CN202643532U - 底模 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种底模,包括底座与设置在底座中心处的托台,在托台上设有与瓶底相对应的型腔,在型腔的上下两侧各设有一排与瓶底上凸点相配合的凹孔,上排中部的2~5个凹孔与下排两端的各2~5个凹孔的深度比其余凹孔的深度大0.3~0.5mm。本实用新型是采用了三点定位的原理,加深了上排中部的2~5个凹孔与下排两端的各2~5个凹孔的深度,而瓶底相应位置的凸点也高出其它凸点,高度较高的凸点插入深度较深的凹孔,使得瓶子站立更加平稳,提高了加工速度与生产效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种底模,特别涉及一种用于制瓶机的底模。
背景技术
在行列式制瓶系统中,如图1~4所示,瓶子3是放在底模4上,然后再通过输送带进行输送,在瓶底上设有两排高度相同的凸点1,而在底模型腔内对应设有两排凹孔2,瓶子放在型腔内,凸点正好插入凹孔内,实际应用中发现,瓶子不大站得稳,在输送过程中容易产生倒瓶的现象,从而降低了生产效率;究其原因,是因为存在加工误差,导致瓶子站立不平稳。
实用新型内容
本实用新型克服了上述现有技术中存在的不足,提供了一种可使瓶子站立平稳、不会出现倒瓶现象的底模。
本实用新型的技术方案是这样实现的:
一种底模,包括底座与设置在底座中心处的托台,在托台上设有与瓶底相对应的型腔,在型腔的上下两侧各设有一排与瓶底上凸点相配合的凹孔,上排中部的2~5个凹孔与下排两端的各2~5个凹孔的深度比其余凹孔的深度大0.3~0.5mm。
为了提高底模的冷却能力,作为优选,在托台四周的底座上垂直设有1~3排冷却通孔。
作为优选,在托台四周的底座上垂直设有2排冷却通孔。
采用了上述技术方案的本实用新型的有益效果是:
本实用新型是采用了三点定位的原理,加深了上排中部的2~5个凹孔与下排两端的各2~5个凹孔的深度,而瓶底相应位置的凸点也高出其它凸点,高度较高的凸点插入深度较深的凹孔,使得瓶子站立更加平稳,提高了加工速度与生产效率。
附图说明
图1现有技术中瓶子的结构示意图;
图2为图1中瓶子的瓶子结构示意图;
图3为现有技术中底模的结构示意图;
图4位图3的俯视结构示意图;
图5为实施例中瓶底的结构示意图;
图6为本实用新型底模的结构示意图;
图7为图6的俯视结构示意图。
具体实施方式
本实用新型的具体实施方式如下:
实施例:一种底模,如图5~7所示,包括底座6与设置在底座6中心处的托台7,在托台7上设有与瓶底相对应的型腔8,在型腔8的上下两侧各设有一排与瓶底上凸点1相配合的凹孔2,上排中部的4个凹孔与下排两端的各4个凹孔的深度比其余凹孔的深度大0.4mm;如图5所示,相对应的,瓶底相应位置的上排中部的4个凸点与下排两端的各4个凸点高出其它凸点0.4mm。
本实用新型利用了三点定位一个平面的原理,使得瓶子站立更加平稳,即便存在有加工误差,也不会影响。
此外,为提高底模散热能力,在托台7四周的底座6上垂直设有2排冷却通孔9。这样可以提高生产能力,解决了胴凹的问题。
Claims (3)
1.一种底模,包括底座与设置在底座中心处的托台,在托台上设有与瓶底相对应的型腔,在型腔的上下两侧各设有一排与瓶底上凸点相配合的凹孔,其特征是:上排中部的2~5个凹孔与下排两端的各2~5个凹孔的深度比其余凹孔的深度大0.3~0.5mm。
2.根据权利要求1所述的底模,其特征在于:在托台四周的底座上垂直设有1~3排冷却通孔。
3.根据权利要求2所述的底模,其特征在于:在托台四周的底座上垂直设有2排冷却通孔。
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CN2012203315156U CN202643532U (zh) | 2012-07-10 | 2012-07-10 | 底模 |
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Publications (1)
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Family
ID=47412668
Family Applications (1)
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Country Status (1)
Country | Link |
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Cited By (1)
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-
2012
- 2012-07-10 CN CN2012203315156U patent/CN202643532U/zh not_active Withdrawn - After Issue
Cited By (2)
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CN102745891A (zh) * | 2012-07-10 | 2012-10-24 | 德清才府玻璃股份有限公司 | 一种底模 |
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Legal Events
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C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
AV01 | Patent right actively abandoned |
Granted publication date: 20130102 Effective date of abandoning: 20140604 |
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RGAV | Abandon patent right to avoid regrant |