CN202742244U - XYθ精密对位平台 - Google Patents

XYθ精密对位平台 Download PDF

Info

Publication number
CN202742244U
CN202742244U CN2012203769731U CN201220376973U CN202742244U CN 202742244 U CN202742244 U CN 202742244U CN 2012203769731 U CN2012203769731 U CN 2012203769731U CN 201220376973 U CN201220376973 U CN 201220376973U CN 202742244 U CN202742244 U CN 202742244U
Authority
CN
China
Prior art keywords
platform
theta
axis moving
stage
moving platform
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
CN2012203769731U
Other languages
English (en)
Inventor
吴茂祥
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Application granted granted Critical
Publication of CN202742244U publication Critical patent/CN202742244U/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25BTOOLS OR BENCH DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR, FOR FASTENING, CONNECTING, DISENGAGING OR HOLDING
    • B25B11/00Work holders not covered by any preceding group in the subclass, e.g. magnetic work holders, vacuum work holders
    • GPHYSICS
    • G12INSTRUMENT DETAILS
    • G12BCONSTRUCTIONAL DETAILS OF INSTRUMENTS, OR COMPARABLE DETAILS OF OTHER APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G12B5/00Adjusting position or attitude, e.g. level, of instruments or other apparatus, or of parts thereof; Compensating for the effects of tilting or acceleration, e.g. for optical apparatus
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T74/00Machine element or mechanism
    • Y10T74/18Mechanical movements
    • Y10T74/18568Reciprocating or oscillating to or from alternating rotary
    • Y10T74/18792Reciprocating or oscillating to or from alternating rotary including worm
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T74/00Machine element or mechanism
    • Y10T74/20Control lever and linkage systems
    • Y10T74/20012Multiple controlled elements
    • Y10T74/20201Control moves in two planes
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T74/00Machine element or mechanism
    • Y10T74/20Control lever and linkage systems
    • Y10T74/20207Multiple controlling elements for single controlled element
    • Y10T74/20341Power elements as controlling elements
    • Y10T74/20348Planar surface with orthogonal movement and rotation
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T74/00Machine element or mechanism
    • Y10T74/20Control lever and linkage systems
    • Y10T74/20207Multiple controlling elements for single controlled element
    • Y10T74/20372Manual controlling elements
    • Y10T74/20378Planar surface with orthogonal movement or rotation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Machine Tool Units (AREA)
  • Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

本实用新型涉及一种XYθ精密对位平台,包括:一XY轴移动平台,包括:一X轴移动平台,其底部设有至少一滑轨元件;一Y轴移动平台,其底部设有至少一滑轨元件;所述X轴移动平台及Y轴移动平台为层叠组合;一θ角回动平台,包括:一平台;一圆弧形齿排,其设于平台的底部;一滑轨元件,其结合至少一滑块;一蜗杆结构,其与圆弧形齿排啮合;所述滑轨元件及蜗杆结构对应设于所述XY轴移动平台的承载面;所述θ角回动平台层叠设置于XY轴移动平台承载面,且所述滑块对应结合于平台的底部;本实用新型通过控制其蜗杆结构传动该圆弧形齿排,可以精密地令该θ角回动平台进行θ角精密回动,回动角度更是可达360°,机体厚度更是只有4层,达成薄形化的产品目标。

