CN201804892U - 一种硅片处理设备及其定位机构 - Google Patents

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吴晓松
陆杰
潘加永
何广春
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Abstract

本实用新型提供了一种定位机构，用于在太阳电池的制造过程中对传送机构所传送的硅片进行定位，传送机构包括顺次传送硅片的第一传送轨道和第二传送轨道，第一传送轨道与第二传送轨道垂直相接，定位机构包括：多个定位挡块，其可移动地设置在第一传送轨道的传送方向上；和至少一个气缸，其构造为在硅片到位之前控制定位挡块移动至定位位置，并在硅片由定位挡块定位后控制定位挡块移动到与硅片分离的分离位置。本实用新型还提供了一种制造太阳电池用的硅片处理设备，包括硅片传送机构及上述对传送机构所传送的硅片进行定位的定位机构。本实用新型解决了硅片变轨的定位问题，有效减少了碎片的产生，保证了生产的正常和持续。

Description

一种硅片处理设备及其定位机构
技术领域
本实用新型涉及一种定位机构及具有这种定位机构的硅片处理设备，尤其涉及一种用于在太阳电池的制造过程中对传送机构所传送的硅片进行定位的定位机构及具有这种定位机构的硅片处理设备。
背景技术
在传统的太阳电池湿制程设备中，上下料机都是通过承载盒中转的，上料时，上料机将从承载盒中取出的硅片通过皮带机构，一片一片的排列成一排，由定位挡块定位，对应到清洗机的5条轨道；而在下料时，下料机通过皮带传送机构，把5条轨道上的硅片送出，再由定位挡块定位排列成一排，进行并道然后送入承载盒中。其中挡块机构要么是固定在传送机构上，要么随同硅片一起升降，在硅片升降时或转向运送时存在摩擦，从而导致碎片的产生，甚至使得生产不能正常地持续。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种在太阳电池的制造过程中对传送机构所传送的硅片进行定位后、不再接触硅片的硅片处理设备及其定位机构，其确保了硅片不会因为与定位挡块的摩擦而损坏硅片。
为了达到上述目的，本实用新型提供了一种定位机构，用于在太阳电池的制造过程中对传送机构所传送的硅片进行定位，所述传送机构包括顺次传送所述硅片的第一传送轨道和第二传送轨道，所述第一传送轨道与第二传送轨道垂直相接，其特征在于，所述定位机构包括：多个定位挡块，其可移动地设置在所述第一传送轨道的传送方向上，用于在所述第一传送轨道的传送方向上定位所述硅片；至少一个气缸，其构造为在所述硅片到位之前控制所述定位挡块移动至定位位置，并在所述硅片由所述定位挡块定位后控制所述定位挡块移动到与所述硅片分离的分离位置。
优选地，所述定位机构还包括：底板，其平行于所述第一或第二传送轨道的传送方向设置，用于固定和/或连接所述定位挡块或所述气缸。
优选地，所述底板设置于所述第一传送轨道的下方并平行于所述第一传送轨道的传送方向；所述气缸包括沿所述底板的长度方向设置于所述底板上的多个升降气缸；所述多个定位挡块与各个所述升降气缸的气缸轴连接，并在气缸的控制下在所述硅片到位之前依次从所述第一传送轨道的表面穿出，以依次定位在所述第一传送轨道上移动的硅片。
优选地，所述气缸还包括与所述底板的一侧连接的水平气缸，其构造为在所述硅片由所述定位挡块定位后，带动所述底板沿所述第一传送轨道的传送方向水平移动，从而使得所述定位挡块移动到与所述硅片分离的分离位置。
优选地，所述底板设置于所述第二传送轨道的外侧并与所述第二传送轨道的传送方向平行；所述定位挡块沿所述第二传送轨道的传送方向间隔设置于所述底板上；所述气缸与所述底板连接，并构造为带动所述底板移动，从而在所述硅片到位之前控制所述定位挡块移动至定位位置并在所述硅片由所述定位挡块定位后控制所述定位挡块移动到与所述硅片分离的分离位置。
优选地，所述传送机构还包括设置在所述第一传送轨道与第二传送轨道的垂直相接处的交叉传送装置，所述交叉传送装置构造为将所述硅片从所述第一传送轨道传送到所述第二传送轨道，所述定位挡块靠近所述交叉传送装置而设置。
优选地，所述定位挡块的与所述硅片接触的一面为平面。
优选地，所述定位挡块由塑料制成。
优选地，所述定位挡块由高聚物制成。
本实用新型还提供了一种制造太阳电池用的硅片处理设备，包括硅片传送机构及上述对传送机构所传送的硅片进行定位的定位机构。
