求1所述的在工件上形成光学膜的设备，其特征在于：所述的微波发生源为脉冲微波发生源。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN2013203249619U CN203284454U (zh) | 2013-06-06 | 2013-06-06 | 在工件上形成光学膜的设备 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN203284454U true CN203284454U (zh) | 2013-11-13 |
Family
ID=49540827
Family Applications (1)
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| CN2013203249619U Expired - Lifetime CN203284454U (zh) | 2013-06-06 | 2013-06-06 | 在工件上形成光学膜的设备 |
Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN203284454U (zh) |
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2013
- 2013-06-06 CN CN2013203249619U patent/CN203284454U/zh not_active Expired - Lifetime
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