CN202205700U - 一种颗粒状材料表面低温等离子体处理装置 - Google Patents
一种颗粒状材料表面低温等离子体处理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN202205700U CN202205700U CN 201120333715 CN201120333715U CN202205700U CN 202205700 U CN202205700 U CN 202205700U CN 201120333715 CN201120333715 CN 201120333715 CN 201120333715 U CN201120333715 U CN 201120333715U CN 202205700 U CN202205700 U CN 202205700U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- rotary drum
- granular material
- temperature plasma
- material surface
- electrode group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
本实用新型提供了一种颗粒状材料表面低温等离子体处理装置,包括转鼓、电极组、进气口、挡板以及等离子体发生电源,所述转鼓内壁固定有挡板,转鼓外设有环形板电极组,在转鼓的两端设有进气口和抽气口。本装置使得原料不容易堆积覆盖,暴露在等离子体气氛中的表面得到较好的处理并且处理均匀性好,处理效率高,处理效果理想。
Description
技术领域
本实用新型涉及材料表面低温等离子体处理装置。
背景技术
材料表面改性处理技术是目前普遍使用的材料制备技术之一,其基本原理是在一定外界条件下,材料外部物质与材料表面发生物理或化学反应,从而是材料表面状态发生变化或在材料表面生产新的元素和新的基团,最终满足实际应用的需要。目前实现材料表面处理的方法通常为液相反应法,由于液相反应法存在能耗大,对环境有污染的缺点,急需一种节能环保的方法来替代。
低温等离子体表面处理是:在负压(真空)下,给反应气体环境施加高频电场,气体在高频电场的激励下电离,产生等离子体。等离子体是物质的第四态,其中含有大量的电子、离子和自由基等各种活性粒子,活性粒子与材料表面发生物理和化学反应,从而使材料表面的结构、成分和基团发生变化,得到满足实际使用要求的表面。等离子体反应速度快、处理效率高,而且改性仅发生在材料表面,对材料内部本体材料的性能没有影响,是理想的表面改性手段。
在负压状态高频电场激励产生的等离子体的温度接近于室温,因此又称低温等离子体。由于其工作温度低,所以可以处理包括塑料在内的所有材料。
低温等离子体表面改性通常是在材料成型后进行的,成型后的材料形状多种多样,例如:薄膜状、块状、颗粒状和粉体状等,由于低温等离子体表面处理是在气相“干法”状态下进行的,而且只有被等离子体覆盖的材料表面才能得到处分的改性处理,因此为了保证被处理材料的表面能够被全部改性,不同形状的材料必须采用不同的等离子体处理方式。
对于颗粒状或粉状材料,如圆形颗粒、三维尺寸均较小的零件,由于其堆积特性,采用通常的平板电极等离子体处理时原料容易堆积覆盖,因此没有暴露在等离子体气氛中的表面得不到处理,导致处理均匀性差,处理效率低,处理效果差。
实用新型内容
为了克服现有颗粒状物料表面低温等离子体改性技术存在的不足,本实用新型提供了一种能够将颗粒状物料表面均匀进行等离子体表面处理的装置。
为了上述目的,本实用新型采用以下技术方案:
一种颗粒状材料表面低温等离子体处理装置,包括转鼓、电极组、进气口、挡板、等离子体发生电源,所述转鼓内壁固定有挡板,转鼓外设有环形板电极组,在转鼓的两端设有进气口和抽气口。
优选的,所述转鼓为圆柱形,在动力作用下可以沿转鼓中心线旋转。
优选的,所述挡板沿转鼓直径方向固定,并沿圆周方向多个均布。
优选的,所述挡板上端呈弧形。
优选的,所述电极组由两块环形板电极组成,置于转鼓外壁,电极与转鼓外壁之间留有一定的间隙。
优选的,所述电极组的两块电极之间绝缘。
与现有技术相比,本实用新型具有以下显著特点:
1、能够均匀处理颗粒状物料的全部表面;
2、处理效率高,处理效果好;
3、装卸料简单,操作方便;
附图说明
图1为本实用新型的原理示意图
图中标号为:
1-转鼓 2-电极组 3-进气口
4-挡板 5-颗粒状材料 6-等离子体发生电源
7-抽气口
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述,以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。
如图1所示,一种颗粒状材料表面低温等离子体处理装置,包括转鼓1、电极组2、进气口3、挡板4、等离子体发生电源6,所述转鼓1内壁固定有挡板,转鼓外设有环形板电极组2,在转鼓的两端设有进气口3和抽气口7。所述转鼓1为圆柱形,在动力作用下可以沿转鼓1中心线旋转。所述挡板4沿转鼓1直径方向固定,并沿圆周方向多个均布。所述挡板4上端呈弧形。所述电极组2由两块环形板电极组成,置于转鼓1外壁,电极与转鼓1外壁之间留有一定的间隙。所述电极组2的两块电极之间绝缘。
