CN202610323U - 气体喷洒模块 - Google Patents
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- 238000005507 spraying Methods 0.000 title abstract 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 47
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 67
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 96
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012797 qualification Methods 0.000 description 1
- 230000007306 turnover Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
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Abstract
一种气体喷洒模块,包括喷洒头主体、供气板、气体分布板以及气体喷洒板。喷洒头主体具有气体喷洒面和与其相对的进气面。供气板设于进气面,具有至少一第一气孔。气体分布板设于气体喷洒面与进气面之间的喷洒头主体内,具有多个第二气孔。气体喷洒板设于气体喷洒面,具有多个第三气孔。供气板与气体分布板的间距、气体分布板与气体喷洒板的间距介于7-9mm。第一气孔与第二气孔数量之比例、第二气孔与第三气孔数量的比例介于1∶4-1∶100。第二气孔的数量介于900个-1050个。第二气孔是沿气体分布板的表面上的两垂直方向呈45度角对称分布。
Description
技术领域
本实用新型是有关于一种气体喷洒模块,且特别是有关于一种具有气体分布板,能使气体更均匀地喷出的气体喷洒模块。
背景技术
随着镀膜工艺的发展,在化学气相沉积的反应过程中,如何将气体均匀地喷洒到腔室中便成为重要的问题。对此,气体喷洒模块(gas showermodule),特别是气体喷洒头(gas showerhead)扮演了重要的角色。
针对气体喷洒模块或气体喷洒头的设计与结构,已经有多种专利提出。美国专利US 7138336B2与美国专利US 7641939B2采用喷洒头进气、腔室侧边抽气的方式控制气体进出。美国专利US 6921437揭露一种可预先混合先驱气体的气体分布模块,但不适用于先驱气体不可预先混合的工艺。美国专利US 6478872揭露一种将气体输送至腔室的方法,以及用于输送气体的喷洒头。然而该设计的构造复杂,且制造成本昂贵。
实用新型内容
本实用新型提供一种气体喷洒模块,相较于已知的气体喷洒模块可更均匀地喷洒气体。
本实用新型提出一种气体喷洒模块,包括喷洒头主体、供气板、气体分布板以及气体喷洒板。喷洒头主体具有气体喷洒面与相对气体喷洒面的进气面。供气板设于喷洒头主体的进气面,其中供气板具有至少一第一气孔。气体分布板设于气体喷洒面与进气面之间的喷洒头主体内,其中气体分布板具有多个第二气孔。气体喷洒板设于喷洒头主体的气体喷洒面,其中气体喷洒板具有多个第三气孔,使一气体经由供气板的第一气孔流入喷洒头主体内,并经气体分布板的第二气孔扩散至气体喷洒板,再自第三气孔喷出。供气板与气体分布板的间距在7mm-9mm之间。气体分布板与气体喷洒板的间距在7mm-9mm之间。第一气孔的数量与第二气孔的数量的比例在1∶4-1∶100之间。第二气孔的数量与第三气孔的数量的比例在1∶4-1∶100之间。第二气孔的数量在900个-1050个之间。第二气孔是沿气体分布板的表面上的两垂直方向呈45度角对称分布。
在本实用新型的一实施例中,上述的第一气孔与第二气孔非相对设置。
在本实用新型的一实施例中,上述的第二气孔与第三气孔非相对设置。
在本实用新型的一实施例中,上述的供气板与气体分布板互相平行。
在本实用新型的一实施例中,上述的气体分布板与气体喷洒板互相平行。
在本实用新型的一实施例中,上述的第一气孔的直径在1.5mm-9mm之间。
在本实用新型的一实施例中,上述的第二气孔的直径在1.5mm-9mm之间。
在本实用新型的一实施例中,上述的第三气孔的直径在1.5mm-9mm之间。
本实用新型的有益效果是:相较于已知的气体喷洒模块可更均匀地喷洒气体。
附图说明
为让本实用新型的上述特征能更明显易懂,下文特举实施例,并配合附图作详细说明如下,其中:
图1是依照本实用新型一实施例所绘示的气体喷洒模块示意图。
图2A是依照本实用新型一实施例所绘示的进气板俯视图。
图2B是依照本实用新型一实施例所绘示的气体分布板俯视图。
图2C是依照本实用新型一实施例所绘示的气体喷洒板俯视图。
图3A是依照本实用新型另一实施例所绘示的进气板俯视图。
图3B是依照本实用新型另一实施例所绘示的气体分布板俯视图。
图3C是依照本实用新型另一实施例所绘示的气体喷洒板俯视图。
具体实施方式
图1是依照本实用新型一实施例所绘示的气体喷洒模块的示意图。请参照图1。气体喷洒模块100包括喷洒头主体102、供气板104、气体分布板106以及气体喷洒板108。喷洒头主体102具有气体喷洒面102a以及相对气体喷洒面102a的进气面102b。供气板104设置于进气面102b,其中供气板104具有第一气孔104a。气体分布板106设置于喷洒头主体102内位于气体喷洒面102a与进气面102b之间,其中气体分布板106具有多个第二气孔106a。气体喷洒板108设置于气体喷洒面102a,其中气体喷洒板108具有多个第三气孔108a。
