CN202575410U

CN202575410U - 基板处理装置

Info

Publication number: CN202575410U
Application number: CN 201220174467
Authority: CN
Inventors: 申屠江民; 许亮; 胡杰飞; 郑伟庆; 乐卫文; 张平; 施久林; 陶伟福
Original assignee: ZHEJIANG JINLEY COATING CO Ltd
Current assignee: Zhejiang Lai Bao Technology Co Ltd
Priority date: 2012-04-16
Filing date: 2012-04-16
Publication date: 2012-12-05
Anticipated expiration: 2022-04-16

Abstract

本实用新型涉及触控显示技术领域，尤其涉及一种基板处理装置。该基板处理装置包括第一处理单元、第二处理单元及传送单元，所述基板处理装置用于处理一包括沿第一方向的第一边缘和第二边缘、沿第二方向的第三边缘和第四边缘、以及第一表面的基板，所述第一处理单元用于处理所述第一边缘和第二边缘，所述第二处理单元用于处理所述第三边缘和第四边缘，所述传送单元至少包括第一模块、第二模块及第三模块，所述第一模块、第二模块及第三模块分别与所述基板的第一表面作用，分别形成第一作用点、第二作用点及第三作用点，且所述第一作用点、第二作用点及第三作用点中相邻两个之间具有相同的间距。

Description

基板处理装置

技术领域

本实用新型涉及触控显示技术领域，尤其涉及一种基板处理装置。

背景技术

在手机上应用电容式触摸屏已成为当今社会之主流趋势，电容式触摸屏作为一种新型的人机交互界面，逐步被广泛地应用于各种数字信息系统上，从小型产品如手机、PDA、数码产品、e-Book，到中型产品如车载导航仪、游戏机、家用电器、工控仪器，再到大型产品如POS系统、公共查询和自助系统、便携电脑、医疗仪器以及电视新闻节日中常用的触摸式PDP上都可以看到电容式触摸屏产品。因此，电容式触摸屏具有广泛的市场前景。

电容式触摸屏通常由基板和形成于基板上的触控感应层构成。目前，行业中使用的多为玻璃基板，而玻璃基板供应商供应的玻璃基板的尺寸通常较大，且规格统一。为了满足不同电子产品对电容式触摸屏的尺寸要求，在将玻璃基板供应商提供的玻璃基板应用于加工电容式触摸屏之前，通常需要对所述玻璃基板进行切割。同时，玻璃基板在未经过处理之前，其边缘通常较为锋利，而该锋利的边缘很可能对电容式触摸屏的加工人员造成损伤。因此，在切割完所述玻璃基板后，通常还需要对所述玻璃基板的边缘进行处理，业界通常的处理是对玻璃基板的边缘进行打磨，使其边缘变得圆润。业界对所述玻璃基板的上述切割、打磨处理，通常是流水作业。但是，由于玻璃基板的长宽尺寸通常不一致，在打磨完长方向的玻璃基板的边缘后，在对所述玻璃基板的宽方向的边缘进行打磨之前，需要将玻璃基板从一条流水线转移至另一条流水线上。现有技术是通过采用一种玻璃基板的吸附装置，吸附住玻璃基板所呈矩形的对角线上的两个点，然后将所述玻璃基板提取，然后放置于另一条流水线上。

然而，随着人们对电子产品的薄型化要求，对生产电子产品的玻璃基板的厚度要求也越来越高，通常为0.4毫米。如此薄的玻璃基板在被上述吸附装置吸附后提起的过程中，其中心处容易因重力原因产生向下的翘曲，当基板尺寸渐渐变大的同时，其翘曲也越厉害。当所述玻璃基板的翘曲达到一定程度，会与所述流水线上的传送装置产生刮擦，对所述玻璃基板的表面造成损伤。

实用新型内容

有鉴于此，有必要提供一种有效防止基板刮伤、破裂的基板处理装置。

一种基板处理装置包括第一处理单元、第二处理单元及传送单元，所述基板处理装置用于处理一包括沿第一方向的第一边缘和第二边缘、沿第二方向的第三边缘和第四边缘、以及第一表面的基板，所述第一处理单元用于处理所述第一边缘和第二边缘，所述第二处理单元用于处理所述第三边缘和第四边缘，所述传送单元至少包括第一模块、第二模块及第三模块，所述第一模块、第二模块及第三模块分别与所述基板的第一表面作用，分别形成第一作用点、第二作用点及第三作用点，且所述第一作用点、第二作用点及第三作用点中相邻两个之间具有相同的间距。

