CN202640363U - 一种输送硅片的吸盘装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型属于机械领域,具体为一种输送硅片的吸盘装置。包括吸盘固定座和设置在吸盘固定座上的升降机构,所述的吸盘固定座下方设置三个吸盘脚,吸盘脚底部设置吸盘,所述的吸盘脚为中空结构,吸盘通过吸盘脚的中空结构与吸盘固定座上方的吸气管相连;所述的吸气管与真空泵相连,真空泵和升降机构分别与PLC控制器相连。本实用新型在吸盘固定座下方设置三只吸盘脚,并且吸盘脚的高度可调节,因此,能够方便地使硅片与吸盘调节在同一水平面上,使之在吸合移动过程中稳定地吸住硅片,保证了硅片在移动过程中的安全性;将该吸盘装置用于硅片的自动装片设备上,能够既安全又快速的完成硅片的自动装片。

Description

一种输送硅片的吸盘装置
技术领域
本实用新型属于机械领域,具体为一种输送硅片的吸盘装置。
背景技术
目前的硅片装片都要通过人工装入篮具内,这样既容易对硅晶片造成人为污染,又增加工人的劳动强度,无法提高工作效率,因此设计一种能够提供工作效率、无污染输送硅片的装置是非常必要的。
实用新型内容
针对现有技术中存在的问题,本实用新型的目的在于提供一种输送硅片的吸盘装置的技术方案。
所述的一种输送硅片的吸盘装置,包括吸盘固定座和设置在吸盘固定座上的升降机构,所述的吸盘固定座下方设置三个吸盘脚,吸盘脚底部设置吸盘,所述的吸盘脚为中空结构,吸盘通过吸盘脚的中空结构与吸盘固定座上方的吸气管相连;所述的吸气管与真空泵相连,真空泵和升降机构分别与PLC控制器相连。
所述的一种输送硅片的吸盘装置,所述的升降机构为气动升降机构或螺旋式升降机构。
所述的一种输送硅片的吸盘装置,所述的气动升降机构由气缸和活塞构成相配合的升降部件;所述的螺旋式升降机构由丝杠和螺母构成相配合的升降部件。
所述的一种输送硅片的吸盘装置,所述的吸盘脚上配合设置高度调节杆,该高度调节杆为中空结构。
本实用新型在吸盘固定座下方设置三只吸盘脚,并且吸盘脚的高度可调节,因此,能够方便地使硅片与吸盘调节在同一水平面上,使之在吸合移动过程中稳定地吸住硅片,保证了硅片在移动过程中的安全性;将该吸盘装置用于硅片的自动装片设备上,能够既安全又快速的完成硅片的自动装片。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图中:1-吸盘固定座;2-硅片;3-升降气缸;4-吸盘脚;5-吸盘;6-高度调节杆;7-吸气管。
具体实施方式
下面结合说明书附图对本实用新型做进一步说明:
一种输送硅片的吸盘装置,包括吸盘固定座1和设置在吸盘固定座1上的升降机构,升降机构为气动升降机构或螺旋式升降机构,其中,气动升降机构由气缸和活塞构成相配合的升降部件,螺旋式升降机构由丝杠和螺母构成相配合的升降部件,本实用新型采用升降气缸3与活塞配合的方式;在吸盘固定座1下方设置三个吸盘脚4,也可以更多,但一般三个脚最为稳妥,吸盘脚4底部设置吸盘5,吸盘脚4为中空结构,吸盘5通过吸盘脚4的中空结构与吸盘固定座1上方的吸气管7相连,为了能够调整吸盘5与硅片2的高度一致,可以在吸盘脚4上配合设置中空结构的高度调节杆6;吸气管7与真空泵相连,靠真空泵提供负压,使吸盘5与硅片2紧密吸合,真空泵和升降机构分别与PLC控制器相连,通过PLC控制器控制真空泵和升降机构的动作关系。
使用时,通过升降气缸带动吸盘固定座升降,从而带动吸盘升降,当吸盘接触到硅片时,真空泵工作,在吸气管中产生负压,三只吸盘同时吸住硅片,然后提升升降气缸,将硅片移动到所需要的位置,真空泵停止工作,吸气管释放负压,吸盘松开硅片,从而达到输送硅片的目的。
本实用新型在吸盘固定座下方设置三只吸盘脚,并且吸盘脚的高度可调节,因此,能够方便地使硅片与吸盘调节在同一水平面上,使之在吸合移动过程中稳定地吸住硅片,保证了硅片在移动过程中的安全性;将该吸盘装置用于硅片的自动装片设备上,能够既安全又快速的完成硅片的自动装片。

Claims (4)

1.一种输送硅片的吸盘装置,包括吸盘固定座和设置在吸盘固定座上的升降机构,其特征在于所述的吸盘固定座下方设置三个吸盘脚,吸盘脚底部设置吸盘,所述的吸盘脚为中空结构,吸盘通过吸盘脚的中空结构与吸盘固定座上方的吸气管相连;所述的吸气管与真空泵相连,真空泵和升降机构分别与PLC控制器相连。
2.根据权利要求1所述的一种输送硅片的吸盘装置,其特征在于所述的升降机构为气动升降机构或螺旋式升降机构。
3.根据权利要求2所述的一种输送硅片的吸盘装置,其特征在于所述的气动升降机构由气缸和活塞构成相配合的升降部件;所述的螺旋式升降机构由丝杠和螺母构成相配合的升降部件。
4.根据权利要求1所述的一种输送硅片的吸盘装置,其特征在于所述的吸盘脚上配合设置高度调节杆,该高度调节杆为中空结构。
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