CN202230272U - 阵列基板的检测设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型实施例提供一种阵列基板的检测设备，涉及液晶显示器领域，避免了阵列基板的检测设备在检测阵列基板时，漂浮型灰尘颗粒不良的检出，提高了后续修复工艺的效率，降低了生产成本。一种阵列基板的检测设备，包括：光学检测设备，在所述光学检测设备外的至少一侧设置有用于吸除阵列基板上的漂浮型灰尘颗粒的除尘装置。

Description

阵列基板的检测设备

技术领域

本实用新型涉及液晶显示器领域，尤其涉及一种阵列基板的检测设备。 

背景技术

利用光学检测设备对阵列基板进行检测，是当前液晶显示屏生产过程中广泛采用的一种技术。如图1所示，现有的光学检测设备6的原理是：光源1发出的光经过光亮和色度调节器2、光源直线合成器3和光源角度调节器4后投射到待测阵列基板7上，待测阵列基板7将光反射入光接收器5中成像，再利用与光接收器5连接的图像处理系统进行处理，将所得待测阵列基板上每个像素的图像的灰度与周围的若干像素进行对比，从而检出与周围像素图像不一致的异常像素，为后续的修复工艺提供数据，以减少阵列基板上的不良数目，使其品质得到提升。 

但是，由于是利用光学设备进行检测，并不能模拟液晶显示屏的工作状态，因此，其检出不良中，很大一部分并不会对该像素的显示功能产生明显影响，也无需进行修复，如在搬运过程中落在基板上的漂浮型灰尘颗粒，漂浮型灰尘颗粒在所有检出的不良数量中占很大一部分比例，这部分数据对后续修复工艺而言，加大了工作量，并且对改善产品品质作用不大。 

实用新型内容

本实用新型的实施例提供一种阵列基板的检测设备，在检测设备中加入除尘设备，在光学检测设备在检测待测区域前，将待测区域的漂浮型灰尘颗粒吸除，避免了漂浮型灰尘颗粒不良的检出，提高了后续修复工艺的效率，降低了生产成本。 

为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案： 

一种阵列基板的检测设备，包括：光学检测设备，在所述光学检测设备外 的至少一侧设置有用于吸除阵列基板上的漂浮型灰尘颗粒的除尘装置。 

所述除尘装置包括：用于吸除所述漂浮型灰尘颗粒除尘口和用于产生除尘吸力的除尘动力系统，所述除尘口与除尘动力系统相连接。 

所述除尘装置还包括：用于控制所述除尘口的开启和关闭的除尘口控制装置。 

所述除尘动力系统包括：用于过滤所述漂浮型灰尘颗粒的过滤器、用于产生除尘吸力的真空泵、用于控制所述真空泵开启、关闭并调整吸气量的控制装置、用于连接所述除尘口和所述过滤器的第一管道、用于连接所述过滤器和所述真空泵的第二管道和用于排出所述真空泵内气体的第三管道，所述第一管道一端与所述除尘口连接，所述第一管道另一端连接所述过滤器的入口，所述过滤器的出口连接所述第二管道一端，所述第二管道另一端与所述真空泵的入口相连，所述真空泵的出口连接所述第三管道，所述真空泵与所述控制装置连接。 

所述除尘装置底部与所述光学检测设备底部对齐。 

所述除尘装置底部距离阵列基板15μm至20μm。 

本实用新型实施例，在阵列基板的检测设备中加入除尘设备，在光学检测设备在检测待测区域前，将待测区域的漂浮型灰尘颗粒吸除，从而避免了光学检测设备在对该区域进行检测时，漂浮型灰尘颗粒不良被检测出来，提高了后续修复工艺的效率，降低了生产成本。 

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。 

图1为现有光学检测设备的原理示意图； 

图2为本实用新型实施例中阵列基板的检测设备的结构示意图； 

图3为本实用新型实施例中光学检测设备移动方向示意图； 

图4为本实用新型实施例中除尘装置的结构示意图。 

附图标记说明 

1、光源2、光亮和色度调节器3、光源直线合成器4、光源角度调节器5、光接收器6、光学检测设备7、待测阵列基板8、除尘口81、前侧除尘口82、后侧除尘口9、第一管道10、过滤器11、第二管道12、真空泵13、第三管道14、支架15、移动装置20、除尘动力系统 

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。 

本实用新型实施例提供一种阵列基板的检测设备，如图2所示，该设备包括： 

光学检测设备6，在光学检测设备6外的至少一侧设置有用于吸除阵列基板上的漂浮型灰尘颗粒的除尘装置。光学检测设备6悬挂在支架14上，除尘装置底部与光学检测设备底部对齐，除尘装置底部距离阵列基板15μm至20μm，光学检测设备6可以沿支架14左右移动，支架14设置在移动装置15上，支架14可以沿移动装置15前后移动。 

