CN201374344Y - 一种新型真空吸笔 - Google Patents

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Abstract

本实用新型涉及太阳电池制造领域，特别涉及太阳电池制造工艺过程中对薄片基体材料的进行取放的真空吸笔。本实用新型真空吸笔包括气体通道管部以及与气体通道管部相连的吸盘，气体通道管部包括手持部及气体通孔。在所述吸盘上具有至少一个条状凹陷，所述条状凹陷与吸盘表面具有高度差，从而在条状凹陷边缘形成透气缝隙。本实用新型真空吸笔可以有效降低吸附过程中吸盘对薄片基体材料造成的吸附损伤，降低破片率，节省生产成本。

Description

一种新型真空吸笔
技术领域
本实用新型涉及光伏电池制造领域，特别涉及晶体硅电池制造过程的硅片吸取工具。
背景技术
在光伏电池，特别是晶体硅太阳电池的制造过程中，在对硅片进行表面制绒清洗后，需将硅片通过真空吸笔吸附置于石英舟中，然后将装载硅片的石英舟置于扩散炉中进行扩散；在扩散完成后，使用真空吸笔将硅片取出置于另一载具上经过去磷硅玻璃及刻蚀后，再使用真空吸笔将硅片放入石墨舟进行PECVD(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition，等离子增强化学气相沉积)工序。目前，在晶体硅太阳电池制造过程中，使用的真空吸笔的结构参见图1，真空吸笔包括气体通道管部10以及与气体通道管部的一端相连的吸盘16，气体通道管部10具有手持部12以及气体通孔14，所述吸盘16的中部具有圆形内凹162，与吸盘表面具有高度差以形成环形透气缝隙164。当吸附硅片时，用手指堵住位于所述手持部12的气体通孔14，将所述吸盘16靠近硅片的侧面即可将硅片吸取并移至另一置放位置，然后松开堵住气体通孔14的手指，硅片即可从吸盘松开。在实际的使用过程当中，特别是当使用的硅片较薄时，比如，硅片厚度低于200微米时，发现在吸盘吸取的地方会出现明显圆形吸痕，或使硅片在局部产生应力，形成鼓包，导致本工序或者后续工序中的破片率升高；更有甚者，会在硅片表面形成圆形的孔洞，造成基体材料硅片的大量报废，使生产成本增加。
实用新型内容
为解决上述问题，减少太阳电池生产过程中的材料报废，降低生产过程中的硅片破片率，本实用新型提出一种新型真空吸笔，所述真空吸笔包括气体通道管部以及与气体通道管部相连的吸盘，其中，所述气体通道管部包括手持部及位于手持部的气体通孔，其特征在于，所述吸盘中部具有至少一个矩形条状凹陷，与所述吸盘表面具有高度差以形成透气缝隙。
如上所述，根据本实用新型的目的，所述矩形条状凹陷为两个矩形条状凹陷呈十字形设置，或为三个矩形条状凹陷呈放射状正三角形态设置或工字形设置。当然，根据所需吸附力的大小，也可对应设置一个或多个矩形条状凹陷。
采用本实用新型的真空吸笔，有效减少了吸附面积；另外还可以使吸附力在薄片吸附面上更为均匀分布，从而在吸附硅片时，不会在局部形成吸痕或者形成鼓包，甚至在硅片表面形成孔洞，降低了后段工艺的破片率及硅片的报废，有效节约生产成本。
附图说明
图1为已有的真空吸笔的结构示意图；
图2为图1所示真空吸笔的左视图；
图3为本实用新型的一实施例的真空吸笔的结构示意图；
图4为本实用新型的另一实施例的真空吸笔的结构示意图；
图5为本实用新型的又另一实施例的真空吸笔的结构示意图。
具体实施方式
如图3所示，本实用新型的真空吸笔包括气体通道管部20以及与气体通道管部的一端相连的吸盘26，所述气体通道管部20包括手持部22以及位于所述手持部的气体通孔24，所述吸盘的中部具有矩形条状凹陷262，与吸盘表面具有高度差以形成环形透气缝隙264。当吸附硅片时，用手指堵住所述手持部22的气体通闭孔24，将所述吸盘26靠近硅片的侧面即可将硅片吸取并移至另一置放位置，然后松开堵住气体通闭孔24的手指，硅片即可从吸盘松开，置于硅片放置容器中。
具体的，在本实施例中，矩形条状凹陷262为两个且呈十字型设置。另也可如图4所示的本实用新型另一实施例的设计，矩形条状凹陷262’为三个矩形条状凹陷且呈放射状正三角形态设置；或如图5所示的本实用新型又另一实施例的设计，矩形条状凹陷262”为三个矩形条状凹陷呈工字形设置。当然，本实用新型的真空吸笔的矩形条状凹陷可以根据实际所需吸附力的大小设置一个或多个。
如上所述，本实用新型的真空吸笔，由于其吸盘上的凹陷改为矩形条状凹陷，有效减少了吸附面积；另，优选的，采用多个矩形条状凹陷，还可以使吸附力在薄片吸附面上更为均匀分布，从而在吸附薄片如200微米以下的硅片时，不会在局部形成吸痕或者形成鼓包，甚至在硅片表面形成孔洞，降低了后段工艺的破片率及硅片的报废，有效节约生产成本。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非用于限定本实用新型，本领域的技术人员在不脱离本实用新型的精神及公开的范围内，仍可作一些更动或润色，故本实用新型的权利保护范围以权利要求书限定的范围为准。

Claims (4)

1、一种用于吸附薄片的真空吸笔，包括气体通道管部以及与所述气体通道管部的一端相连的吸盘，其中，所述气体通道管部包括手持部及位于所述手持部的气体通孔，其特征在于，所述吸盘上具有至少一个矩形条状凹陷，所述矩形条状凹陷与所述吸盘表面具有高度差，形成透气缝隙。
2、如权利要求1所述的真空吸笔，其特征在于，所述矩形条状凹陷为两个且呈十字形设置。
3、如权利要求1所述的真空吸笔，其特征在于，所述矩形条状凹陷为三个且呈放射状正三角形态设置。
4、如权利要求1所述的真空吸笔，其特征在于，所述矩形条状凹陷为三个且呈工字形设置。
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