在本实施例中,供气板104与气体分布板106的间距D1在7mm-9mm之间,气体分布板106与气体喷洒板108的间距D2在7mm-9mm之间。第一气孔104a的数量与第二气孔106a的数量的比例在1∶4-1∶100之间,第二气孔106a的数量与第三气孔108a的数量的比例在1∶4-1∶100之间。第二气孔的数量在900个-1050个之间。第二气孔是沿气体分布板106的表面上的两垂直方向呈45度角对称分布。图1以1∶4∶16呈现第一气孔104a、第二气孔106a以及第三气孔108a的数量的比例,其仅为例示作用,并非用以限制本实用新型。供气板104与气体分布板106例如互相平行。气体分布板106与气体喷洒板108例如互相平行。
图2A至图2C分别是进气板104、气体分布板106及气体喷洒板108的俯视图。请一并参照图2A至图2C。
在本实施例中,进气板104的第一气孔104a与气体分布板106的第二气孔106a是为彼此错位、并非相对配置,且气体分布板106的第二气孔106a与气体喷洒板108的第三气孔108a亦为彼此错位、并非相对配置。在本实施例中,第一气孔104a的直径R1在1.5mm-9mm之间,第二气孔106a的直径R2在1.5mm-9mm之间,第三气孔108a的直径R3在1.5mm-9mm之间。如图2A至图2C所示,在本实施例中,R1>R2>R3,而在本实用新型另一实施例中,R1>R2=R3,如图3A至图3C所示;但以上仅为例示作用而已,并非用以限制本实用新型,在本实用新型其他实施例中,R1、R2与R3的相对大小也可与前述的不同。在前述各实施例中,供气板104、气体分布板106及气体喷洒板108均为圆形板,但本实用新型并不以此为限,其形状可视需求适当调整。
本实用新型的气体喷洒模块还可参考中国台湾专利公开号第201021095号(专利名称:气体喷洒模块)所揭露的气体分布喷洒模块的部份特征,在此以引用的方式将该申请案并入本文之中。例如在图1的喷洒头主体102还可具有多个凹槽,且凹槽内可容置密封元件(未绘示),如为O型环(O-ring)。上述气体喷洒模块100例如可使用螺丝钉及螺孔(未绘示)将供气板102、气体分布板106以及气体喷洒板108固定于喷洒头主体102的凹槽,并利用密封元件(未绘示)达到气密效果。另外,例如还可以在图1的供气板102、气体分布板104以及气体喷洒板106中各开设至少一冷却通道(未绘示),以将供气板102、气体分布板104以及气体喷洒板106维持于预定温度。
本实用新型的气体喷洒模块具有非相对设置的第一气孔、第二气孔以及第三气孔,所以气体由第一气孔进入喷洒头主体后,先在进气板与气体分布板之间的区域扩散,达到较均匀的分布后,才通过第二气孔进入气体分布板与气体喷洒板之间的区域,并且在此区域再次扩散,最后由第三气孔喷出。这种设计使最后喷出的气体的浓度分布更为均匀,可提升工艺的良率。在本实用新型的设计中,最后喷出的气体均匀度受许多因素影响,例如进气板与气体分布板的间距、气体分布板与气体喷洒板的间距、第一气孔、第二气孔以及第三气孔的直径、各气孔的数量比例等等,对此,本实用新型还提出进一步限定,以优化喷出气体的均匀度。
虽然本实用新型已以实施例揭露如上,然其并非用以限定本实用新型,任何所属技术领域中具有通常知识者,在不脱离本实用新型的精神和范围内,当可作些许的更动与润饰,故本实用新型的保护范围当视本实用新型权利要求范围所界定的为准。
Claims (8)
1.一种气体喷洒模块,其特征在于,包括:
一喷洒头主体,具有一气体喷洒面与相对该气体喷洒面的一进气面;
一供气板,设于该喷洒头主体的该进气面,其中该供气板具有至少一第一气孔;
一气体分布板,设于该气体喷洒面与该进气面之间的该喷洒头主体内,其中该气体分布板具有多个第二气孔;以及
一气体喷洒板,设于该喷洒头主体的该气体喷洒面,其中该气体喷洒板具有多个第三气孔,使一气体经由该供气板的该第一气孔流入该喷洒头主体内,并经该气体分布板的所述第二气孔扩散至该气体喷洒板,再自所述第三气孔喷出,
该供气板与该气体分布板的间距在7mm-9mm之间,
该气体分布板与该气体喷洒板的间距在7mm-9mm之间,
该第一气孔的数量与所述第二气孔的数量的比例在1∶4-1∶100之间,
所述第二气孔的数量与所述第三气孔的数量的比例在1∶4-1∶100之间,
所述第二气孔的数量在900个-1050个之间,
所述第二气孔是沿该气体分布板的表面上的两垂直方向呈45度角对称分布。
2.如权利要求1所述的气体喷洒模块,其特征在于,其中该第一气孔与所述第二气孔为彼此错位、并非相对设置。
3.如权利要求1所述的气体喷洒模块,其特征在于,其中所述第二气孔与所述第三气孔为彼此错位、并非相对设置。
4.如权利要求1所述的气体喷洒模块,其特征在于,其中该供气板与该气体分布板互相平行。
5.如权利要求1所述的气体喷洒模块,其特征在于,其中该气体分布板与该气体喷洒板互相平行。
6.如权利要求1所述的气体喷洒模块,其特征在于,其中该第一气孔的直径在1.5mm-9mm之间。
7.如权利要求1所述的气体喷洒模块,其特征在于,其中各该第二气孔的直径在1.5mm-9mm之间。