本发明所述的基板处理装置中，所述基板处理装置还包括位移模块，所述位移模块至少包括垂直位移子模块，所述垂直位移子模块用于将所述第一模块、第二模块及第三模块垂直移动一第一位移。

本发明所述的基板处理装置中，所述位移模块还包括水平位移子模块，所述水平位移子模块用于将所述第一模块、第二模块及第三模块水平移动一第二位移。

本发明所述的基板处理装置中，所述基板处理装置还包括第四模块、第五模块及第六模块，其所述第四模块、第五模块及第六模块分别与所述基板的第一表面作用，分别形成第四作用点、第五作用点及第六作用点，所述第一作用点、第二作用点、第三作用点、第四作用点、第五作用点及第六作用点中任意相邻两个之间具有相同的间距。

本发明所述的基板处理装置中，所述第一处理单元和第二处理单元具有独立的流水作业系统，或者共用同一套流水作用系统。

本发明所述的基板处理装置中，所述基板为透明的玻璃材料制成，所述第一方向为所述基板的长方向，所述第二方向为所述基板的宽方向。

本发明所述的基板处理装置中，第一处理单元对所述第一边缘和第二边缘的处理为磨边，第二处理单元对所述第三边缘和第四边缘的处理为磨边。

本发明所述的基板处理装置中，所述第一边缘、第二边缘、第三边缘及第四边缘均与所述第一表面相交。

本发明所述的基板处理装置中，所述第一作用点与所述第一边缘、第二边缘、第三边缘、第四边缘之间的距离最短的为第一间距，第二作用点与所述第一边缘、第二边缘、第三边缘、第四边缘之间的距离最短的为第二间距，第三作用点与所述第一边缘、第二边缘、第三边缘、第四边缘之间的距离最短的为第三间距，且所述第一间距、第二间距、第三间距相等。

本发明提供的基板处理装置中，通过设定所述第一模块、第二模块及第三模块，且使所述第一模块、第二模块及第三模块之间具有相同间距，进而可有效降低所述基板的翘曲度，防止所述基板与所述第一处理单元、第二处理单元发生刮擦，进而防止所述基板出现损伤。

附图说明

下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明，附图中：

图1为本实用新型提供的一较佳实施方式的基板处理装置的模块示意图。

图2为图1所示的基板处理装置处理的基板示意图。

具体实施方式

为说明本实用新型提供的基板处理装置，以下结合说明书附图进行详细阐述。

请同时参阅图1和图2，其为本实用新型提供的一较佳实施方式的基板处理装置的模块示意图及图1所示的基板处理装置处理的基板示意图。所述基板处理装置100用于处理一基板200，其包括第一处理单元110、传送单元120、第二处理单元130。所述基板200具有沿第一方向201的第一边缘210和第二边缘220、沿第二方向203的第三边缘230和第四边缘240。在本实施方式中，所述第一方向201为所述基板200的长方向，所述第二方向为所述基板200的宽方向，所述基板200由透明的玻璃材料制成。

所述第一处理单元110用于处理所述基板200沿第一方向201的第一边缘210和第二边缘220，所述第二处理单元130用于处理所述基板200沿所述第二方向203的第三边缘230和第四边缘240，所述第一处理单元110和第二处理130分别具有独立的流水作业系统或者共用一套流水作业系统。所述传送单元120用于将经过所述第一处理单元110处理过的基板200从第一处理单元110传送至第二处理单元130。在本实施方式中，所述第一处理单元110对所述第一边缘210和第二边缘220的处理为磨边，所述第二处理单元130对所述第三边缘230和第四边缘240的处理亦为磨边。

所述基板200还包括第一表面205，所述第一表面205分别与所述第一边缘210、第二边缘220、第三边缘230及第四边缘240相交。所述传送单元120至少包括与所述基板200的第一表面205作用的第一模块(图中未示出)、第二模块(图中未示出)、第三模块(图中未示出)。所述第一模块、第二模块、第三模块分别与所述第一表面205作用，并在所述第一表面205上分别形成第一作用点205a、第二作用点205b、第三作用点205c，且所述第一作用点205a、第二作用点205b、第三作用点205c两两之间的具有相同的间距，即所述第一作用点205a、第二作用点205b、第三作用点205c之间的连线在所述第一表面205上形成一等边三角形；所述第一作用点205a与所述第一边缘210、第二边缘220、第三边缘230、第四边缘240之间的距离最短的为第一间距，第二作用点205b与所述第一边缘210、第二边缘220、第三边缘230、第四边缘240之间的距离最短的为第二间距，第三作用点205c与所述第一边缘210、第二边缘220、第三边缘230、第四边缘240之间的距离最短的为第三间距，且所述第一间距、第二间距、第三间距相等。在本实施方式中，所述第一表面205为一光滑的平面，所述第一模块、第二模块、第三模块均为真空吸附模块，所述传送单元120通过所述第一模块、第二模块、第三模块将所述基板200吸附住。

