CN200996060Y - 蓝宝石晶体成长烧结炉 - Google Patents

蓝宝石晶体成长烧结炉 Download PDF

Info

Publication number
CN200996060Y
CN200996060Y CN 200620175335 CN200620175335U CN200996060Y CN 200996060 Y CN200996060 Y CN 200996060Y CN 200620175335 CN200620175335 CN 200620175335 CN 200620175335 U CN200620175335 U CN 200620175335U CN 200996060 Y CN200996060 Y CN 200996060Y
Authority
CN
China
Prior art keywords
siege
stove
inlet pipe
inner furnace
sapphire crystal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN 200620175335
Other languages
English (en)
Inventor
庄育丰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hubei Apex Mstar Technology Ltd
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to CN 200620175335 priority Critical patent/CN200996060Y/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN200996060Y publication Critical patent/CN200996060Y/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

本实用新型公开了一种蓝宝石晶体成长烧结炉,它包括外炉,该外炉具有加热容间以容设内炉,加热容间内缘设有加热装置,加热容间上方设有具加热装置的二次燃烧室,该二次燃烧室连接具排风装置的冷却集尘装置。还包括有内炉,该内炉具有一炉床,炉床底端设有隔热层及冷却循环装置,炉床上端设有加热装置,炉床及隔热层外缘设有内炉体,内炉体与密封装置还设有结合装置,内炉设置有进气管及排气管。本实用新型内炉体内的气氛气体循环良好,进而达到均热的功效,以生产高质量氧化物人工晶体,节省时间及能源消耗,且成本较低、晶体质量和尺寸不受限制,且质量达到满足光学组件、半导体、通讯等组件的高性能要求,可在同一炉内预烧及长晶。

