CN202067838U - 一种复合阴极结构oled器件 - Google Patents

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Abstract

本实用新型提供一种复合阴极结构OLED器件：包括玻璃基板以及设置于玻璃基板上的ITO阳极层，ITO阳极层上设置有有机发光层，有机发光层上设置有阴极，所述阴极由设置于有机发光层上的第二缓冲层、设置于第二缓冲层上的第一缓冲层，设置于第一缓冲层上的Ca:Al合金层以及设置于Ca:Al合金层上的绝缘层组成，电源的一端与阴极相连，另一端与ITO阳极层相连。在原有碱金属氟化物上再镀一层金属氧化物形成双缓冲层，解决了直接蒸镀Al时碱金属氟化物解离并扩散至发光层形成发光的淬熄中心，因而提高了器件的发光效率和寿命，使器件的工作时间更长。

Description

一种复合阴极结构OLED器件
技术领域
本实用新型涉及OLED技术领域，具体涉及一种复合阴极结构OLED器件。
背景技术
OLED的基本结构是由ITO阳极、有机发光层和阴极组成形如三明治的结构。当电流供应至一定值时，阳极空穴与阴极电子就会在发光层中复合产生激子，激子退激发光，依其配方不同产生红、绿和蓝RGB三原色，构成基本色彩。OLED具有主动发光、电压需求低且省电效率高、重量轻、厚度薄，构造简单，成本低等优点，被视为21世纪最具前途的产品之一。
常规的OLED器件结构，该结构自下而上包括玻璃基板、ITO阳极层、有机发光层及Al阴极。这种OLED器件结构中所用缓冲层材料为碱金属氟化物，当把Al蒸镀在其上时，会造成碱金属氟化物解离之后扩散至发光层形成发光的淬熄中心，降低了器件的发光效率和寿命。
发明内容
本实用新型目的在于提供一种发光效率高、工作时间长的复合阴极结构OLED器件。
为达到上述目的，本实用新型采用了以下技术方案：
包括玻璃基板以及设置于玻璃基板上的ITO阳极层，ITO阳极层上设置有有机发光层，有机发光层上设置有阴极，所述阴极由设置于有机发光层上的第二缓冲层、设置于第二缓冲层上的第一缓冲层，设置于第一缓冲层上的Ca:Al合金层以及设置于Ca:Al合金层上的绝缘层组成，电源的一端与阴极相连，另一端与ITO阳极层相连。
所述第一缓冲层所用材料为金属氧化物。
所述金属氧化物为MoOx、WO2或V2O5。
所述第二缓冲层所用材料为碱金属氟化物。
所述碱金属氟化物为MF，其中M表示Li、Na、K、Rb或Cs。
所述Ca:Al合金层包括蒸镀于第一缓冲层上的Ca薄膜层，蒸镀于Ca薄膜层上的Ca:Al合金薄膜层以及蒸镀于Ca:Al合金薄膜层上的Al薄膜层。
所述绝缘层采用的材料为金属氧化物。
所述第二缓冲层的厚度为0.1-1nm，第一缓冲层的厚度为0.1-1nm，绝缘层的厚度为10-50nm。
本实用新型所述OLED器件具有复合阴极结构，在原有碱金属氟化物(第二缓冲层)上再镀一层金属氧化物(第一缓冲层)形成双缓冲层，由于采用了双缓冲层，解决了直接蒸镀Al时碱金属氟化物解离并扩散至发光层形成发光的淬熄中心，避免了当驱动器件时阴极部分扩散至发光层形成的淬熄中心，因而提高了器件的发光效率和寿命，使器件的工作时间更长。
附图说明
图1为本实用新型的器件结构图，
图1中，玻璃基板1，ITO阳极层2，有机发光层3，第二缓冲层4，第一缓冲层5，Ca:Al合金层6，绝缘层7。
具体实施方式
下面结合附图对实用新型做进一步说明。
参见图1，包括玻璃基板1以及设置于玻璃基板1上的ITO阳极层2，ITO阳极层2上设置有有机发光层3，有机发光层3上设置有阴极，所述阴极由设置于有机发光层3上的第二缓冲层4、设置于第二缓冲层4上的第一缓冲层5，设置于第一缓冲层5上的Ca:Al合金层6以及设置于Ca:Al合金层6上的绝缘层7组成，电源的一端与阴极相连，另一端与ITO阳极层2相连，所述第一缓冲层5所用材料为金属氧化物，所述金属氧化物为氧化钼(MoOx)、氧化钨(WO2)或五氧化二钒(V2O5)，所述第二缓冲层4所用材料为碱金属氟化物，所述碱金属氟化物为MF，其中M表示Li、Na、K、Rb或Cs，所述Ca:Al合金层6包括蒸镀于第一缓冲层5上的Ca薄膜层，蒸镀于Ca薄膜层上的Ca:Al合金薄膜层以及蒸镀于Ca:Al合金薄膜层上的Al薄膜层，这样形成了一种梯度层，更有利于电子的注入，所述绝缘层7采用的材料为金属氧化物，所述第二缓冲层4的厚度为0.1-1nm，第一缓冲层5的厚度为0.1-1nm，绝缘层7的厚度为10-50nm。
本实用新型所述OLED器件具有复合阴极结构，在原有碱金属氟化物(第二缓冲层)上再镀一层金属氧化物(第一缓冲层)形成双缓冲层，由于采用了双缓冲层，解决了直接蒸镀Al时碱金属氟化物解离并扩散至发光层形成发光的淬熄中心，避免了当驱动器件时阴极部分扩散至发光层形成的淬熄中心，因而提高了器件的发光效率和寿命，使器件的工作时间更长。
本实用新型所述复合阴极结构OLED器件的制作过程主要包括以下几个步骤：1)阳极ITO光刻；2)ITO玻璃清洗；3)阳极ITO等离子处理；4)当真空镀膜机的真空室内气压达到10-4Pa时蒸镀OLED的有机发光层；5)在真空室内蒸镀碱金属氟化物层、金属氧化物层、Ca:Al合金层及绝缘层，Ca:Al合金层中的Ca:Al合金薄膜层由Ca与Al的混合物蒸镀而成，且混合物中Ca的质量分数小于等于30％；6)完成器件的封装，其制备工艺简单，成本低廉。