Description

XYθ精密对位平台
技术领域
本实用新型属于对位平台领域,特别涉及一种可以达成360°回动、薄形化、高精密度的XYθ精密对位平台。
背景技术
在各种液晶面板制造、检查设备、半导体制造、检查设置、网印设备或印刷电路板制造、检查设备中,必须使用对位平台进行对位移动等程序,而为了提高精密度,除X轴、Y轴的移动外,除以伸缩元件达成XY轴的移动外,更应具备θ角移动功能,方能达成高精密度的要求;但已知市售同性质产品中,号称具有θ角回动功能,实则仅以XXY轴或XYY轴结构间接达成,显然并不是真正的θ角回动;而其回动角度亦受到限制,例如普遍均只能达到±5°范围内;且元件复杂,层叠组合后达到6层的厚度,不符合设备元件轻薄化的要求;更进一步指出,已知结构在运转时更存在有干涉现象,实在无法达到绝对精密度;如何改善上述缺点,实有其必要性。
实用新型内容
有鉴于此,本案新型的本实用新型的目的在于提供一种XYθ精密对位平台。
为达到上述目的,本实用新型提供一种XYθ精密对位平台,所述XYθ精密对位平台包括:
一XY轴移动平台,包括:
一X轴移动平台,其底部设有至少一滑轨元件;
一Y轴移动平台,其底部设有至少一滑轨元件;
所述X轴移动平台及Y轴移动平台为层叠组合;
一θ角回动平台,包括:
一平台;
一圆弧形齿排,其设于所述平台底部;  
一滑轨元件,其结合至少一滑块;
一蜗杆结构,其与所述圆弧形齿排啮合;
所述滑轨元件及蜗杆结构对应设于所述XY轴移动平台的承载面;
所述θ角回动平台层叠设置于所述XY轴移动平台的承载面,且所述滑块对应结合于所述平台的底部。
作为上述一种XYθ精密对位平台的优选方案,其中所述圆弧形齿排为圈状。
作为上述一种XYθ精密对位平台的优选方案,其中所述圆弧形齿排为弧状。
作为上述一种XYθ精密对位平台的优选方案,其中所述滑轨元件为圈状。
作为上述一种XYθ精密对位平台的优选方案,其中所述XY轴移动平台架设于一底座座面。
为达到上述目的,本实用新型还提供一种XYθ精密对位平台的θ角回动平台,所述XYθ精密对位平台的θ角回动平台包括:
一平台;
一圆弧形齿排,其设于所述平台底部;
一滑轨元件,其结合至少一滑块;
所述平台的底部对应结合于所述滑块;
且所述平台由一蜗杆结构与其圆弧形齿排啮合传动。
作为上述一种XYθ精密对位平台的θ角回动平台的优选方案,其中所述圆弧形齿排为圈状。
作为上述一种XYθ精密对位平台的θ角回动平台的优选方案,其中所述圆弧形齿排为弧状。
作为上述一种XYθ精密对位平台的θ角回动平台的优选方案,其中所述滑轨元件为圈状。
本实用新型所提供的XYθ精密对位平台,通过控制其蜗杆结构传动该圆弧形齿排,可以精密地令该θ角回动平台进行θ角精密回动,回动角度更是可达360°,机体厚度更是只有4层,达成薄形化的产品目标。
附图说明
图1为本实用新型较佳实施例的立体外观图;
图2为本实用新型较佳实施例的元件立体组合示意图;
图3为本实用新型较佳实施例的θ角回动平台结构示意图;
图4为本实用新型较佳实施例的作动示意图之一-X轴移动;
图5为本实用新型较佳实施例的作动示意图之二-Y轴移动;
图6为本实用新型较佳实施例的作动示意图之三-θ角回动;
图7为本实用新型另一实施例的元件立体组合示意图;
图8为本实用新型另一实施例的θ角回动平台结构示意图;
图9为本实用新型另一实施例的作动示意图-θ角回动。
主要附图标记:
1-XY轴移动平台;11-X轴移动平台;111-滑轨元件; 12-Y轴移动平台;121-滑轨元件;13-底座;
2-θ角回动平台;21-平台;22-圆弧形齿排;23-滑轨元件;24-滑块;25-蜗杆结构;26-伺服电动机。
具体实施方式
有关本实用新型的详细说明及技术内容,将结合附图进行说明,然而以下附图及实施例仅作为说明之用,并非用于限制本实用新型。
如图1~图3所示,本实用新型所述的XYθ精密对位平台,包括:
一XY轴移动平台1,包括:
一X轴移动平台11,其底部设有至少一滑轨元件111;
一Y轴移动平台12,其底部设有至少一滑轨元件121;
所述X轴移动平台11及Y轴移动平台12为层叠组合;
该XY轴移动平台1架设于一底座13的座面;  
一θ角回动平台2,包括:
一平台21;
一圆弧形齿排22,其设于平台21的底部;
其中,
圆弧形齿排22为圈状;或
圆弧形齿排22为弧状,参照图7、图8;
一滑轨元件23,且其结合至少一滑块24;
其中,
滑轨元件23为圈状; 
滑块24依平台21荷重调整其数量;
一蜗杆结构25,且其应与所述圆弧形齿排22啮合;
蜗杆结构25由一伺服电动机26传动;
所述滑轨元件24及蜗杆结构25对应设于所述XY轴移动平台1的承载面;
θ角回动平台2层叠设置于XY轴移动平台1的承载面,且所述滑块24对应结合于所述平台21的底部;
如图4所示,本实用新型以所述XY轴移动平台1中的X轴移动平台11进行X轴方向受控移动;
如图5所示,本实用新型以所述XY轴移动平台1中的Y轴移动平台12进行Y轴方向受控移动;
特别指出,则是所述θ角回动平台2通过控制其蜗杆结构25传动所述圆弧形齿排22,可以精密地令θ角回动平台2进行θ角精密回动;参照图6及图9;
本实用新型θ角回动平台2有固定运动轨迹,可配合安装光学尺,且可以独立进行回动,回动角度更是可达360°(所述圆弧形齿排22为圈状时),完全满足产业界的精密需求。
另外,本实用新型组合后的机体厚度降低至只有4层,有效达成薄形化的产品目标。
以上所述,仅为本实用新型的较佳实施例,并非因此而限定本实用新型的保护范围,举凡依据本实用新型专利精神所作的等效变化、修饰与置换等,皆应属于本实用新型专利的保护范围内。