本实用新型的有益效果是，其解决了硅片传输过程中传输轨道变轨的定位问题，且有效减少了碎片的产生，保证了生产的正常和持续。
附图说明
图1为本实用新型的用于上料机的定位机构的示意图；
图2为上料机的传送机构的示意图；
图3是本实用新型的用于下料机的定位机构的示意图；
图4为下料机的传送机构的示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步地详细描述。
根据本实用新型的制造太阳电池用的硅片处理设备，包括硅片传送机构和对传送机构所传送的硅片进行定位的定位机构。图1为本实用新型的用于上料机的定位机构的示意图；图2为上料机的传送机构的示意图。如图2所示，在上料过程中，传送机构包括顺次传送硅片的第一传送轨道11和第二传送轨道12，第一传送轨道11与第二传送轨道12垂直相接。
在本实用新型的另一个实施例中，在第一传送轨道11与第二传送轨道12的垂直相接处可设置有交叉传送装置13，交叉传送装置13构造为将硅片从第一传送轨道11传送到第二传送轨道12，定位挡块靠近交叉传送装置13而设置。
如图1和图2所示，本实施例中的定位机构包括：五个定位挡块2，其可移动地设置在所述第一传送轨道11的传送方向上，用于在所述第一传送轨道11的传送方向上定位所述硅片1；左右气缸5，其构造为在所述硅片1到位之前控制所述定位挡块2移动至定位位置，并在所述硅片1由所述定位挡块2定位后控制所述定位挡块2移动到与所述硅片1分离的分离位置。
在本实施例中，定位机构还包括：底板4，其设置于第一传送轨道11的下方并平行于第一传送轨道11的传送方向，用于固定和连接左右气缸5。
作为对本实施例的优选方式，气缸还包括沿底板4的长度方向设置于底板4上的五个升降气缸3；五个定位挡块2与各个升降气缸3的气缸轴连接，并在气缸3的控制下在硅片1到位之前依次从第一传送轨道11的表面穿出，以依次定位在第一传送轨道11上移动的硅片1。上料初始的时候，第一传送轨道11上没有硅片，最靠近左右汽缸5的传送轨道上的定位挡块抬起，其余的四个定位挡块缩进，以便于第一片硅片流入；到位后，第二个定位挡块抬起，第二片硅片流入；依次，第三片、第四片和第五片硅片先后流入并被依次定位。
如图1所示，左右气缸5构造为在硅片1由定位挡块2定位后，带动底板4沿第一传送轨道11的传送方向水平移动，从而使得定位挡块2移动到与硅片1分离的分离位置。在本实施例中，当五块硅片全部到位并被相应的定位挡块分别定位之后，左右气缸5带动五个定位挡块2一起左移，然后五个升降气缸3一起下降，交叉传送机构13抬起，把硅片1通过第二传送轨道12送进硅片处理设备比如清洗机。
图3是本实用新型的用于下料机的定位机构的示意图；图4为下料机的传送机构的示意图。如图4所示，在下料过程中，传送机构包括顺次传送硅片的第一传送轨道21和第二传送轨道22，第一传送轨道21与第二传送轨道22垂直相接。在第一传送轨道21与第二传送轨道22的垂直相接处设置有交叉传送装置23，交叉传送装置23构造为将硅片从第一传送轨道21传送到第二传送轨道22，定位挡块靠近交叉传送装置23而设置。
如图3所示的定位机构的底板40设置于第二传送轨道22的外侧并与第二传送轨道22的传送方向平行，用于连接汽缸6和定位挡块20；定位挡块20沿所述第二传送轨道22的传送方向间隔设置于底板4上，用于在第一传送轨道21的传送方向上定位硅片1；气缸6与底板40连接，并构造为带动底板40移动，从而在硅片1到位之前控制定位挡块20移动至定位位置并在硅片1由定位挡块20定位后控制定位挡块20移动到与硅片1分离的分离位置，然后，第二传送轨道22将硅片1传送进入硅片承载盒。这样，硅片1在传送过程中与定位挡块20是分离的，从而减轻了对硅片的损坏，减少了碎片的产生，保证了生产的正常和连续。
如图4所示，为了提高下料的效率，较优选的，下料机的第二传送轨道22可以设置为两个，每一第二传送轨道22的外侧均设置有硅片定位机构及相应的硅片收集承载盒。
在本实施例中，定位挡块20的与硅片1接触的一面为平面。定位挡块2由塑料制成，一般为高聚物制成。
在本实用新型的上述实施例中的上、下料机的定位档块的数量可根据实际硅片处理设备的容量配置进行相应得设置。
本实用新型不局限于上述特定实施例，在不背离本实用新型精神及其实质情况下，熟悉本领域的技术人员可根据本实用新型作出各种相应改变和变形，但这些相应改变和变形都应属于本实用新型所附权利要求保护范围之内。

