CN202238797U - 一种触控屏溢胶清除设备的结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种触控屏溢胶清除设备的结构，其特征在于：它包括：一工作台，具有一水平表面；一旋座，旋转配合于工作台表面，具有可水平固定触控屏的一底板治具；以及一擦除装置，具有可在工作台表面上三维活动的伺服头；该伺服头下方固定软质材料的一擦拭块，该擦拭块底部具有可同时配合触控屏其溢胶区域的横截面形状和沿其擦拭方向逐渐升高的擦拭面；擦拭块附近还具有用于喷洒有机溶剂的一喷口；其中，擦拭块的移动区域覆盖旋座360°旋转过程中触控屏的所有溢胶区域转至某相同一侧产生的最大范围。擦拭块可编程地在水平方向受力均匀地擦拭溢胶区域，并且在旋座的多位旋转配合下快速处理触控屏的每一边溢胶区域，其速度快，一致性好，也不会刮伤油墨。

Description

一种触控屏溢胶清除设备的结构

技术领域

本实用新型涉及一种有机胶料的清洗设备，具体是一种触控屏溢胶清除设备。

背景技术

电容式触控屏常见的结构，具有采用液态胶相互粘接的感应电极板与玻璃盖板形态，并且，盖板与感应电极板粘接的边缘呈台阶状。粘接过程中，胶料会在台阶形态附近产生溢胶30所覆盖的区域，见图1。产品成型前需将该溢胶30清除掉。

现在基本上都采用手工擦拭，速度慢，产能低，特别地，在玻璃盖板11朝向感应电极板10的一面具有油墨12，手工擦拭时难以保持恒定的的法向压力，所以容易产生过大压力下的刮擦，以至于损伤油墨12。基于这些问题，如何设计自动擦拭的设备，以至于可以具有较短的工艺时间，同时精度高，一致性好且不会损伤油墨。

实用新型内容

针对以上自动擦拭设备的设计需求，本实用新型提出一种触控屏溢胶清楚设备的结构，其技术方案如下：

一种触控屏溢胶清除设备的结构，它包括：

一工作台，具有一水平表面；

一旋座，旋转配合于所述工作台表面，具有可水平固定触控屏的一底板治具；以及

一擦除装置，设置于所述工作台，具有可在所述工作台表面上三维活动的伺服头；该伺服头下方固定软质材料的一擦拭块，该擦拭块底部具有可同时配合所述触控屏其溢胶区域的横截面形状和沿其擦拭方向逐渐升高的擦拭面；所述擦除装置还具有用于喷洒有机溶剂的一喷口，该喷口固定于所述擦拭块附近；

其中，所述擦拭块的移动区域覆盖所述旋座360°旋转过程中所述触控屏的所有溢胶区域转至某相同一侧产生的最大范围。

作为本实用新型技术方案的优选者，可以有如下方面的改进：

上一个方案基础上，所述擦拭块通过一可改变其高度的调节器固定于所述伺服头。

上一个方案基础上，所述伺服头还包括可随所述擦拭块移动而吸入所述触控屏溢胶区域内胶料的一吸胶口。

上一个方案基础上，旋座还包括可真空吸附固定所述触控屏的一吸附装置。以上所有方案基础上，所述擦除装置包括：

X轨，平行固定于所述工作台水平表面；其上滑动配合一X滑块；

Y轨，固定于所述X滑块，其延伸方向与所述工作台平行，并与所述X轨垂直；其上滑动配合一Y滑块；以及

Z轨，竖直状态固定于所述Y滑块；

其中，所述喷口固定于所述Y滑块，所述伺服头垂直滑动配合于所述Z轨。

带有调节器方案的基础上，所述调节器为千分尺形态的微调结构。

本实用新型带来的有益效果是：

1.擦除装置的擦拭块可以可编程地在水平方向受力均匀地擦拭溢胶区域，并且在旋座的多位旋转配合下快速处理触控屏的每一边溢胶区域，其速度快，一致性好，也不会产生不稳定的法向压力以至于刮伤油墨。