Claims (9)

1.一种XYθ精密对位平台,其特征在于,所述XYθ精密对位平台包括:
一XY轴移动平台,包括:
一X轴移动平台,其底部设有至少一滑轨元件;
一Y轴移动平台,其底部设有至少一滑轨元件;
所述X轴移动平台及Y轴移动平台为层叠组合;
一θ角回动平台,包括:
一平台;
一圆弧形齿排,其设于所述平台底部;  
一滑轨元件,其结合至少一滑块;
一蜗杆结构,其与所述圆弧形齿排啮合;
所述滑轨元件及蜗杆结构对应设于所述XY轴移动平台的承载面;
所述θ角回动平台层叠设置于所述XY轴移动平台的承载面,且所述滑块对应结合于所述平台的底部。
2.如权利要求1所述的XYθ精密对位平台,其特征在于,所述圆弧形齿排为圈状。
3.如权利要求1所述的XYθ精密对位平台,其特征在于,所述圆弧形齿排为弧状。
4.如权利要求1所述的XYθ精密对位平台,其特征在于,所述滑轨元件为圈状。
5.如权利要求1所述的XYθ精密对位平台,其特征在于,所述XY轴移动平台架设于一底座座面。
6.一种XYθ精密对位平台的θ角回动平台,其特征在于,所述XYθ精密对位平台的θ角回动平台包括:
一平台;
一圆弧形齿排,其设于所述平台底部;
一滑轨元件,其结合至少一滑块;
所述平台的底部对应结合于所述滑块;
且所述平台由一蜗杆结构与其圆弧形齿排啮合传动。
7.如权利要求6所述XYθ精密对位平台的θ角回动平台,其特征在于,所述圆弧形齿排为圈状。
8.如权利要求6所述XYθ精密对位平台的θ角回动平台,其特征在于,所述圆弧形齿排为弧状。
9.如权利要求6所述XYθ精密对位平台的θ角回动平台,其特征在于,所述滑轨元件为圈状。
CN2012203769731U 2012-05-03 2012-07-31 XYθ精密对位平台 Expired - Lifetime CN202742244U (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW101208321 2012-05-03
TW101208321U TWM441541U (en) 2012-05-03 2012-05-03 Precision alignment platform for X, Y and θ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN202742244U true CN202742244U (zh) 2013-02-20

Family

ID=47701691

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2012203769731U Expired - Lifetime CN202742244U (zh) 2012-05-03 2012-07-31 XYθ精密对位平台

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9032832B2 (zh)
JP (1) JP3179313U (zh)
CN (1) CN202742244U (zh)
TW (1) TWM441541U (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105643512A (zh) * 2016-03-22 2016-06-08 苏州博众精工科技有限公司 一种载具定位机构
CN110014403A (zh) * 2018-01-10 2019-07-16 广州中国科学院先进技术研究所 一种大行程精密对位平台
CN115013663A (zh) * 2022-06-07 2022-09-06 广东立迪智能科技有限公司 一种XYθ对位平台

