CN201946578U

CN201946578U - 一种基片自动下料系统

Info

Publication number: CN201946578U
Application number: CN2010202002808U
Authority: CN
Inventors: 吴晓松; 陈战友; 诸晓明; 向益双
Original assignee: Wuxi Suntech Power Co Ltd
Current assignee: Wuxi Suntech Power Co Ltd
Priority date: 2010-05-24
Filing date: 2010-05-24
Publication date: 2011-08-24
Anticipated expiration: 2020-05-24

Abstract

本实用新型提供一种基片自动下料系统，属于太阳电池制造技术领域。该基片自动下料系统包括承接装置，传送装置，承载盒，以及动力装置及其控制系统；其中，多个需要传送转移的基片依次从所述承接装置经所述传送装置传送后逐片装入所述承载盒内；所述动力装置及其控制系统用于向所述承接装置和传送装置提供动力并控制其对所述基片的传输运动。该基片自动下料系统具有使所传送转移的基片不易受污染、传送转移效率高的特点。

Description

一种基片自动下料系统

技术领域

本实用新型属于太阳电池制造技术领域，具体涉及一种基片自动下料系统，尤其涉及太阳电池的下料为硅片的基片自动下料系统。

背景技术

在光伏电池技术领域中，目前广泛应用硅半导体衬底制作太阳电池，其中硅片(wafer)就是被广泛应用于太阳电池制造的原材料。在下料制造太阳电池之前，一般需要对硅片表面严格清洗以去除表面的污物、从而作为太阳电池的下料。

现有技术的太阳电池生产线中，主要采用平板清洗机清洗硅片。被清洗的硅片需要转移至达到一定干净等级的硅片承载盒中，以便于硅片的进一步传输以及硅片的批量工艺处理。

然而，现有技术中，被清洗好的硅片是通过人工操作的方式将硅片转移至承载盒中，例如，采用吸附式的气头将硅片吸附、然后人工装入承载盒中。这种传送转移方式中，由于吸附式的气头会通过气压压力压迫接触于硅片表面，存在一定硅片碎裂的风险；并且，需要操作人员不停地接触硅片，尽管采用了一定的防表面污染措施，例如，从工人的装备和操作规程上作一些规定，但还是容易导致硅片污染；最后，这种人工传送转移方式效率低、劳动强度大，难以满足自动化太阳电池制造生产线的要求。

有鉴于此，有必要提供一种适用于硅片的基片自动下料系统以适用太阳电池生产线的要求。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是，提供一种基片自动下料系统以降低传送转移过程中对所传送转移的基片的污染、提高传送转移效率。

为解决以上所述技术问题，本实用新型提供一种基片自动下料系统，其包括：

用于承接自上级工序输出的基片的承接装置，

用于传送硅片的传送装置，

承载盒，以及

用于向所述承接装置和传送装置提供动力并控制其对所述基片的传输运动的动力装置及其控制系统；

其中，多个基片依次从所述承接装置经所述传送装置传送后逐片装入所述承载盒内。

作为较佳实施方案，其中，基片自动下料系统还包括设置在所述传送装置和所述承载盒之间的缓储装置。

基片自动下料系统还可以包括用于搬运承载盒的机械臂以及承载盒传输装置。所述动力装置及其控制系统还用于向所述机械臂提供动力并控制其对所述承载盒的搬移。

较佳地，所述承接装置设置一个或者一个以上传输道。

较佳地，所述传送装置为两个或者两个以上，相应地，在每个所述传送装置的末端设置一个或一个以上承载盒。所述机械臂为两个或者两个以上。

作为较佳实施方案，其中，两个所述传送装置在大致同一直线上布置，两个传送装置所相应的承载盒分别分布在传送装置所在直线的两端。

根据本实用新型所提供的基片自动下料系统，其中，所述承接装置用于承接并传输转移从平板清洗机输出的基片。

具体地，所述基片可以为用于制作太阳电池的硅片或PCB(印刷电路)板。这种基片自动下料系统适应于用于生产太阳能电池的硅片，其表面在传送转移过程中不受压力装置压迫，不易发生碎裂现象，能减少不必要的材料损耗。