在其他实施方式中，所述传送单元120还可以包括第四、第五、第六模块，且其分别与所述基板200的第一表面205作用形成第四、第五、第六作用点，且所述第一、第二、第三、第四、第五、第六作用点中的任意两个相邻作用点之间的间距相同。

所述传送单元120至少还包括位移模块(图中未示出)，所述位移模块包括水平位移子模块和垂直位移子模块。所述垂直位移子模块用于将所述第一模块、第二模块及第三模块垂直移动一第一位移，所述水平位移子模块用于将所述第一模块、第二模块及第三模块水平移动一第二位移。

当所述第一模块、第二模块及第三模块吸附住所述基板200后，所述垂直位移子模块将所述第一模块、第二模块及第三模块垂直向上移动所述第一位移，进而使所述基板200垂直向上移动所述第一位移，使所述基板200与所述第一处理单元110分离。所述水平位移子模块在所述垂直位移子模块将所述基板200垂直向上移动所述第一位移后，将所述第一模块、第二模块及第三模块水平移动所述第二位移，进而使所述基板200水平移动所述第二位移，使所示基板200从第一处理单元110转移至所示第二处理单元130。所述垂直位移子模块在所述水平位移子模块将所述基板200移动所述第二位移后，将所述第一模块、第二模块及第三模块垂直向下移动所述第一位移，进而使所述基板200位于所述第二处理单元130上，所述第一模块、第二模块及第三模块结束与所述基板200的作用。然后，所述垂直位移子模块将所述第一模块、第二模块及第三模块再次垂直向上移动所述第一位移，所述水平位移子模块在所述垂直位移子模块完成上述垂直向上移动后，将所述第一模块、第二模块及第三模块水平移动所述第二位移，使所述第一模块、第二模块及第三模块重新恢复到初始位置。

以上为本实用新型提供的一种基板处理装置的较佳实施方式，并不能理解为对本实用新型权利保护范围的限制，本领域的技术人员应该知晓，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可做多种改进或替换，所有的该等改进或替换都应该在本实用新型的权利保护范围内，即本实用新型的权利保护范围应以权利要求为准。

Claims

1.一种基板处理装置，包括第一处理单元、第二处理单元及传送单元，所述基板处理装置用于处理一包括沿第一方向的第一边缘和第二边缘、沿第二方向的第三边缘和第四边缘、以及第一表面的基板，所述第一处理单元用于处理所述第一边缘和第二边缘，所述第二处理单元用于处理所述第三边缘和第四边缘，所述传送单元至少包括第一模块、第二模块及第三模块，所述第一模块、第二模块及第三模块分别与所述基板的第一表面作用，分别形成第一作用点、第二作用点及第三作用点，且所述第一作用点、第二作用点及第三作用点中相邻两个之间具有相同的间距。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：所述基板处理装置还包括位移模块，所述位移模块至少包括垂直位移子模块，所述垂直位移子模块用于将所述第一模块、第二模块及第三模块垂直移动一第一位移。

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于：所述位移模块还包括水平位移子模块，所述水平位移子模块用于将所述第一模块、第二模块及第三模块水平移动一第二位移。

4.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于：所述基板处理装置还包括第四模块、第五模块及第六模块，其所述第四模块、第五模块及第六模块分别与所述基板的第一表面作用，分别形成第四作用点、第五作用点及第六作用点，所述第一作用点、第二作用点、第三作用点、第四作用点、第五作用点及第六作用点中任意相邻两个之间具有相同的间距。

5.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于：所述第一处理单元和第二处理单元具有独立的流水作业系统，或者共用同一套流水作用系统。

6.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：所述基板为透明的玻璃材料制成，所述第一方向为所述基板的长方向，所述第二方向为所述基板的宽方向。

7.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：所述第一处理单元对所述第一边缘和第二边缘的处理为磨边，所述第二处理单元对所述第三边缘和第四边缘的处理为磨边。

8.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：所述第一边缘、第二边缘、第三边缘及第四边缘均与所述第一表面相交。

9.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：所述第一作用点与所述第一边缘、第二边缘、第三边缘、第四边缘之间的距离最短的为第一间距，第二作用点与所述第一边缘、第二边缘、第三边缘、第四边缘之间的距离最短的为第二间距，第三作用点与所述第一边缘、第二边缘、第三边缘、第四边缘之间的距离最短的为第三间距，且所述第一间距、第二间距、第三间距相等。