将颗粒状材料5放入转鼓内,对其进行表面处理,转鼓1内抽真空并可以定量通入反应气体,通过施加电场在转鼓1内产生辉光放电等离子体。在进行材料表面处理时,通过转鼓1的旋转,带动颗粒上下翻腾,致使颗粒状材料5表面轮番暴露于低温等离子体氛围中,从而使材料表面的各个部位均得到充分处理。
以上所述,仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本领域的技术人员在本实用新型所揭露的技术范围内,可不经过创造性劳动想到的变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。
Claims (6)
1.一种颗粒状材料表面低温等离子体处理装置,包括转鼓、电极组、进气口、挡板以及等离子体发生电源,其特征在于,所述转鼓内壁固定有挡板,转鼓外设有环形板电极组,在转鼓的两端设有进气口和抽气口。
2.根据权利要求1所述的一种颗粒状材料表面低温等离子体处理装置,其特征在于,所述转鼓为圆柱形,在动力作用下可以沿转鼓中心线旋转。
3.根据权利要求1所述的一种颗粒状材料表面低温等离子体处理装置,其特征在于,所述挡板沿转鼓直径方向固定,并沿圆周方向多个均布。
4.根据权利要求1所述的一种颗粒状材料表面低温等离子体处理装置,其特征在于,所述挡板上端呈弧形。
5.根据权利要求1所述的一种颗粒状材料表面低温等离子体处理装置,其特征在于,所述电极组由两块环形板电极组成,置于转鼓外壁,电极与转鼓外壁之间留有一定的间隙。
6.根据权利要求1所述的一种颗粒状材料表面低温等离子体处理装置,其特征在于,所述电极组的两块电极之间绝缘。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 201120333715 CN202205700U (zh) | 2011-09-07 | 2011-09-07 | 一种颗粒状材料表面低温等离子体处理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 201120333715 CN202205700U (zh) | 2011-09-07 | 2011-09-07 | 一种颗粒状材料表面低温等离子体处理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN202205700U true CN202205700U (zh) | 2012-04-25 |
Family
ID=45969805
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN 201120333715 Expired - Lifetime CN202205700U (zh) | 2011-09-07 | 2011-09-07 | 一种颗粒状材料表面低温等离子体处理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN202205700U (zh) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103596351A (zh) * | 2013-11-26 | 2014-02-19 | 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司 | 一种颗粒状物料等离子体处理装置 |
CN103594319A (zh) * | 2013-11-27 | 2014-02-19 | 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司 | 一种粉体材料表面等离子体处理装置 |
CN104519993A (zh) * | 2012-12-10 | 2015-04-15 | 韩国基础科学支援研究院 | 粉末等离子处理装置 |
CN110010441A (zh) * | 2019-03-28 | 2019-07-12 | 苏州科技大学 | 一种粉体处理设备及使用方法 |
EP3643470A1 (en) * | 2018-10-26 | 2020-04-29 | Bonetto S.r.l. | Apparatus for plasma treatment of granular polymer material |
-
2011
- 2011-09-07 CN CN 201120333715 patent/CN202205700U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104519993A (zh) * | 2012-12-10 | 2015-04-15 | 韩国基础科学支援研究院 | 粉末等离子处理装置 |
CN104519993B (zh) * | 2012-12-10 | 2016-08-17 | 韩国基础科学支援研究院 | 粉末等离子处理装置 |
