CN201801582U - 磁控溅射真空镀膜机组 - Google Patents

Abstract

磁控溅射真空镀膜机组，其结构特点为：入端大气真空转换室的真空门阀之外设置与分段传动总成相垂直的第一玻璃转运装置，出端大气真空转换室的真空门阀之外设置与分段传动总成相垂直的第二玻璃转运装置，第一玻璃转运装置的一端与入端大气真空转换室的真空门阀之间相互间隔，第二玻璃转运装置的一端与出端大气真空转换室的真空门阀之间相互间隔，第一玻璃转运装置和第二玻璃转运装置的另一端之间有与分段传动总成相平行的行走轨道。采用本机组后，操作人员的劳动强度较小，可满足大规模工业化生产的需求。

Description

磁控溅射真空镀膜机组

技术领域

本实用新型涉及一种镀膜机组，特别是涉及一种针对太阳能电池背电极镀膜的磁控溅射真空镀膜机组。

背景技术

目前，薄膜太阳能电池行业中在导电衬底玻璃上产生背电极的方法以磁控溅射真空镀膜为主。背电极材料根据不同的电池结构采用不同的材料，非晶硅或微晶硅太阳能电池主要采用铝、氧化锌等作为背电极材料。铝材料具有导电性能好、价格便宜等优点，为了防止铝材料向半导体材料中扩散、使电池的性能下降，还可以在背电极的铝膜内增添一层氧化锌膜，这样可提高背电极的反射作用。

在磁控溅射铝膜或氧化锌膜的过程中，一般采用立式双边镀膜的磁控溅射机组。立式双边镀膜时，在导电衬底玻璃的透明导电膜上沉积出非晶硅膜或微晶硅膜；将沉积有非晶硅膜或微晶硅膜的两片导电衬底玻璃以玻璃面相对、非晶硅膜或微晶硅膜朝外的方式放置在立式玻璃基片装载架的宽度方向两侧；利用真空泵组将磁控溅射机组真空至10-5托以下，通入反应气体，打开直流或射频电源，开始启辉；通过常规的自动传动装置，带动玻璃基片装载架在磁控溅射机组(该机组包括呈直线布置的若干真空室)内依次连续直线移动，且该机组内的真空镀膜室中至少装有两对铝溅射靶或氧化锌溅射靶，它们顺着玻璃基片装载架的移动方向布置且与导电衬底玻璃上的非晶硅膜或微晶硅膜相对，处理结束后，使得两片导电衬底玻璃的非晶硅膜或微晶硅膜上均沉积有铝膜或氧化锌膜，从而在两片导电衬底玻璃上产生背电极。

该机组存在以下缺陷：

因该机组中缺乏玻璃基片装载架的转运装置、过渡台及行走轨道等辅助设备，虽然设备成本有所降低，但是，镀膜前多名操作人员要花费大量的准备时间，镀膜时多名操作人员更要来回奔波进行玻璃基片装载架的转运，操作人员之间无法良好地衔接配合，难以实现连续化地不间断作业，这严重影响了镀膜质量和镀膜效率，人力成本较高。

综上所述，采用该机组后，操作人员的劳动强度较大，难以满足大规模工业化生产的需求。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种磁控溅射真空镀膜机组，采用本机组后，操作人员的劳动强度较小，可满足大规模工业化生产的需求。

为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种磁控溅射真空镀膜机组，它包括依次相连的入端大气真空转换室、入端真空过渡室、入端真空缓冲室、真空镀膜室、出端真空缓冲室、出端真空过渡室、出端大气真空转换室，入端大气真空转换室的进口设置真空门阀，出端大气真空转换室的出口设置真空门阀，入端大气真空转换室与入端真空过渡室之间、入端真空过渡室与入端真空缓冲室之间、出端真空缓冲室与出端真空过渡室之间、出端真空过渡室与出端大气真空转换室之间均设置真空门阀，入端真空缓冲室、真空镀膜室、出端真空缓冲室依次连通，入端大气真空转换室与第一真空泵组相接，入端真空过渡室、入端真空缓冲室、真空镀膜室、出端真空缓冲室、出端真空过渡室均与第二真空泵组相接，出端大气真空转换室与第三真空泵组相接，所述的每个室内按照同一轴线排布的方式设置分段传动总成，真空镀膜室中至少装有两对溅射靶，它们顺着分段传动总成的排布方向布置且相对错开排列，入端大气真空转换室的真空门阀之外设置与分段传动总成相垂直的第一玻璃转运装置，出端大气真空转换室的真空门阀之外设置与分段传动总成相垂直的第二玻璃转运装置，第一玻璃转运装置的一端与入端大气真空转换室的真空门阀之间相互间隔，第二玻璃转运装置的一端与出端大气真空转换室的真空门阀之间相互间隔，第一玻璃转运装置和第二玻璃转运装置的另一端之间有与分段传动总成相平行的行走轨道。