Claims (10)

1.一种定位机构，用于在太阳电池的制造过程中对传送机构所传送的硅片进行定位，所述传送机构包括顺次传送所述硅片的第一传送轨道和第二传送轨道，所述第一传送轨道与第二传送轨道垂直相接，其特征在于，所述定位机构包括：
多个定位挡块，其可移动地设置在所述第一传送轨道的传送方向上，用于在所述第一传送轨道的传送方向上定位所述硅片；
至少一个气缸，其构造为在所述硅片到位之前控制所述定位挡块移动至定位位置，并在所述硅片由所述定位挡块定位后控制所述定位挡块移动到与所述硅片分离的分离位置。
2.如权利要求1所述的定位机构，其特征在于，所述定位机构还包括：
底板，其平行于所述第一或第二传送轨道的传送方向设置，用于固定和/或连接所述定位挡块或所述气缸。
3.如权利要求2所述的定位机构，其特征在于：
所述底板设置于所述第一传送轨道的下方并平行于所述第一传送轨道的传送方向；
所述气缸包括沿所述底板的长度方向设置于所述底板上的多个升降气缸；
所述多个定位挡块与各个所述升降气缸的气缸轴连接，并在气缸的控制下在所述硅片到位之前依次从所述第一传送轨道的表面穿出，以依次定位在所述第一传送轨道上移动的硅片。
4.如权利要求3所述的定位机构，其特征在于，所述气缸还包括与所述底板的一侧连接的水平气缸，其构造为在所述硅片由所述定位挡块定位后，带动所述底板沿所述第一传送轨道的传送方向水平移动，从而使得所述定位挡块移动到与所述硅片分离的分离位置。
5.如权利要求2所述的定位机构，其特征在于：
所述底板设置于所述第二传送轨道的外侧并与所述第二传送轨道的传送方向平行；
所述定位挡块沿所述第二传送轨道的传送方向间隔设置于所述底板上；
所述气缸与所述底板连接，并构造为带动所述底板移动，从而在所述硅片到位之前控制所述定位挡块移动至定位位置并在所述硅片由所述定位挡块定位后控制所述定位挡块移动到与所述硅片分离的分离位置。
6.如权利要求1所述的定位机构，其特征在于，所述传送机构还包括设置在所述第一传送轨道与第二传送轨道的垂直相接处的交叉传送装置，所述交叉传送装置构造为将所述硅片从所述第一传送轨道传送到所述第二传送轨道，所述定位挡块靠近所述交叉传送装置而设置。
7.如权利要求1所述的定位机构，其特征在于，所述定位挡块的与所述硅片接触的一面为平面。
8.如权利要求1所述的定位机构，其特征在于，所述定位挡块由塑料制成。
9.如权利要求1所述的定位机构，其特征在于，所述定位挡块由高聚物制成。
10.一种制造太阳电池用的硅片处理设备，其特征在于，包括硅片传送机构及如权利要求1至9任一项所述的对传送机构所传送的硅片进行定位的定位机构。
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