与现有技术相比，本实用新型的技术效果是，所传输转移的目标物品在传输转移至承载盒的过程中，完全不需要人工介入，基片的表面仅与干净的承接装置和传输装置的表面接触，不易受污染；并且全自动化地传送转移，大大提高了生产效率，也降低了工人劳动强度。

附图说明

图1是按照本实用新型实施例提供的基片自动下料系统结构模块示意图；

图2是按照本实用新型又一实施例提供的基片自动下料系统结构模块示意图；

图3是按照本实用新型再一实施例提供的基片自动下料系统结构模块示意图。

具体实施方式

下面介绍的是本实用新型的多个可能实施例中的一些，旨在提供对本实用新型的基本了解，并不旨在确认本实用新型的关键或决定性的要素或限定所要保护的范围。

图1所示为按照本实用新型实施例提供的基片自动下料系统结构模块示意图。如图1所示，该实施例的基片自动下料系统300具体地用于太阳电池生产线的硅片的传送转移，特别是经过清洗工艺后的硅片的自动下料系统。清洗装置100所清洗后的硅片可以用作太阳电池的下料，为适用太阳电池制造的多工序、清洁度高、高生产率的要求，需要将所清洗好的硅片相对无污染、高效率、低破碎率地转移至硅片的承载盒。

继续如图1所示，硅片的基片自动下料系统300包括承接装置310、传送装置331和333、承载盒351和353以及动力装置及其控制系统370。其中图中所示单箭头线用于示意硅片的传送路径。在该实施例中，清洗装置100为平板清洗机，清洗好的硅片从清洗装置100输出后直接进入承接装置310上，为提高传输效率，承接装置310设置为包括多个传输道，例如可以为5道(图1中所示的5个单方向箭头表示清洗后的硅片分别落入承接装置310的各个传输道中)传输道，本领域技术人员可以根据平板清洗机的输出、清洗硅片的数量等因素选择传输道的数量，例如还可以为1个至4个。传送装置331和333与承接装置310首尾相接，硅片可以从承接装置310平稳地转移至传送装置331和333，传送装置用于将硅片传送较远距离以到达承载盒351和353。该实施例中，承接装置310上的其中三个传输道上的硅片平稳转移至传输装置331，承接装置310上的另外两个传输道上的硅片平稳转移至传输装置333。传送装置331和333可以设置为包括传输皮带，其与硅片接触，通过其相互之间的摩擦力带动硅片在传输带运动方向运动。

继续如图1所示，承载盒351和353用于容纳多片硅片，以适用下道制造工序而方便地转移硅片。承载盒351和353分别用于容纳传送装置331和333所传送过来的硅片。需要说明的是，传送装置331和承载盒351为一组，传送装置333和承载盒353为第二组，设置为多组的形式，一方面可以实现多片自动下料、提高传送转移效率，另一方面可以在一组不能正常工作的情况下，另一组还能相对满足传送要求，从而可以不影响正常生产。

继续如图1所示，基片自动下料系统300还包括动力装置及其控制系统370，其可以为承接装置310、传输装置331和333等提供动力并控制其上的硅片的传输运动，例如，控制速度、方向等。具体地，动力装置及其控制系统370可以包括电机、电控系统和气动装置等。本领域技术人员可以根据承接装置和传输装置的传输运动要求、控制精度要求等来选择并设计具体形式的动力装置及其控制系统370。

因此，该基片自动下料系统300在传送转移硅片至承载盒的过程中，硅片表面不受压力装置压迫，不易发生碎裂现象，减少不必要的材料损耗；并且，完全不需要人工介入，硅片表面仅与干净的承接装置和传输装置的表面接触，不易受污染，有利于提高太阳电池的成品率；全自动化的传送转移，也大大提高了清洗后的硅片的传送转移效率，有利于提高太阳电池的生产效率，降低工人劳动强度。