为能简洁说明问题起见，以下对本实用新型所述磁控溅射真空镀膜机组均简称为本机组。

由上述方案可见，因本机组中包括玻璃基片装载架的转运装置及行走轨道等辅助设备，并与所述的若干真空室形成可连续化镀膜作业的循环流水生产线，这样，整个镀膜操作仅需要两名操作人员(他们分别站位于入端大气真空转换室的真空门阀和出端大气真空转换室的真空门阀处)，且镀膜前只要花费少量的准备时间，镀膜时依靠所述的辅助设备即可方便地完成玻璃基片装载架的转运，操作人员无须为此来回奔波，两名操作人员可良好地衔接配合，从而实现连续化地不间断作业，有效提高了镀膜质量和镀膜效率，人力成本较低。

综上所述，采用本机组后，操作人员的劳动强度较小，可满足大规模工业化生产的需求。

作为本机组的改进，本机组还包括呈方形布置的第一过渡台、第二过渡台、第三过渡台、第四过渡台；

第一过渡台处于第一玻璃转运装置的一端与入端大气真空转换室的真空门阀之间，第一过渡台分别与第一玻璃转运装置的一端、入端大气真空转换室的真空门阀相互间隔，第一过渡台与分段传动总成共同一轴线；

第二过渡台处于第二玻璃转运装置的一端与出端大气真空转换室的真空门阀之间，第二过渡台分别与第二玻璃转运装置的一端、出端大气真空转换室的真空门阀相互间隔，第二过渡台与分段传动总成共同一轴线；

第三过渡台处于第一玻璃转运装置的另一端与行走轨道的一端之间，第三过渡台分别与第一玻璃转运装置的另一端、行走轨道的一端相互间隔，第三过渡台与分段传动总成相平行；

第四过渡台处于第二玻璃转运装置的另一端与行走轨道的另一端之间，第四过渡台分别与第二玻璃转运装置的另一端、行走轨道的另一端相互间隔，第四过渡台与分段传动总成相平行。

设置所述的四个过渡台，可对流进和流出所述若干真空室的玻璃基片装载架进一步起到缓冲、过渡的作用，从而使得玻璃基片装载架在转运时运行准确、移动匀速。

附图说明

图1是本机组俯视方向的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型的实施方式进行具体描述：

参见图1：

本机组包括依次相连的入端大气真空转换室1、入端真空过渡室2、入端真空缓冲室3、真空镀膜室4、出端真空缓冲室5、出端真空过渡室6、出端大气真空转换室7以及呈方形布置的第一过渡台15、第二过渡台16、第三过渡台17、第四过渡台18。

入端大气真空转换室1的进口设置真空门阀8，出端大气真空转换室7的出口设置真空门阀8。入端大气真空转换室1与入端真空过渡室2之间、入端真空过渡室2与入端真空缓冲室3之间、出端真空缓冲室5与出端真空过渡室6之间、出端真空过渡室6与出端大气真空转换室7之间均设置真空门阀8。真空门阀8为现有技术。

入端真空缓冲室3、真空镀膜室4、出端真空缓冲室5依次连通。入端大气真空转换室1与第一真空泵组12相接，入端真空过渡室2、入端真空缓冲室3、真空镀膜室4、出端真空缓冲室5、出端真空过渡室6均与第二真空泵组13相接，出端大气真空转换室7与第三真空泵组14相接。

所述的每个室为长方体状腔室，所述的每个室内按照同一轴线排布的方式设置分段传动总成20，分段传动总成20为轮式或者链式结构，为现有技术。真空镀膜室4中装有四对铝溅射靶4a，它们顺着分段传动总成20的排布方向布置且相对错开排列。

入端大气真空转换室1的真空门阀8之外设置与分段传动总成20相垂直的第一玻璃转运装置9，出端大气真空转换室7的真空门阀8之外设置与分段传动总成20相垂直的第二玻璃转运装置10。第一玻璃转运装置9的一端与入端大气真空转换室1的真空门阀8之间相互间隔，第二玻璃转运装置10的一端与出端大气真空转换室7的真空门阀8之间相互间隔，第一玻璃转运装置9和第二玻璃转运装置10的另一端之间有与分段传动总成20相平行的行走轨道11。

