CN202742244U - XYθ精密对位平台 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种XYθ精密对位平台,包括:一XY轴移动平台,包括:一X轴移动平台,其底部设有至少一滑轨元件;一Y轴移动平台,其底部设有至少一滑轨元件;所述X轴移动平台及Y轴移动平台为层叠组合;一θ角回动平台,包括:一平台;一圆弧形齿排,其设于平台的底部;一滑轨元件,其结合至少一滑块;一蜗杆结构,其与圆弧形齿排啮合;所述滑轨元件及蜗杆结构对应设于所述XY轴移动平台的承载面;所述θ角回动平台层叠设置于XY轴移动平台承载面,且所述滑块对应结合于平台的底部;本实用新型通过控制其蜗杆结构传动该圆弧形齿排,可以精密地令该θ角回动平台进行θ角精密回动,回动角度更是可达360°,机体厚度更是只有4层,达成薄形化的产品目标。
Description
技术领域
本实用新型属于对位平台领域,特别涉及一种可以达成360°回动、薄形化、高精密度的XYθ精密对位平台。
背景技术
在各种液晶面板制造、检查设备、半导体制造、检查设置、网印设备或印刷电路板制造、检查设备中,必须使用对位平台进行对位移动等程序,而为了提高精密度,除X轴、Y轴的移动外,除以伸缩元件达成XY轴的移动外,更应具备θ角移动功能,方能达成高精密度的要求;但已知市售同性质产品中,号称具有θ角回动功能,实则仅以XXY轴或XYY轴结构间接达成,显然并不是真正的θ角回动;而其回动角度亦受到限制,例如普遍均只能达到±5°范围内;且元件复杂,层叠组合后达到6层的厚度,不符合设备元件轻薄化的要求;更进一步指出,已知结构在运转时更存在有干涉现象,实在无法达到绝对精密度;如何改善上述缺点,实有其必要性。
实用新型内容
有鉴于此,本案新型的本实用新型的目的在于提供一种XYθ精密对位平台。
为达到上述目的,本实用新型提供一种XYθ精密对位平台,所述XYθ精密对位平台包括:
一XY轴移动平台,包括:
一X轴移动平台,其底部设有至少一滑轨元件;
一Y轴移动平台,其底部设有至少一滑轨元件;
所述X轴移动平台及Y轴移动平台为层叠组合;
一θ角回动平台,包括:
一平台;
一圆弧形齿排,其设于所述平台底部;
一滑轨元件,其结合至少一滑块;
一蜗杆结构,其与所述圆弧形齿排啮合;
所述滑轨元件及蜗杆结构对应设于所述XY轴移动平台的承载面;
所述θ角回动平台层叠设置于所述XY轴移动平台的承载面,且所述滑块对应结合于所述平台的底部。
作为上述一种XYθ精密对位平台的优选方案,其中所述圆弧形齿排为圈状。
作为上述一种XYθ精密对位平台的优选方案,其中所述圆弧形齿排为弧状。
作为上述一种XYθ精密对位平台的优选方案,其中所述滑轨元件为圈状。
作为上述一种XYθ精密对位平台的优选方案,其中所述XY轴移动平台架设于一底座座面。
为达到上述目的,本实用新型还提供一种XYθ精密对位平台的θ角回动平台,所述XYθ精密对位平台的θ角回动平台包括:
一平台;
一圆弧形齿排,其设于所述平台底部;
一滑轨元件,其结合至少一滑块;
所述平台的底部对应结合于所述滑块;
且所述平台由一蜗杆结构与其圆弧形齿排啮合传动。
作为上述一种XYθ精密对位平台的θ角回动平台的优选方案,其中所述圆弧形齿排为圈状。
作为上述一种XYθ精密对位平台的θ角回动平台的优选方案,其中所述圆弧形齿排为弧状。
作为上述一种XYθ精密对位平台的θ角回动平台的优选方案,其中所述滑轨元件为圈状。
本实用新型所提供的XYθ精密对位平台,通过控制其蜗杆结构传动该圆弧形齿排,可以精密地令该θ角回动平台进行θ角精密回动,回动角度更是可达360°,机体厚度更是只有4层,达成薄形化的产品目标。
附图说明
图1为本实用新型较佳实施例的立体外观图;
图2为本实用新型较佳实施例的元件立体组合示意图;
图3为本实用新型较佳实施例的θ角回动平台结构示意图;
图4为本实用新型较佳实施例的作动示意图之一-X轴移动;
图5为本实用新型较佳实施例的作动示意图之二-Y轴移动;
图6为本实用新型较佳实施例的作动示意图之三-θ角回动;
图7为本实用新型另一实施例的元件立体组合示意图;
