CN202662579U - 一种硅片清洗装置 - Google Patents

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贾玉涛
宫龙飞
伍耀川
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SUZHOU XIEXIN INDUSTRIAL APPLICATION RESEARCH INSTITUTE Co Ltd
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Abstract

本实用新型公开了一种硅片清洗装置，包括圆形底座和上盖；所述圆形底座上包括一个以上用于放置硅片的扇形镂空槽、设置在所有扇形镂空槽底部的定位圆环以及位于圆形底座中心的竖直转轴；所述上盖包括空心套筒以及定位轮，所述空心套筒和定位轮之间设有连接筋；所述空心套筒与所述竖直转轴适配。本实用新型以有效的防止薄硅片在化学抛光、腐蚀、清洗等过程中从花篮中脱落，具有结构简单，操作方便的特点。

Description

一种硅片清洗装置
技术领域
本实用新型涉及硅片在加工如化学抛光、腐蚀、清洗等过程中的器材，特别是一种硅片清洗装置。
背景技术
目前，小硅片在实验室中化学抛光、腐蚀、清洗等过程一般都会用到清洗花篮固定硅片，有成熟的小硅片抛光用花篮，如：北京南轩兴达电子科技有限公司设计生产的花篮。但是传统清洗花篮有一些不足：在薄硅片化学抛光、腐蚀、清洗等过程中，由于薄硅片表面积大、重量轻，化学腐蚀时由于反应气体在硅片表面的附着，容易使硅片漂浮，从而脱离花篮的卡槽。因此，需要对传统清洗花篮进行改进。
实用新型内容
实用新型目的：本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提供一种硅片清洗装置。
为了解决上述技术问题，本实用新型公开了一种硅片清洗装置，包括圆形底座和上盖；所述圆形底座上包括一个以上用于放置硅片的扇形镂空槽、设置在所有扇形镂空槽底部的定位圆环以及位于圆形底座中心的竖直转轴；
所述上盖包括空心套筒以及定位轮，所述空心套筒和定位轮之间设有连接筋；所述空心套筒与所述竖直转轴适配。
本实用新型中，所述竖直转轴为圆台形。
本实用新型中，所述连接筋为一根以上，优选为2～50条。连接筋的轮辐形状为直线型、曲线型。
本实用新型中，上盖的直径范围为：（0.2～0.8）×圆形底座直径。上盖材质为耐强酸、碱，氢氟酸等腐蚀的PFA、PP等材质。定位轮的轮宽为2~5mm。空心套筒与所述竖直转轴接触面的长度为5~20mm。
有益效果：本实用新型以有效的防止薄硅片在化学抛光、腐蚀、清洗等过程中从花篮中脱落，具有结构简单，操作方便的特点。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型做更进一步的具体说明，本实用新型的上述和/或其他方面的优点将会变得更加清楚。
图1为本实用新型整体结构示意图。
具体实施方式
如图1所示，本实用新型公开了一种硅片清洗装置，包括圆形底座1和上盖2；所述圆形底座上包括一个以上用于放置硅片9的扇形镂空槽3、设置在所有扇形镂空槽底部的定位圆环4以及位于圆形底座中心的竖直转轴5；所述上盖包括空心套筒6以及定位轮7，所述空心套筒和定位轮之间设有连接筋8；所述空心套筒与所述竖直转轴适配。本实用新型中，所述竖直转轴为圆台形。定位圆环4用于硅片9的下部定位，定位轮7用于硅片9的上部定位。
只要将大小符合要求的硅片放在硅片清洗装置中扇形镂空槽的位置，然后将上盖按照图1所示装好，就可以很好的卡住硅片，避免了硅片在腐蚀过程中脱落，保证了整个实验过程正常的进。
本实用新型提供了一种硅片清洗装置的思路及方法，具体实现该技术方案的方法和途径很多，以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。本实施例中未明确的各组成部分均可用现有技术加以实现。

Claims (3)

1.一种硅片清洗装置，其特征在于，包括圆形底座和上盖；所述圆形底座上包括一个以上用于放置硅片的扇形镂空槽、设置在所有扇形镂空槽底部的定位圆环以及位于圆形底座中心的竖直转轴；
所述上盖包括空心套筒以及定位轮，所述空心套筒和定位轮之间设有连接筋；所述空心套筒与所述竖直转轴适配。
2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于，所述竖直转轴为圆台形。
3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于，所述连接筋为一根以上。
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