Description

蓝宝石晶体成长烧结炉
技术领域
本实用新型属于气氛炉技术领域,特别是指一种适用于蓝宝石晶体成长烧结炉。
背景技术
目前,氧化物人工晶体在现代科技产品的运用十分重要,以单晶蓝宝石晶体运用于光电产业的发光二极管(LED)为例,氮化镓(GaN)的材料研究也已超过二十年,但一直因为没有晶格常数配合的基板(Substrate),所以晶体长不好,并且p型氮化镓不易制成,所以进展缓慢,这些问题一直到1983年,日本的田贞史博士(S.Yoshida)等人用氮化铝(AlN)在蓝宝石(Sapphire)基板上先用高温成长做缓冲层,再在其上生长氮化镓时,结晶较好,之后名古屋大学的赤崎勇教授(I.Akasaki)等人发现以有机金属气相沉积法(MOCVD或OMVPE)均匀的在低温(约600℃)长一层薄的氮化铝,再在其上以高温(约1000℃左右)成长氮化镓可以得到像镜面的材料。1991年日亚公司(Nichia Co.)研究员中村修二(S.Nakamura)改用非晶体氮化镓以低温先成长为缓冲层(Buffer Layer),再以高温成长氮化镓时,也得到镜面般平坦的膜。另一个如何做p-GaN的问题也获得突破,1989年赤崎勇教授等人首先将镁(Mg)掺杂在氮化镓里使其成长,长成后进行电子束照射得到p型氮化镓,后来日亚公司的中村修二发现电子束不过是使氮化镓的温度升高,使Ma-H中的氢分离而镁受子被活性化产生低阻抗的氮化镓,他发现如果以700℃左右的热退火也可将氢赶走,使镁活性化而完成p型的工作。利用以上二个发现,日亚公司1993年宣布成功开发光度一烛光(Cd)的GaN蓝光发光二极管(LED),寿命长达数万小时。此消息发表后,立刻引起全世界的注意,目前全球各地已有很多机构在研究此类材料的制造、性质及应用。再者,由于蓝宝石基板(氧化铝单晶)的晶格与氮化镓非常接近,是非常适合的基板材料,因此蓝宝石基板的长成技术也就格外重要了。生产蓝宝石基板的主要关键技术在于2050℃高温中将氧化铝粉末熔化及生长晶体。而常用蓝宝石长晶所使用的高温烧结炉,需导入不同的气氛气体(隋性气体)于气氛炉内烧结,而烧结是一个相当重要的制程,因为烧结制程关系到蓝宝石晶体质量的好坏。常用的气氛炉由于对炉内温度控制不稳定,容易造成产品质量不佳。致使单晶蓝宝石长晶时间长、成本较高、晶体质量和尺寸受限制,这也是现行技术存有的最大缺陷,是本行业亟待解决的技术难题。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型的主要目的在于提供一种节省单晶蓝宝石长晶时间、成本较低、晶体质量和尺寸不受限制,且质量能满足光学、半导体、通讯等组件的高性能要求的成长烧结炉。
为达到上述目的,本实用新型的技术方案是这样实现的:一种蓝宝石晶体成长烧结炉,它包括外炉,该外炉具有加热容间以容设内炉,加热容间内缘设有加热装置,上方设有具加热装置的二次燃烧室,该二次燃烧室连接具排风装置的冷却集尘装置;上述的内炉包括有一炉床,炉床底端设有隔热层及冷却循环装置,炉床上端设有加热装置,炉床及隔热层外缘设有内炉体,内炉体与密封装置还设有结合装置,内炉设置有进气管及排气管。
上述的结合装置为快速接头。
上述的进气管,该进气管的端部外缘同心设置有排气管,该排气管的外径大于进气管的外径,而排气管的长度小于进气管的长度。
本实用新型可实现的技术效果如下:
1.本实用新型采用的内炉,包括有一炉床,炉床底端设有隔热层及冷却循环装置,炉床上端设有加热装置,炉床及隔热层外缘设有内炉体,内炉体在使用时可由密封装置与炉床密封,该内炉炉体与密封装置另设有结合装置,由此分离或结合内炉体与炉床,该内炉设置有进气管及排气管,故由进气管引进气氛气体,排气管的排出使用后的气氛气体,使内炉体内的气氛气体循环良好,进而达到均热的功效,以生产高质量氧化物人工晶体。
2.内炉设置有进气管,在该进气管的头端同心外缘设置排气管,该排气管外径较进气管大,长度较进气管短,设于中央的进气管引进气氛气体,排气管的排出使用后气氛气体,使内炉体内的气氛气体循环良好,以达到均热。
3.坩埚的设定温度约为2040~2300℃,所需时间根据体积确定,比现有技术节省约一倍的时间,也相对地节省了一倍的能源消耗,且成本较低、晶体质量和尺寸不受限制,且质量达到满足光学组件、半导体、通讯等组件的高性能要求,可满足在同一炉内预烧及长晶。
附图说明
图1为本实用新型蓝宝石晶体成长烧结炉的实施例剖视图。
图2为图1的内炉剖视图。
1-外炉
10-加热容间        11-加热装置
12-加热装置        13-二次燃烧室
2-内炉
20-炉床            21-隔热层
22-冷却循环装置    23-加热装置
24-内炉体          25-密封装置
26-结合装置
27-进气管          270-进气口
28-排气管          280-排气口
3-冷却集尘装置     30-排风装置
4-坩埚
具体实施方式
如图1~2所示,本实用新型蓝宝石成长烧结炉包括:外炉1,该外炉1具有加热容间10来容设内炉2,加热容间10的内缘设有加热装置11,加热容间10上方设有具加热装置12的二次燃烧室13,该二次燃烧室13连接具有排风装置30的冷却集尘装置3,将经二次燃烧室13完全燃烧后的气体冷却,杂质滤除后的达到了排放标准可被排出。
本实用新型蓝宝石成长烧结炉还包括内炉2,该内炉2包括有一炉床20,炉床20底端设有隔热层21及冷却循环装置22,炉床20上端设有加热装置23,炉床20及隔热层21外缘设有内炉体24,内炉体24在使用时可此密封装置25密封,内炉体24与炉床20为可分离式,并由密封装置25密封,密封装置在阻绝内部气氛气体外泄,一般采用硅橡胶类材质制成。该内炉体24与密封装置25也可另设有结合装置26,本实施例用快速接头连接(也可用螺栓连接),可快速分离内炉体24与炉床20,该内炉20设置有进气管27,在该进气管27的顶端外缘同心设置排气管28,该排气管28的外径大于进气管27,而其长度小于进气管27,并由设于中央的进气管进气口270引进气氛气体,及排气管排气口280的排出使用后气氛气体,使内炉体24内的气氛气体循环良好,进而达到均热的功效,以生产高质量氧化物人工晶体者。
本实用新型被运用于蓝宝石晶体长成过程如下:单晶蓝宝石为氧化物人工晶体一种,先将预定外形氧化铝坯体置入本实用新型的炉床20上预烧,预烧温度可设定在1600℃以上,可以预烧成半熟状态的氧化铝块(cake),可以消除微小的有机物、杂质、气泡等,并产生密实的比重,由于有机物、杂质等通常都是质量较轻且易漂浮,故可在高温中除去,并通过排风装置30将含杂质空气导入二次燃烧室13,高温下将杂质完全燃烧,再经冷却集尘装置3将经二次燃烧室13完全燃烧后的气体冷却、杂质滤除后达到排放标准而被排出。再将该经预烧完成的氧化铝块置入一坩埚4,为了取得蓝宝石晶体生长正确取向,在该坩埚4的底面设有籽晶(图中未示出),并将该坩埚4置于炉床20上,并将内炉体24与炉床20通过结合装置26结合,然后将内炉体24抽真空并导入惰性气体,同时提高温度,将半熟状态的氧化铝块加热至溶解状态,直至长晶完成并固化、冷却、收缩成单晶蓝宝石,而炉床20底端设有的隔热层21及冷却循环装置22则用于降温,避免籽晶及密封装置25烧毁。
坩埚4可由钼、锆、铂、铱等材质制成,其设定温度约为2040~2300℃,所需时间根据体积确定,比现有技术节省约一倍的时间,也相对地节省了一倍的能源消耗,且成本较低、晶体质量和尺寸不受限制,且质量达到满足光学组件、半导体、通讯等组件的高性能要求,且本实用新型可满足在同一炉内预烧及长晶。
以上所述,仅为本实用新型的较佳实施例而已,并非用于限定本实用新型的保护范围。