Claims (8)

1.一种复合阴极结构OLED器件，其特征在于：包括玻璃基板(1)以及设置于玻璃基板(1)上的ITO阳极层(2)，ITO阳极层(2)上设置有有机发光层(3)，有机发光层(3)上设置有阴极，所述阴极由设置于有机发光层(3)上的第二缓冲层(4)、设置于第二缓冲层(4)上的第一缓冲层(5)，设置于第一缓冲层(5)上的Ca:Al合金层(6)以及设置于Ca:Al合金层(6)上的绝缘层(7)组成，电源的一端与阴极相连，另一端与ITO阳极层(2)相连。
2.根据权利要求1所述一种复合阴极结构OLED器件，其特征在于：所述第一缓冲层(5)所用材料为金属氧化物。
3.根据权利要求2所述一种复合阴极结构OLED器件，其特征在于：所述金属氧化物为MoOx、WO2或V2O5。
4.根据权利要求1所述一种复合阴极结构OLED器件，其特征在于：所述第二缓冲层(4)所用材料为碱金属氟化物。
5.根据权利要求4所述一种复合阴极结构OLED器件，其特征在于：所述碱金属氟化物为MF，其中M表示Li、Na、K、Rb或Cs。
6.根据权利要求1所述一种复合阴极结构OLED器件，其特征在于：所述Ca:Al合金层(6)包括蒸镀于第一缓冲层(5)上的Ca薄膜层，蒸镀于Ca薄膜层上的Ca:Al合金薄膜层以及蒸镀于Ca:Al合金薄膜层上的Al薄膜层。
7.根据权利要求1所述一种复合阴极结构OLED器件，其特征在于：所述绝缘层(7)采用的材料为金属氧化物。
8.根据权利要求1所述一种复合阴极结构OLED器件，其特征在于：所述第二缓冲层(4)的厚度为0.1-1nm，第一缓冲层(5)的厚度为0.1-1nm，绝缘层(7)的厚度为10-50nm。
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