若光学检测设备6检测时前后移动，则在光学检测设备6的前后两侧设置除尘装置；若光学检测设备6检测时左右移动，则在所述光学检测设备6的左右两侧设置除尘装置。 

在光学检测设备的检测过程中，位于其外的除尘装置将待检测区域的阵列基板上的漂浮型灰尘颗粒吸除，待光学检测设备移动到该待测区域并检测该区域时，光学检测设备将不会检测出漂浮型灰尘颗粒。 

本实用新型实施例中的除尘装置包括：用于吸除漂浮型灰尘颗粒除尘口8和用于产生除尘吸力的除尘动力系统20，除尘口8与除尘动力系统20相连接。 

除尘装置还包括：用于控制所述除尘口的开启和关闭的除尘口控制装置。 

本实用新型实施例中的除尘动力系统20包括：用于过滤漂浮型灰尘颗粒的过滤器10、用于产生除尘吸力的真空泵12、用于控制真空泵开启、关闭并调整吸气量的控制装置、用于连接除尘口8和过滤器10的第一管道9、用于连接过滤器10和真空泵12的第二管道11、用于排出真空泵内气体的第三管道13，第一管道9一端与所述除尘口8连接，第一管道另一端连接过滤器10的入口，过滤器10的出口连接第二管道11一端，第二管道11另一端与真空泵12的入口相连，真空泵12的出口连接第三管道13，真空泵12与控制装置连接。 

如图3所示，本实用新型实施例中光学检测设备6检测时前后移动(图中虚线箭头示出光学检测设备移动方向)，即光学检测设备从待测阵列基板7的右上角开始向前移动检测，待光学检测设备移动到待测阵列基板下边缘时，光学检测设备向左移动一段距离，然后随即向后移动检测，待光学检测设备移动到待测阵列基板上边缘之后重复上述过程。因此，在光学检测设备6的前后分别设置前侧除尘口81和后侧除尘口82，两个除尘口都与第一管道9连接。 

如图4所示，本实用新型实施例中光学检测设备向前移动检测时，控制装置控制真空泵12打开向外吸气，除尘口控制装置控制光学检测设备的前侧除尘口81打开，同时，除尘口控制装置控制后侧除尘口82关闭，此时前侧除尘口81下的待测阵列基板区域内的夹带着漂浮型灰尘颗粒的气体沿第一管道9被吸入过滤器10中，过滤器10将漂浮型灰尘颗粒过滤掉，剩余气体沿第二管道11、真空泵12和第三管道13排出。当光学检测设备向后移动时，除尘口控制装置将前侧除尘口81关闭，同时，除尘口控制装置控制后侧除尘口82开启，使后侧除尘口82内的漂浮型灰尘颗粒被吸除，当光学检测设备移动到待测阵列基板上该区域时，这个区域内的漂浮型灰尘颗粒已经被吸除。 

本实用新型实施例，在阵列基板的检测设备中加入除尘设备，在光学检测设备在检测待测区域前，将待测区域的漂浮型灰尘颗粒吸除，从而避免了光学检测设备在对该区域进行检测时，漂浮型灰尘颗粒不良被检测出来，提高了后续修复工艺的效率，降低了生产成本。 

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内， 可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。 

Claims (6)

1.一种阵列基板的检测设备，包括：光学检测设备，其特征在于，在所述光学检测设备外的至少一侧设置有用于吸除阵列基板上的漂浮型灰尘颗粒的除尘装置。

2.根据权利要求1所述的阵列基板的检测设备，其特征在于，所述除尘装置包括：用于吸除所述漂浮型灰尘颗粒除尘口和用于产生除尘吸力的除尘动力系统，所述除尘口与除尘动力系统相连接。

3.根据权利要求2所述的阵列基板的检测设备，其特征在于，所述除尘装置还包括：用于控制所述除尘口的开启和关闭的除尘口控制装置。

4.根据权利要求2或3所述的阵列基板的检测设备，其特征在于，所述除尘动力系统包括：用于过滤所述漂浮型灰尘颗粒的过滤器、用于产生除尘吸力的真空泵、用于控制所述真空泵开启、关闭并调整吸气量的控制装置、用于连接所述除尘口和所述过滤器的第一管道、用于连接所述过滤器和所述真空泵的第二管道和用于排出所述真空泵内气体的第三管道，所述第一管道一端与所述除尘口连接，所述第一管道另一端连接所述过滤器的入口，所述过滤器的出口连接所述第二管道一端，所述第二管道另一端与所述真空泵的入口相连，所述真空泵的出口连接所述第三管道，所述真空泵与所述控制装置连接。

5.根据权利要求1所述的阵列基板的检测设备，其特征在于，所述除尘装置底部与所述光学检测设备底部对齐。

6.根据权利要求5所述的阵列基板的检测设备，其特征在于，所述除尘装置底部距离阵列基板15μm至20μm。

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