CN202830170U - 一种具有水膜铺开功能的湿法刻蚀机 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于太阳能电池生产制造领域，具体涉及一种可将水膜完全铺开覆盖在“N”型硅片表面的湿法刻蚀机，包括刻蚀机台和位于刻蚀机台上方的喷水装置，在刻蚀机台上方喷水装置的一侧设置有用于吹开由喷水装置喷淋到刻蚀机台上传送的硅片上表面的水膜的吹风装置。所述吹风装置位于所述喷水装置硅片传送方向的一侧。所述吹风装置包括相互连接的送气管和出气头，所述出气头上设置有朝向硅片的喷气孔。硅片通过刻蚀机台传送过程中，喷水装置将水膜喷到硅片表面，再经吹风装置吹出的气流准确的加速水膜的扩散，确保水膜完全覆盖硅片表面。

Description

一种具有水膜铺开功能的湿法刻蚀机

技术领域

本实用新型属于太阳能电池生产制造领域，具体涉及一种可将水膜完全铺开覆盖在“N”型硅片表面的湿法刻蚀机。

背景技术

目前湿法刻蚀机台采用喷洒水膜保护“N”型硅片表面的方式，通过滚轮将药液带起，达到去除太阳能电池片背面和边缘“N”型硅片层的目的。但是在水膜扩散的过程中 ，不同类型硅片表面状态差异很大，导致水膜的扩散效果存在差异；如果水膜不能完全覆盖“N”型硅片表面，那么槽内的酸液和酸雾就会腐蚀没有被水膜保护的“N”型硅片表面，造成过刻和黑边，从而导致太阳能电池片效率下降，不良率上升。

实用新型内容

本实用新型的目的是为解决上述问题提供一种利用吹风装置能将水膜完全铺开覆盖在硅片表面的湿法刻蚀机。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种具有水膜铺开功能的湿法刻蚀机，包括刻蚀机台和位于刻蚀机台上方的喷水装置，在刻蚀机台上方喷水装置的一侧设置有用于吹开由喷水装置喷淋到刻蚀机台上传送的硅片上表面的水膜的吹风装置。

作为优选，所述吹风装置位于所述喷水装置硅片传送方向的一侧。

原有湿法刻蚀机台通过喷水装置简单直接地将水膜喷到下方的硅片表面，水膜不能完全覆盖硅片。本实用新型的水膜铺开装置，通过在喷水装置后方设置吹风装置，使水膜喷到硅片表面上，再经吹风装置吹出气流，利用气流的扰动和推力使水膜完全覆盖硅片表面。再进行湿法刻蚀，避免了过刻和黑边，提高太阳能电池片的成品率和产品优良率。

作为优选，所述吹风装置包括相互连接的送气管和出气头，所述出气头上设置有朝向硅片的喷气孔。

作为优选，所述喷气孔喷气方向与所述硅片行进方向呈30－80度角。

作为优选，所述吹风装置上设置有多个喷气孔。

作为优选，所述喷气孔直径为0.5-3mm。

作为优选，所述喷气孔之间中心间距大于20mm。

采用精密钻孔技术钻孔，确保孔径大小符合设计标准，吹出气流的速度和方向均一。

作为优选，所述喷气孔喷出的气体为惰性气体或压缩空气。

作为优选，所述惰性气体为氮气。

作为优选，所述吹风装置为PVC装置。

通过该装置吹出的气流，准确的加速由水膜的扩散，确保水膜完全覆盖硅片“N”型面。

综上所述，本实用新型具有以下有益效果：

1.    吹风装置采用气流推动原理，通过该装置吹出的气流，准确的加速水膜的扩散，确保水膜完全覆盖硅片“N” 型硅片面；

2.    吹风装置采用耐强势、不老化、不变形的PVC材料，确保装置能够适应恶劣的生产环境；

3.    该吹风装置结构简单，成本低，却大大提高了成品的性能。

附图说明：

图1是刻蚀机台、喷水装置和吹风装置示意图；

图中1－刻蚀机台，2－喷水装置，3－吹风装置，4－硅片，5－水膜。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明。

