CN203227470U - 搪瓷反应釜投料分散装置 - Google Patents

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Inventor
李明利
杨顺荣
肖尾俭
尉中华
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Xiamen R & B Sunstone Building Materials Technology Co Ltd
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Xiamen R & B Sunstone Building Materials Technology Co Ltd
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Abstract

本实用新型公开一种搪瓷反应釜投料分散装置,包括接料盘,其轴向中心固定于搪瓷反应釜搅拌器上,该投料分散装置位于反应釜投料口下方,投料分散装置随搅拌器同时旋转产生离心力以分散反应釜投入的物料。本实用新型的搪瓷反应釜投料分散装置,设计合理,使投入搪瓷反应釜内物料分散均匀,防止物料局部浓度过高,而引起副反应,提高产品品质,满足了企业的使用需求。

Description

搪瓷反应釜投料分散装置
技术领域
本实用新型公开一种搪瓷反应釜投料分散装置,按国际专利分类表(IPC)划分属于搪瓷反应釜制造技术领域。
背景技术
搪瓷反应釜是将含高二氧化硅的玻璃,衬在钢制容器的内表面,经高温灼烧而牢固地密着于金属表面,常用于石油化工、橡胶、农药、染料、医药等行业,用以完成磺化、硝化、氢化、烃化、聚合、缩合等工艺过程,以及有机染料和中间体的许多其它工艺过程的反应设备。目前的搪瓷反应釜投料口一般设置于釜体上端,投料时,物料直接投入反应釜内,与釜内物质混合。然而,一些添加量占总反应物质比例较小的物料直接投入,例如催化剂等,易造成釜内该物质局部浓度过高,引起有机物爆聚等副反应,影响反应结果或产品品质。
发明内容
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种搪瓷反应釜投料分散装置,通过旋转产生离心力,使投入搪瓷反应釜内的液体或粉体材料均匀分散于反应釜内。
为达到上述目的,本实用新型是通过以下技术方案实现的:
一种搪瓷反应釜投料分散装置,其轴向中心固定于搪瓷反应釜搅拌器上,该投料分散装置位于反应釜投料口下方,投料分散装置随搅拌器同时旋转产生离心力以分散反应釜投入的物料。
进一步,所述投料分散装置包括接料盘,接料盘上沿回转轴心设有若干呈散射状的下料口,每一下料口正下方配合一支撑杆,从下料口落下的部分物料在支撑杆上分散而均匀投入于反应釜内,接料盘使部分物料从下料口落下用于防止投入物料过多过快时发生迸溅,而从下料口落下的部分物料在支撑杆上分散,防止投入的物料局部浓度过高。
进一步,所述的接料盘为伞状回转盘,其上各下料口的底端宽度大于顶端口径,而相配合的支撑杆与下料口对应设置。
本实用新型的搪瓷反应釜投料分散装置,设计合理,使投入搪瓷反应釜内物料分散均匀,防止物料局部浓度过高,而引起副反应,提高产品品质,满足了企业的使用需求。
附图说明
图1是本实用新型示意图。
图2是本实用新型投料分散装置俯视图。
图3是本实用新型投料分散装置仰视图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步说明:
实施例:请参阅图1,搪瓷反应釜1顶部靠外侧安装有竖直深入罐体的测温棒2,顶部中心安装有电机3,链接竖置的搅拌轴4,所述搅拌轴4上设有搅拌桨叶5和投料分散装置7。搅拌轴4通过电机3控制转动,带动搅拌桨叶5和投料分散装置7随之转动,6为投料口,8为出料口。
本实用新型投料分散装置7包括接料盘71和支撑杆72,接料盘71上设有下料口710,使部分物料从下料口落下,防止投入物料过多过快时发生迸溅;支撑杆72设在下料口710正下方,使从下料口710落下的部分物料在支撑杆72上分散,防止投入的物料局部浓度过高,各支撑杆的外端与接料盘边沿相连。
本实用新型设置于搅拌器(搅拌轴4)上半部分,搪瓷反应釜投料口6下方。本实用新型投料分散装置通过旋转产生离心力,使投入搪瓷反应釜内的液体或粉体材料均匀分散于反应釜内,防止出现由于局部物料浓度过高而引起的化学副反应。
以上所记载,仅为利用本创作技术内容的实施例,任何熟悉本项技艺者运用本创作所做的修饰、变化,皆属本创作主张的专利范围,而不限于实施例所揭示者。

Claims (2)

1.一种搪瓷反应釜投料分散装置,其特征在于:该装置的轴向中心固定于搪瓷反应釜搅拌器上,所述投料分散装置位于反应釜投料口下方,投料分散装置随搅拌器同时旋转产生离心力以分散反应釜投入的物料,
所述投料分散装置包括接料盘,接料盘上沿回转轴心设有若干呈散射状的下料口,每一下料口正下方配合一支撑杆,从下料口落下的部分物料在支撑杆上分散而均匀投入于反应釜内。
2.权利要求1所述的一种搪瓷反应釜投料分散装置,其特征在于:所述的接料盘为伞状回转盘,其上各下料口的底端宽度大于顶端口径,而相配合的支撑杆与下料口对应设置。
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