图8为本实用新型另一实施例的θ角回动平台结构示意图;
图9为本实用新型另一实施例的作动示意图-θ角回动。
主要附图标记:
1-XY轴移动平台;11-X轴移动平台;111-滑轨元件; 12-Y轴移动平台;121-滑轨元件;13-底座;
2-θ角回动平台;21-平台;22-圆弧形齿排;23-滑轨元件;24-滑块;25-蜗杆结构;26-伺服电动机。
具体实施方式
有关本实用新型的详细说明及技术内容,将结合附图进行说明,然而以下附图及实施例仅作为说明之用,并非用于限制本实用新型。
如图1~图3所示,本实用新型所述的XYθ精密对位平台,包括:
一XY轴移动平台1,包括:
一X轴移动平台11,其底部设有至少一滑轨元件111;
一Y轴移动平台12,其底部设有至少一滑轨元件121;
所述X轴移动平台11及Y轴移动平台12为层叠组合;
该XY轴移动平台1架设于一底座13的座面;
一θ角回动平台2,包括:
一平台21;
一圆弧形齿排22,其设于平台21的底部;
其中,
圆弧形齿排22为圈状;或
圆弧形齿排22为弧状,参照图7、图8;
一滑轨元件23,且其结合至少一滑块24;
其中,
滑轨元件23为圈状;
滑块24依平台21荷重调整其数量;
一蜗杆结构25,且其应与所述圆弧形齿排22啮合;
蜗杆结构25由一伺服电动机26传动;
所述滑轨元件24及蜗杆结构25对应设于所述XY轴移动平台1的承载面;
θ角回动平台2层叠设置于XY轴移动平台1的承载面,且所述滑块24对应结合于所述平台21的底部;
如图4所示,本实用新型以所述XY轴移动平台1中的X轴移动平台11进行X轴方向受控移动;
如图5所示,本实用新型以所述XY轴移动平台1中的Y轴移动平台12进行Y轴方向受控移动;
特别指出,则是所述θ角回动平台2通过控制其蜗杆结构25传动所述圆弧形齿排22,可以精密地令θ角回动平台2进行θ角精密回动;参照图6及图9;
本实用新型θ角回动平台2有固定运动轨迹,可配合安装光学尺,且可以独立进行回动,回动角度更是可达360°(所述圆弧形齿排22为圈状时),完全满足产业界的精密需求。
另外,本实用新型组合后的机体厚度降低至只有4层,有效达成薄形化的产品目标。
以上所述,仅为本实用新型的较佳实施例,并非因此而限定本实用新型的保护范围,举凡依据本实用新型专利精神所作的等效变化、修饰与置换等,皆应属于本实用新型专利的保护范围内。
Claims (9)
1.一种XYθ精密对位平台,其特征在于,所述XYθ精密对位平台包括:
一XY轴移动平台,包括:
一X轴移动平台,其底部设有至少一滑轨元件;
一Y轴移动平台,其底部设有至少一滑轨元件;
所述X轴移动平台及Y轴移动平台为层叠组合;
一θ角回动平台,包括:
一平台;
一圆弧形齿排,其设于所述平台底部;
一滑轨元件,其结合至少一滑块;
一蜗杆结构,其与所述圆弧形齿排啮合;
所述滑轨元件及蜗杆结构对应设于所述XY轴移动平台的承载面;
所述θ角回动平台层叠设置于所述XY轴移动平台的承载面,且所述滑块对应结合于所述平台的底部。
2.如权利要求1所述的XYθ精密对位平台,其特征在于,所述圆弧形齿排为圈状。
3.如权利要求1所述的XYθ精密对位平台,其特征在于,所述圆弧形齿排为弧状。
4.如权利要求1所述的XYθ精密对位平台,其特征在于,所述滑轨元件为圈状。
5.如权利要求1所述的XYθ精密对位平台,其特征在于,所述XY轴移动平台架设于一底座座面。
6.一种XYθ精密对位平台的θ角回动平台,其特征在于,所述XYθ精密对位平台的θ角回动平台包括:
一平台;
一圆弧形齿排,其设于所述平台底部;
一滑轨元件,其结合至少一滑块;
所述平台的底部对应结合于所述滑块;
且所述平台由一蜗杆结构与其圆弧形齿排啮合传动。
7.如权利要求6所述XYθ精密对位平台的θ角回动平台,其特征在于,所述圆弧形齿排为圈状。
8.如权利要求6所述XYθ精密对位平台的θ角回动平台,其特征在于,所述圆弧形齿排为弧状。
9.如权利要求6所述XYθ精密对位平台的θ角回动平台,其特征在于,所述滑轨元件为圈状。
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