第一过渡台15处于第一玻璃转运装置9的一端与入端大气真空转换室1的真空门阀8之间，第一过渡台15分别与第一玻璃转运装置9的一端、入端大气真空转换室1的真空门阀8相互间隔，第一过渡台15与分段传动总成20共同一轴线。

第二过渡台16处于第二玻璃转运装置10的一端与出端大气真空转换室7的真空门阀8之间，第二过渡台16分别与第二玻璃转运装置10的一端、出端大气真空转换室7的真空门阀8相互间隔，第二过渡台16与分段传动总成20共同一轴线。

第三过渡台17处于第一玻璃转运装置9的另一端与行走轨道11的一端之间，第三过渡台17分别与第一玻璃转运装置9的另一端、行走轨道11的一端相互间隔，第三过渡台17与分段传动总成20相平行。

第四过渡台18处于第二玻璃转运装置10的另一端与行走轨道11的另一端之间，第四过渡台18分别与第二玻璃转运装置10的另一端、行走轨道11的另一端相互间隔，第四过渡台18与分段传动总成20相平行。

所述的每个室、每个过渡台、每个玻璃转运装置、行走轨道11为现有技术，它们上均可设置光电信号检测器(如图1中的实心黑点所示，图1中未示出光电信号检测器的件号)。这样，光电信号检测器发出信号给控制装置，由控制装置实施可靠地控制。

镀膜时，依靠本机组可方便地完成玻璃基片装载架19的转运。

以上所述的仅是本实用新型的一种实施方式。应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以作出若干变型和改进，这些也应视为属于本实用新型的保护范围。比如：在确保溅射靶顺着分段传动总成的排布方向布置且相对错开排列的前提条件下，真空镀膜室中所装溅射靶的对数可根据需要灵活决定。

Claims (2)

1.磁控溅射真空镀膜机组，包括依次相连的入端大气真空转换室、入端真空过渡室、入端真空缓冲室、真空镀膜室、出端真空缓冲室、出端真空过渡室、出端大气真空转换室，入端大气真空转换室的进口设置真空门阀，出端大气真空转换室的出口设置真空门阀，入端大气真空转换室与入端真空过渡室之间、入端真空过渡室与入端真空缓冲室之间、出端真空缓冲室与出端真空过渡室之间、出端真空过渡室与出端大气真空转换室之间均设置真空门阀，入端真空缓冲室、真空镀膜室、出端真空缓冲室依次连通，入端大气真空转换室与第一真空泵组相接，入端真空过渡室、入端真空缓冲室、真空镀膜室、出端真空缓冲室、出端真空过渡室均与第二真空泵组相接，出端大气真空转换室与第三真空泵组相接，所述的每个室内按照同一轴线排布的方式设置分段传动总成，真空镀膜室中至少装有两对溅射靶，它们顺着分段传动总成的排布方向布置且相对错开排列，其特征在于：入端大气真空转换室的真空门阀之外设置与分段传动总成相垂直的第一玻璃转运装置，出端大气真空转换室的真空门阀之外设置与分段传动总成相垂直的第二玻璃转运装置，第一玻璃转运装置的一端与入端大气真空转换室的真空门阀之间相互间隔，第二玻璃转运装置的一端与出端大气真空转换室的真空门阀之间相互间隔，第一玻璃转运装置和第二玻璃转运装置的另一端之间有与分段传动总成相平行的行走轨道。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射真空镀膜机组，其特征在于：

本机组还包括呈方形布置的第一过渡台、第二过渡台、第三过渡台、第四过渡台；

第一过渡台处于第一玻璃转运装置的一端与入端大气真空转换室的真空门阀之间，第一过渡台分别与第一玻璃转运装置的一端、入端大气真空转换室的真空门阀相互间隔，第一过渡台与分段传动总成共同一轴线；

第二过渡台处于第二玻璃转运装置的一端与出端大气真空转换室的真空门阀之间，第二过渡台分别与第二玻璃转运装置的一端、出端大气真空转换室的真空门阀相互间隔，第二过渡台与分段传动总成共同一轴线；

第三过渡台处于第一玻璃转运装置的另一端与行走轨道的一端之间，第三过渡台分别与第一玻璃转运装置的另一端、行走轨道的一端相互间隔，第三过渡台与分段传动总成相平行；

第四过渡台处于第二玻璃转运装置的另一端与行走轨道的另一端之间，第四过渡台分别与第二玻璃转运装置的另一端、行走轨道的另一端相互间隔，第四过渡台与分段传动总成相平行。