Claims (3)

1.一种蓝宝石晶体成长烧结炉,其特征在于,它包括:
外炉,该外炉具有加热容间以容设内炉,加热容间内缘设有加热装置,上方设有具加热装置的二次燃烧室,该二次燃烧室连接具排风装置的冷却集尘装置;所述的内炉包括有一炉床,炉床底端设有隔热层及冷却循环装置,炉床上端设有加热装置,炉床及隔热层外缘设有内炉体,该内炉体与密封装置还设有结合装置,该内炉设置有进气管及排气管。
2.如权利要求1所述的蓝宝石晶体成长烧结炉,其特征在于,所述的结合装置为快速接头。
3.如权利要求1或2所述的蓝宝石晶体成长烧结炉,其特征在于,所述的进气管的端部外缘同心设置有排气管,该排气管的外径大于进气管的外径,而排气管的长度小于进气管的长度。
CN 200620175335 2006-12-18 2006-12-18 蓝宝石晶体成长烧结炉 Expired - Fee Related CN200996060Y (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 200620175335 CN200996060Y (zh) 2006-12-18 2006-12-18 蓝宝石晶体成长烧结炉

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 200620175335 CN200996060Y (zh) 2006-12-18 2006-12-18 蓝宝石晶体成长烧结炉

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN200996060Y true CN200996060Y (zh) 2007-12-26