2.吸胶口可以及时清理已擦拭掉的胶料，保证工作台面和产品的清洁。

3.带有调节器的伺服头便于调节以配合多种不同厚度规格的产品，具有较好的适用性。

附图说明

以下结合附图实施例对本实用新型作进一步说明：

图1是常见电容触控屏溢胶状态及区域示意；

图2是本实用新型实施例立体图；

图3是图2实施例顶视图，带有伺服头的运动方向示意；

图4是图2的正视图；

图5是图2擦拭块的正视细节；

图6是图2实施例中擦拭块66附近的左视示意图，展示了擦拭块66的横截面形状特点。

具体实施方式

图1是常见电容触控屏溢胶状态及区域示意；触控屏70的玻璃盖板11与感应电极板10之间具有胶层20，不可避免地，在粘接过程中玻璃盖板11与感应电极板10相互压迫下，或者因为工艺原因，胶层20必然会有溢胶30，由于感应电极板10与玻璃盖板11构成台阶的形态，所以，溢胶30会具有玻璃盖板面部分33、感应电极板侧面部分31和感应电极板顶面部分32，此三处具有胶料的痕迹，必须全部清除；如果按照传统的人工擦拭，可以沿着溢胶30的位置将所有溢出的胶料擦拭干净；但人工擦拭有其局限，一方面是速度，另一方面，在玻璃盖板11朝向感应电极板10的一面，常常都有油墨层12，，由于人工擦拭溢胶30时，各方面受力大小、方向不一定均匀，擦拭效果不好，甚至有可能会损伤油墨层12。

实施例：

图2是本实用新型实施例立体图，图3是图2实施例顶视图，带有伺服头的运动方向示意，图4是图2的正视图；结合此三图同时说明本实施例的详细构造：

工作台40具有一水平的平整表面，其上设置一个旋座50，此旋座50旋转配合于工作台40的上表面；在工作台40的上表面上有一底板治具51，以及从下方固定于该底板治具51的吸附机构52。底板治具51上表面水平放置触控屏70，配合吸附机构52，触控屏70被真空吸附的方式临时固定在底板治具51上面，可以随整个旋座50同步在水平面旋转。

在旋座50的一侧，设有一擦除装置60，此擦除装置60上有一个可在工作台40上表面部分空间内三维活动的伺服头65，此伺服头65包括滑杆65b和其底端固接的擦拭块66，以及千分尺65c；实现伺服头65三维活动的部件有X轨61、X滑块62、Y轨63、Y滑块64和Z轨(未标示)，其中X轨61平行固定于工作台40的水平表面；X滑块62滑动配合于X轨61，实现图3中X方向的移动；在X滑块62上固定有Y轨63，Y轨延伸方向也与工作台40的上表面平行，并与X轨61垂直；Y轨63上滑动配合一Y滑块64；另有一Z轨，竖直状态固定于Y滑块64中，与伺服头65相垂直滑动配合；在Y滑块64上、擦拭块66的附近还固定有喷口67和吸胶口68。

由于擦拭块66是朝下设置，因此在伺服头65在整个擦除装置60允许的活动范围中，其移动区域覆盖了图3中的A区域；此A区域覆盖了触控屏70的一侧，事实上，旋座50带动触控屏70旋转过程中，触控屏70四条边均需要转到同一侧，也即A区域所在边的一侧，在360°的旋转过程中，A区域必然需要覆盖所有的溢胶区域在此同一侧产生的最大范围；同时，旋座50仅需要相对90°的四个旋转角度即可实现触控屏70所有的溢胶区域被擦拭块66处理。并且从图3的方向示意可以看出，触控屏70每一边的溢胶区域转至A区域中时，其Y滑块64会连同伺服头65自原点位置沿y方向将触控屏70行进，同时启动喷口67喷洒有机溶剂于溢胶区域，本例中用到石油醚作为有机溶剂；再返回图3中Y滑块64所在的原点位置，返回过程中擦拭块66对已经喷洒有机溶剂的触控屏70在该处的溢胶区域进行擦拭，同时启动吸胶口68，将擦拭掉的胶料吸走，回到原点，等待下一边的处理。以上过程需要步进电机的驱动，以及程序的控制；考虑到触控屏70其厚度具有多种不同的规格，因此，伺服头65上还具有一千分尺65c，在应对多种规格的触控屏70时，可以精确地调节擦拭块66相对于触控屏70的最佳高度。可见，擦除装置60的擦拭块66可以可编程地在水平方向受力均匀地擦拭溢胶区域，并且在旋座的多位旋转配合下快速处理触控屏70的每一边溢胶区域，其速度快，一致性好，也不会产生不稳定的法向压力以至于刮伤油墨。同时吸胶口可以及时清理已擦拭掉的胶料，保证工作台面和产品的清洁。而带有调节器的伺服头便于调节以配合多种不同厚度规格的产品，具有较好的适用性。

