CN1987420A - 一种对单一颗粒物进行多功能检测的微流控芯片装置 - Google Patents
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Abstract
一种对单一颗粒物进行多功能检测的微流控芯片装置,包括:其上设有由连通的第一、第二部分水平凹槽组成的水平凹槽的基片;水平凹槽一侧设内装光纤的第一垂向凹槽,另一侧设第二垂向凹槽;第一、第二部分水平凹槽和第二垂向凹槽外端处分别设进液池、出液池和发光试剂进样池;一紧密贴于基片上的盖板;与第一垂向凹槽共轴的激光器,光纤将激光器输出的激光引入到微流控芯片装置中;一位于基片下方的配有滤光片的光电倍增管,其安放方向和光纤引入方向正交;位于第一部分水平凹槽1与第二部分水平凹槽连接处正上方荧光显微镜。使用时待测颗粒物被引入通道并定位在粗细通道交界处,便可对该待测颗粒物进行多功能检测。结构简单,使用和制作方便。
Description
发明领域
本发明是关于在微流控芯片上实现对单一颗粒物进行在线检测的集成荧光显微成像、化学发光和激光诱导荧光的多功能检测装置。
背景技术
微全分析系统(μTAS)的思想是在20世纪90年代初提出的。其核心思想是将整个实验室的功能集成到方寸大小的平台上,使之微型化、自动化、高度集成化和便携化。这种体积小、集成便携式的“芯片上的实验室”包括了常用的分析检测中所需要的功能,包括进样、预处理、分离、检测等,不仅能极大地减少分析时间和样品用量,而且为实地采样、在线检测、过程控制等特殊实验工作提供了极大的方便。所以,微全分析系统在分析仪器和分析科学领域产生了重大影响,是目前的研究热点,并引导分析技术向着微型化、集成化和便携化的趋势发展。在微全分析系统领域里,微流控芯片是最主要的研究方向,利用微加工工艺在玻璃或者高聚物材料上制作出微通道、微阀、微反应器、微检测器等功能单元,从而构成一个可以独立运行的微型检测系统。
对单一颗粒物进行的研究是分析化学、环境化学、生物学等领域的重要研究内容。通过使用微流控芯片对单细胞等进行的研究已经比较深入地展开,并取得了很多的成果,但是对于其他的单一颗粒物的研究几乎还没有开展。目前在分析化学和环境化学中,单一颗粒物的研究主要集中在分析单一颗粒物的组成和含量上。使用的仪器主要有电子探针、激光显微质谱、质子诱导X射线荧光、飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)等。以上这些研究手段只能给出颗粒物上所含物质的成分,并不能对颗粒物内部各种物质的分布以及单一颗粒物上各种物质的扩散过程进行研究。目前研究的难点主要有两个方面:(1)对单一颗粒物的操作是很困难的。目前研究的单一颗粒物的直径一般在几十到几百微米之间,使用一般的仪器和方法很难对其进行选择、移动、定位等操作。(2)单一颗粒物含有的化学物质极其微量,使用通常的检测手段一般不能够对待测物质进行有效的检测。
本发明通过使用微流控芯片来实现对单一颗粒物进行移动和定位,并且使用的微流控芯片结构简单,制作方便,成本低廉,可以重复使用。在采用的检测手段上,利用微流控芯片体积小的特点,可以同时使用三种高灵敏度的检测手段,包括荧光显微成像、激光诱导荧光和化学发光检测法。荧光显微成像可以实时观测待测物在颗粒物内部的分布情况,激光诱导荧光和化学发光检测法都具有极高的灵敏度,两者相互补充可以对多种化学物质进行有效的检测。使用微流控芯片并结合三种高灵敏度的检测方法,可以有效研究单一颗粒物内部的各种组分及其分布,并且可以分析待测物在不同溶剂作用下的洗脱过程从而研究其动力学机理。
发明内容
本发明的目的在于利用化学加工手段制作出结构简单的对单一颗粒物进行多功能检测的微流控芯片装置,将其用于单一颗粒物的分析和检测。该装置的微流控芯片的通道采用粗细不同的两部分,颗粒物从通道的粗通道部分的一端引入,在注射泵的驱动下在粗通道部分中迁移,到达粗通道部分末端时被拦截并定位在该的末端。由于微流控芯片本身的体积很小,可以在其周围的空间集成多种检测器。本发明中使用了三种检测方法:荧光显微成像、激光诱导荧光和化学发光检测法。不仅可以对颗粒物含有的化学物质进行二维成像研究,还可以通过使用不同的溶剂将颗粒物内部的化学物质洗脱下来进行研究,从而研究脱附的动力学。本发明中使用的微流控芯片具有结构简单,易于批量加工,可重复使用等优点。三种检测手段同时使用,可以对颗粒物进行多种模式的研究从而准确和全面地进行分析检测。