图2所示为按照本实用新型又一实施例提供的基片自动下料系统结构模块示意图。对比图1和图2所示实施例，在该实施例中，基片自动下料系统500还包括缓储装置541和543、机械臂561和563、以及承载盒传送装置581和583，在该实施例中同样是对应两组设置的形式，但是本实用新型并不限于该实施例的数量，例如还可以为进一步提高效率设置为3组或者4组。其中，传送装置331、缓储装置541、承载盒351、机械臂561和承载盒传送装置581构成一组，传送装置333、缓储装置543、承载盒353、机械臂563和承载盒传送装置583构成另一组。硅片的运动方向如图中单箭头的运动方向所示，其中，有可能传送装置上的硅片数量过多，可能来不及插入承载盒中，造成传送不顺畅，因此，引入缓储装置541和543，从而可以使来不及插入承载盒351和353的硅片分别暂储于缓储装置541和543中，基本实现缓存的功能。

继续如图2所示，动力装置及其控制系统370可以为机械臂561和563提供动力并控制其对承载盒的搬移，机械臂用于空间位置上下移动承载盒便于硅片插入承载盒多个槽内及插满后转移承载盒，如图所示，可以将已经装载好硅片的承载盒351和353分别搬移至承载盒传送装置581和583上，承载盒传送装置将承载盒转移至执行下一道制造工序的位置，实现硅片的进一步传送转移。

图3所示为按照本实用新型再一实施例提供的基片自动下料系统结构模块示意图。对比图1和图3所示，图1所示基片自动下料系统300中，承载盒351和353都是分布在传送装置331和333的同一侧方向的末端，传送装置331和333基本平行空间布置，传送装置331和333将硅片在同一方向上并行传送；图3所示基片自动下料系统700中，传送装置331和333大致在同一直线上布置，承载盒351和353分布在传送装置331和333所在直线的两侧端(也即两个传送装置的各自末端)，因此，硅片在两个传送装置上的传送方向是相反的。按照图3所示的空间布局设置传送装置和承载盒时，操作人员在手工取出承载盒时搬运至传递窗时(传递窗一般设置在图3的两个传送装置中间位置的右边)，相对更加方便且顺畅。

需要说明的是，以上实施例是对硅片的基片自动下料系统作具体介绍的，但是，本领域技术人员还将认识到，这种基片自动下料系统同样适用于其它要求无污染、高效率传送转移的基片，例如，PCB板等。

以上例子主要说明了本实用新型的基片自动下料系统。尽管只对其中一些本实用新型的实施方式进行了描述，但是本领域普通技术人员应当了解，本实用新型可以在不偏离其主旨与范围内以许多其他的形式实施。因此，所展示的例子与实施方式被视为示意性的而非限制性的，在不脱离如所附各权利要求所定义的本实用新型精神及范围的情况下，本实用新型可能涵盖各种的修改与替换。

Claims

1.一种基片自动下料系统，其特征在于，其包括：

用于承接自上级工序输出的基片的承接装置，

用于传送硅片的传送装置，

承载盒，以及

2.如权利要求1所述的基片自动下料系统，其特征在于，还包括设置在所述传送装置和所述承载盒之间的缓储装置。

3.如权利要求1或2所述的基片自动下料系统，其特征在于，还包括用于搬运承载盒的机械臂以及承载盒传输装置。

4.如权利要求1或2所述的基片自动下料系统，其特征在于，所述承接装置设置一个或者一个以上传输道。

5.如权利要求1或2所述的基片自动下料系统，其特征在于，所述传送装置为两个或者两个以上，相应地，在每个所述传送装置的末端设置一个或一个以上承载盒。

6.如权利要求5所述的基片自动下料系统，其特征在于，所述机械臂为两个或者两个以上。

7.如权利要求5所述的基片自动下料系统，其特征在于，其中两个所述传送装置在同一直线上布置，两个传送装置所相应的承载盒分别分布在传送装置所在直线的两端。