本具体实施例仅仅是对本实用新型的解释，其并不是对本实用新型的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本实用新型的权利要求范围内都受到专利法的保护。 

实施例一：

如附图所示，一种具有水膜铺开功能的湿法刻蚀机，包括刻蚀机台1和位于刻蚀机台1上方的喷水装置2，在刻蚀机台1上方喷水装置2的一侧设置有用于吹开由喷水装置2喷淋到刻蚀机台1上传送的硅片4上表面的水膜5的吹风装置3。所述吹风装置3位于所述喷水装置2硅片4传送方向的一侧。所述吹风装置3包括相互连接的送气管和出气头，所述出气头上设置有朝向硅片的喷气孔。所述喷气孔喷气方向与所述硅片行进方向呈30度角。所述吹风装置3上设置有5个喷气孔。所述喷气孔直径为0.5mm。所述喷气孔之间中心间距大于25mm。所述喷气孔喷出的气体为惰性气体。所述惰性气体为氮气。所述吹风装置为PVC装置。

硅片4通过刻蚀机台1传送过程中，喷水装置2将水膜5喷到硅片4表面，再经吹风装置3吹出的气流准确的加速水膜5的扩散，确保水膜5完全覆盖硅片4表面。

本湿法刻蚀机，能够有效解决不同类型硅片4过刻和黑边的问题，从而提升了太阳能电池片的生产效率和优良率。该吹风装置3设计简易，成本低廉，运行控制稳定，和原机台的匹配性很好。

实施例二：

与上述实施例不同的是所述喷气孔喷出的气体为压缩空气，所述喷气孔喷气方向与所述硅片行进方向呈80度角。所述吹风装置3上设置有8个喷气孔。所述喷气孔直径为3mm。所述喷气孔之间中心间距大于30mm。

实施例三：

与上述实施例不同的是所述喷气孔喷气方向与所述硅片行进方向呈50度角。所述吹风装置3上设置有10个喷气孔。所述喷气孔直径为2mm。所述喷气孔之间中心间距大于25mm。

Claims (10)

1.一种具有水膜铺开功能的湿法刻蚀机，所述湿法刻蚀机包括刻蚀机台（1）和位于刻蚀机台（1）上方的喷水装置（2），其特征在于：在刻蚀机台（1）上方喷水装置（2）的一侧设置有用于吹开由喷水装置（2）喷淋到刻蚀机台（1）上传送的硅片（4）上表面的水膜（5）的吹风装置（3）。

2.根据权利要求1或2所述一种具有水膜铺开功能的湿法刻蚀机，其特征在于：所述吹风装置（3）位于所述喷水装置（2）硅片（4）传送方向的一侧。

3.根据权利要求2所述一种具有水膜铺开功能的湿法刻蚀机，其特征在于：所述吹风装置（3）包括相互连接的送气管和出气头，所述出气头上设置有朝向硅片的喷气孔。

4.根据权利要求3所述一种具有水膜铺开功能的湿法刻蚀机，其特征在于：所述喷气孔喷气方向与所述硅片行进方向呈30－80度角。

5.根据权利要求4所述一种具有水膜铺开功能的湿法刻蚀机，其特征在于：所述吹风装置（3）上设置有多个喷气孔。

6.根据权利要求5所述一种具有水膜铺开功能的湿法刻蚀机，其特征在于：所述喷气孔直径为0.5-3mm。

7.根据权利要求6所述一种具有水膜铺开功能的湿法刻蚀机，其特征在于：所述喷气孔之间中心间距大于20mm。

8.根据权利要求7所述一种具有水膜铺开功能的湿法刻蚀机，其特征在于：所述喷气孔喷出的气体为惰性气体或压缩空气。

9.根据权利要求8所述一种具有水膜铺开功能的湿法刻蚀机，其特征在于：所述惰性气体为氮气。

10.根据权利要求7、8或9所述一种具有水膜铺开功能的湿法刻蚀机，其特征在于：所述吹风装置为PVC装置。

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