CN103596351A (zh) * | 2013-11-26 | 2014-02-19 | 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司 | 一种颗粒状物料等离子体处理装置 |
CN103594319A (zh) * | 2013-11-27 | 2014-02-19 | 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司 | 一种粉体材料表面等离子体处理装置 |
EP3643470A1 (en) * | 2018-10-26 | 2020-04-29 | Bonetto S.r.l. | Apparatus for plasma treatment of granular polymer material |
CN110010441A (zh) * | 2019-03-28 | 2019-07-12 | 苏州科技大学 | 一种粉体处理设备及使用方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102752950A (zh) | 一种颗粒状物料低温等离子体表面处理方法及其装置 | |
CN202205700U (zh) | 一种颗粒状材料表面低温等离子体处理装置 | |
CN102744020B (zh) | 一种粉体材料低温等离子体表面处理方法及其装置 | |
CN202205701U (zh) | 一种粉体材料表面低温等离子体处理装置 | |
CN201155582Y (zh) | 一种旋转下料阀 | |
CN109546108A (zh) | 一种低膨胀硅基复合材料及制备方法、硅基负极材料及锂离子电池 | |
CN104124437B (zh) | 表面包覆氮化钛与石墨烯的磷酸铁锂复合正极材料及其制备方法和应用 | |
CN104112847A (zh) | 一种硅基负极材料及其方法 | |
CN107317011A (zh) | 一种氮掺杂的有序多孔碳包覆硅纳米复合材料的制备方法 | |
CN103650699A (zh) | 一种种子等离子体处理装置及其处理方法 | |
CN102746524A (zh) | 一种材料表面低温等离子体改性方法及其装置 | |
CN203617245U (zh) | 一种新型粉体等离子体处理装置 | |
CN103596351A (zh) | 一种颗粒状物料等离子体处理装置 | |
CN104299882A (zh) | 一种粉体材料表面等离子体处理装置 | |
CN203588971U (zh) | 一种改进型颗粒材料旋转等离子体处理装置 | |
CN111218669A (zh) | 一种用于脉冲化学气相沉积包膜的转筒式反应器及其应用 | |
CN203590584U (zh) | 一种颗粒材料旋转等离子体处理装置 | |
CN105509440A (zh) | 采用微波加热的双锥回转真空干燥系统 | |
CN203608531U (zh) | 一种种子等离子体处理装置 | |
CN207404847U (zh) | 一种石墨烯生产设备 | |
CN204275943U (zh) | 一种碳纳米粉体复合材料连续制备系统 | |
CN209791522U (zh) | 一种颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备 | |
CN203590583U (zh) | 一种颗粒状物料等离子体处理装置 | |
CN103673558A (zh) | 五筒六筒烘干机 | |
CN203454667U (zh) | 一种用于粉末状物料的微波干燥系统 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20161013 Address after: 518000 Guangdong city of Shenzhen province Luohu District Lake Street No. 118 Shennan East Road, Heping Road, the world financial center tower B Bao - Ping Street 0623 Patentee after: Shenzhen Aupu Plasma Technology Co., Ltd. Address before: 2 No. 215000, Taishan Road, hi tech Industrial Development Zone, Jiangsu, Suzhou Patentee before: Suzhou OPS Plasma Technology Co., Ltd. |
|
CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20120425 |
|
CX01 | Expiry of patent term |