Family

ID=38994489

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN 200620175335 Expired - Fee Related CN200996060Y (zh) 2006-12-18 2006-12-18 蓝宝石晶体成长烧结炉

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN200996060Y (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101942698A (zh) * 2010-09-28 2011-01-12 四川鑫通新材料有限责任公司 α-三氧化二铝单晶体的制备方法
CN102212871A (zh) * 2011-05-23 2011-10-12 无锡斯达新能源科技有限公司 蓝宝石晶体的生长方法及蓝宝石晶体生长用的长晶炉结构

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101942698A (zh) * 2010-09-28 2011-01-12 四川鑫通新材料有限责任公司 α-三氧化二铝单晶体的制备方法
CN101942698B (zh) * 2010-09-28 2012-07-04 四川鑫通新材料有限责任公司 α-三氧化二铝单晶体的制备方法
CN102212871A (zh) * 2011-05-23 2011-10-12 无锡斯达新能源科技有限公司 蓝宝石晶体的生长方法及蓝宝石晶体生长用的长晶炉结构

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101861661B (zh) Soi上的氮化镓半导体器件及其制造工艺
TWI434950B (zh) Gallium nitride (GaN) self-supporting substrate manufacturing method and manufacturing device
CN100470865C (zh) 一种提高氮化镓基led芯片抗静电能力的外延片生长方法
CN104952986B (zh) 一种GaN基白光LED外延结构的制备方法
CN101980383A (zh) 一种氮化镓基ⅲ-ⅴ族化合物半导体led外延片及其生长方法
CN105762240B (zh) 一种紫外发光二极管外延结构及其制备方法
WO2018076902A1 (zh) 晶棒的制作方法
CN107955970A (zh) 一种高质量氮化铝单晶的生长方法
CN102828239A (zh) 一种通过缺陷应力去除技术自分离氮化镓单晶材料制备自支撑衬底的方法
CN111739988A (zh) 一种垂直结构宽带近红外led及制备方法
CN104037291B (zh) 一种生长在图形化硅衬底上的半极性GaN薄膜及其制备方法
CN200996060Y (zh) 蓝宝石晶体成长烧结炉
CN101205628A (zh) 蓝宝石晶体生长方法
CN111430220A (zh) GaN自支撑衬底的制备方法
CN202226961U (zh) 蓝宝石单晶长晶炉
CN100580155C (zh) 一种化学气相传输方法生长氧化锌晶体的方法
CN202297877U (zh) 长晶炉加热装置
CN110172733B (zh) 一种高质量锡酸锌单晶薄膜及其制备方法
CN105834171A (zh) 一种利用mocvd设备对石墨托盘进行腐蚀清洗的方法
CN106229388A (zh) 一种氮化镓基发光二极管的外延片的制备方法
CN202214439U (zh) 高效率蓝宝石晶体长晶炉
CN113668061B (zh) 一种提高氮化铝晶片紫外透过率的方法
CN110021686A (zh) 一种mini LED芯片的制备方法及外延垒晶晶片、芯片
CN108330536A (zh) PA-MBE同质外延高质量GaN单晶薄膜的制备方法
CN101413142A (zh) 铝酸锂晶体的退火方法

Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: HUBEI XIANDUAN MATERIAL TECHNOLOGY CO., LTD.

Free format text: FORMER OWNER: ZHUANG YUFENG

Effective date: 20111028

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
COR Change of bibliographic data

Free format text: CORRECT: ADDRESS; FROM: TAIWAN, CHINA TO: 430072 WUHAN, HUBEI PROVINCE

TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20111028

Address after: 430072, Huaguang road 18, Kanto science and Technology Industrial Zone, East Lake Development Zone, Wuhan, Hubei

Patentee after: Hubei apex Mstar Technology Ltd

Address before: Wenchang street Chinese Taiwan Taoyuan bade City No. 8 Lane 111

Patentee before: Zhuang Yufeng

C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20071226

Termination date: 20111218