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9273761B2 (en) * 2012-05-03 2016-03-01 Mau-Hsiang Wu XYθ precision alignment platform
JP3186285U (ja) * 2013-07-18 2013-09-26 ▲呉▼ 茂祥 精密位置合せ用プラットフォーム
KR101383174B1 (ko) * 2013-11-27 2014-04-09 윤슬(주) 동축 구동 다방향 제어장치
US10210625B2 (en) 2015-10-30 2019-02-19 Industrial Technology Research Institute Measurement system comprising angle adjustment module
CN106427237B (zh) * 2016-06-20 2018-09-25 刘玲 一种喷印机的平台theta轴
CN108068070A (zh) * 2018-01-23 2018-05-25 陕西科技大学 一种大行程式3-prp机构的精密对位平台
CN112207730A (zh) * 2019-07-10 2021-01-12 惠州中科先进制造研究中心有限公司 带供电功能的大幅度旋转治具
CN112548958A (zh) * 2020-12-14 2021-03-26 苏州市星光精密机械有限公司 一种高精度uw轴联动旋转平台

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5497060A (en) * 1993-06-21 1996-03-05 Juergens, Iii; Albert M. Positioning stage
US6135400A (en) * 1998-11-24 2000-10-24 General Electric Company Optical alignment fixture
JP4378762B2 (ja) * 1999-05-19 2009-12-09 株式会社ニコン ステージ装置
US7136223B2 (en) * 2003-11-25 2006-11-14 Leica Microsystems Cms Gmbh Erogonomically arranged object adjustment controls
US8659825B2 (en) * 2007-12-20 2014-02-25 National Tsing Hua University Sample carrying apparatus capable of revolving sample

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105643512A (zh) * 2016-03-22 2016-06-08 苏州博众精工科技有限公司 一种载具定位机构
CN110014403A (zh) * 2018-01-10 2019-07-16 广州中国科学院先进技术研究所 一种大行程精密对位平台
CN115013663A (zh) * 2022-06-07 2022-09-06 广东立迪智能科技有限公司 一种XYθ对位平台

Also Published As

Publication number Publication date
US9032832B2 (en) 2015-05-19
JP3179313U (ja) 2012-10-25
TWM441541U (en) 2012-11-21
US20130291666A1 (en) 2013-11-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN202742244U (zh) XYθ精密对位平台
CN102133694B (zh) 一种切割机器人
CN103706517B (zh) 六轴联动点胶机
CN205480018U (zh) 一种可360°旋转的平面三自由度串联精密定位平台
CN106383123B (zh) 相机定位装置及视觉检测装置
CN104633407A (zh) 一种三自由度旋转平台
CN102626870B (zh) 一种具有单自由度铰链的三自由度并联主轴头
JP2012228740A (ja) 工作機械のテーブルユニット
CN103737577A (zh) 一种含滚珠丝杠副驱动的六自由度工业机器人
CN102581482A (zh) 一种激光焊接头调位装置
CN105855906A (zh) 一种具有空间三自由度的并联机构
CN103968207B (zh) 一种无奇异完全各向同性空间三维转动并联机构
CN207122548U (zh) 一种仰板机翻转机构
CN103448441A (zh) 双ccd定位的精雕机
CN102211329A (zh) 一种五自由度空间混联操作平台
CN103722562A (zh) 机械关节与应用其的机械手臂
CN203292028U (zh) 点胶机
CN103707317A (zh) 用于多节式移动机器人的主被动结合连接机构
CN104966435A (zh) 运动学演示基础平台
CN105397797B (zh) 具有两转一移三自由度的对称解耦并联机构
CN111940724B (zh) 一种模块化增减材制造装置及方法
CN202071067U (zh) 一种五自由度空间混联操作平台
CN205630525U (zh) 一种精密控制的可运动工作台
CN210476945U (zh) 一种注塑机用三轴机器人
CN212173777U (zh) 一种板材装卸装置

Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CX01 Expiry of patent term
CX01 Expiry of patent term

Granted publication date: 20130220