8.如权利要求1所述的气体喷洒模块,其特征在于,其中各该第三气孔的直径在1.5mm-9mm之间。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW100224936U TWM430478U (en) | 2011-12-29 | 2011-12-29 | Gas shower module |
TW100224936 | 2011-12-29 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN202610323U true CN202610323U (zh) | 2012-12-19 |
Family
ID=46722313
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN 201220176888 Expired - Lifetime CN202610323U (zh) | 2011-12-29 | 2012-04-24 | 气体喷洒模块 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN202610323U (zh) |
TW (1) | TWM430478U (zh) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103305812A (zh) * | 2013-06-08 | 2013-09-18 | 上海和辉光电有限公司 | 一种上电极装置 |
CN105148762A (zh) * | 2014-05-30 | 2015-12-16 | 盛美半导体设备(上海)有限公司 | 均匀气流装置 |
CN110743402A (zh) * | 2019-11-20 | 2020-02-04 | 中煤科工集团重庆研究院有限公司 | 可调节气体均布装置 |
CN110764368A (zh) * | 2018-07-27 | 2020-02-07 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 物镜防污染装置 |
CN110965042A (zh) * | 2019-12-03 | 2020-04-07 | 巩义市泛锐熠辉复合材料有限公司 | 一种梯度SiC涂层的制备方法 |
CN110965123A (zh) * | 2019-12-03 | 2020-04-07 | 巩义市泛锐熠辉复合材料有限公司 | 一种致密单晶型SiC涂层的制备方法 |
CN111214931A (zh) * | 2018-11-23 | 2020-06-02 | 致茂电子(苏州)有限公司 | 冷凝系统 |
-
2011
- 2011-12-29 TW TW100224936U patent/TWM430478U/zh not_active IP Right Cessation
-
2012
- 2012-04-24 CN CN 201220176888 patent/CN202610323U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103305812A (zh) * | 2013-06-08 | 2013-09-18 | 上海和辉光电有限公司 | 一种上电极装置 |
CN105148762A (zh) * | 2014-05-30 | 2015-12-16 | 盛美半导体设备(上海)有限公司 | 均匀气流装置 |
CN110764368A (zh) * | 2018-07-27 | 2020-02-07 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 物镜防污染装置 |
CN111214931A (zh) * | 2018-11-23 | 2020-06-02 | 致茂电子(苏州)有限公司 | 冷凝系统 |
CN111214931B (zh) * | 2018-11-23 | 2022-05-13 | 致茂电子(苏州)有限公司 | 冷凝系统 |
CN110743402A (zh) * | 2019-11-20 | 2020-02-04 | 中煤科工集团重庆研究院有限公司 | 可调节气体均布装置 |
CN110965042A (zh) * | 2019-12-03 | 2020-04-07 | 巩义市泛锐熠辉复合材料有限公司 | 一种梯度SiC涂层的制备方法 |
CN110965123A (zh) * | 2019-12-03 | 2020-04-07 | 巩义市泛锐熠辉复合材料有限公司 | 一种致密单晶型SiC涂层的制备方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
TWM430478U (en) | 2012-06-01 |
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---|---|---|---|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CX01 | Expiry of patent term | ||
CX01 | Expiry of patent term |
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