为达到上述擦拭的效果，结合图5和图6说明擦拭块66及其相关细节：图5是图2擦拭块的正视细节；图6是图2实施例中擦拭块66附近的左视示意图，展示了擦拭块66的横截面形状特点。图5中可见，在擦拭块66的擦拭前方，也即y方向的反向，其接触玻璃盖板11和感应电极板10的部位具有倾斜的擦拭面69，此擦拭面69沿擦拭的方向逐渐升高，此形状使擦拭块66可以顺利快速地刮除溢胶，以便吸胶口68及时吸走已经刮走的胶料。而图6则清楚地展示了擦拭块66应有的横截面形态，结合图1，可知，若需要清楚溢胶30，则擦拭块66必须有配合玻璃盖板11和感应电极板10台阶形状的横截面。同时，擦拭块66为硬度可选的硅胶材料，按照需求，其硬度至少在20-80°范围内可以自由选择，确保适用于不同的实际产品触控屏70。

以上所述，仅为本实用新型较佳实施例而已，故不能依此限定本实用新型实施的范围，即依本实用新型专利范围及说明书内容所作的等效变化与修饰，皆应仍属本实用新型涵盖的范围内。

Claims (6)

1.一种触控屏溢胶清除设备的结构，其特征在于：它包括：

一工作台，具有一水平表面；

一旋座，旋转配合于所述工作台表面，具有可水平固定触控屏的一底板治具；以及

一擦除装置，设置于所述工作台，具有可在所述工作台表面上三维活动的伺服头；该伺服头下方固定软质材料的一擦拭块，该擦拭块底部具有可同时配合所述触控屏其溢胶区域的横截面形状和沿其擦拭方向逐渐升高的擦拭面；所述擦除装置还具有用于喷洒有机溶剂的一喷口，该喷口固定于所述擦拭块附近；

其中，所述擦拭块的移动区域覆盖所述旋座360°旋转过程中所述触控屏的所有溢胶区域转至某相同一侧产生的最大范围。

2.根据权利要求1所述一种触控屏溢胶清除设备的结构，其特征在于：所述擦拭块通过一可改变其高度的调节器固定于所述伺服头。

3.根据权利要求2所述一种触控屏溢胶清除设备的结构，其特征在于：所述伺服头还包括可随所述擦拭块移动而吸入所述触控屏溢胶区域内胶料的一吸胶口。

4.根据权利要求3所述一种触控屏溢胶清除设备的结构，其特征在于：旋座还包括可真空吸附固定所述触控屏的一吸附装置。

5.根据权利要求1至4任一项所述一种触控屏溢胶清除设备的结构，其特征在于：所述擦除装置包括：

X轨，平行固定于所述工作台水平表面；其上滑动配合一X滑块；

Y轨，固定于所述X滑块，其延伸方向与所述工作台平行，并与所述X轨垂直；其上滑动配合一Y滑块；以及

Z轨，竖直状态固定于所述Y滑块；

其中，所述喷口固定于所述Y滑块，所述伺服头垂直滑动配合于所述Z轨。

6.根据权利要求2所述一种触控屏溢胶清除设备的结构，其特征在于：所述调节器为千分尺形态的微调结构。

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