本发明的技术方案如下:
本发明提供的对单一颗粒物进行多功能检测的微流控芯片装置,包括:
一基片1;
所述基片1的上表面上设置一水平凹槽,该水平凹槽由相互连通的第一部分水平凹槽11和第二部分水平凹槽12组成,所述第一部分水平凹槽11的截面面积为0.03-0.08mm2,所述第二部分水平凹槽12的截面面积为0.002-0.004mm2;
设置在所述基片1上表面上的所述水平凹槽一侧且与所述水平凹槽垂直的内装光纤的第一垂向凹槽13,所述第三垂向凹槽13的内端距所述第二水平凹槽12的槽边0.15-0.2mm;
设置在所述基片1上表面上的所述水平凹槽另一侧且与所述水平凹槽垂直相通的第二垂向凹槽14;所述第二垂向凹槽14的截面面积为0.08-0.1mm2;
设置在所述第一部分水平凹槽11外端处的与所述第一部分水平凹槽11相通的圆筒型进液池112;
设置在所述第二部分水平凹槽12外端处且与第二部分水平凹槽12相通的圆筒型出液池122;
设置在所述第二垂向凹槽14外端部处且与所述第二垂向凹槽14相通的圆筒型发光试剂进样池142;
一紧密贴合于所述基片1上表面上且与所述基片1尺寸相同的盖板;在所述盖板上与所述圆筒型进液池112和圆筒型出液池122以及圆筒型发光试剂池142的相对应处分别设有通孔,所述通孔上分别连接进液管111、出液管121以及发光试剂进样管141;
一激光器3及一光电倍增管4;所述激光器3与所述第一垂向凹槽13共轴,所述装在所述第一垂向凹槽13的光纤将激光器3输出的激光引入到微流控芯片装置中;所述光电倍增管4配置有滤光片并位于所述基片1的下方,其安放方向和光纤的引入方向正交;
一带有CCD的荧光显微镜2;所述带有CCD的荧光显微镜2位于所述第一部分水平凹槽11与所述第二部分水平凹槽12连接处正上方。
所述的基片为玻璃基片或硅基基片。
所述水平凹槽的第一部分水平凹槽11和第二部分水平凹槽12分别为方形截面的方形凹槽或半圆形截面的半圆形凹槽。
所述垂向第一凹槽13为方形截面的方形凹槽或半圆形截面的半圆形凹槽。
所述的第二垂向凹槽14为截面为方形的方形凹槽或截面为半圆形的半圆形凹槽。
所述圆筒型进液池112、圆筒型出液池122和圆筒型发光试剂进样池142的直径皆为1mm,深度皆为0.5mm。
本发明的对单一颗粒物进行多功能检测的微流控芯片装置具体制做如下:
1、基片设计
为了将单一颗粒物固定在微流控芯片中的某一位置,需要将通道(凹槽)加工成特殊结构。本发明使用的是将凹槽的不同部位加工成内径不同的管道,从而在粗通道中引入颗粒物并定位在粗细通道的交界处。为了使用激光诱导荧光检测法,在通道的侧面设计了一条与主通道不相联的通道,用于将光纤插入。为了使用化学发光检测法,在主通道的另一侧设计了与主通道相通的通道用于引入化学发光试剂。
2、基片的制作
1)掩膜的制作
用Adobe Illustrator CS画图软件设计光刻掩膜,掩膜上的水平凹槽由第一部分水平凹槽11和第二部分水平凹槽12组成,位于水平凹槽轴向两侧的第一垂向凹槽13和第二垂向凹槽14;用激光照排机输出掩膜胶片。
2)光刻
在暗室中,将掩膜覆盖在匀胶铬版上并压紧,置于紫外灯下曝光,经过显影和清洗,掩膜上的图形就被转移到了铬版的光胶层上。将铬版放入烘箱中加热来加固光刻胶。
3)湿法刻蚀
室温下将曝光后的铬版放入铬刻蚀液中,腐蚀没有光胶层保护的铬层,高纯水冲洗干净后,烘干。室温下用玻璃刻蚀液刻蚀通道。当第二部分水平凹槽12(细通道)达到所要求的尺寸后,用透明胶带将第二部分水平凹槽12保护起来,将基片1转移到高浓度的刻蚀液中继续刻蚀,直到第一部分水平凹槽11符合设计要求并且光纤通道能够容纳光纤时为止。刻蚀完成后,依次除去残存的光胶层和铬层,并用高纯水冲洗干净得到玻璃基片1。
4)打孔
在基片1上的水平凹槽的两端位置用微型台钻分别打孔,制做第一储液池112、第二储液池122,在基片1上的第二垂向凹槽14的外端位置处用微型台钻打孔,制做第三储液池142。
5)热键合
将基片1和盖板清洗后,放入浓H2SO4/H2O2的混合溶液中,加热煮沸。待冷却后用去离子水冲洗至玻璃片表面呈中性。在去离子水中将两片合拢压紧后取出,吹干后将合拢的玻璃片放入马弗炉进行热键合。
3、组装:
为了将颗粒物引入通道以及将各种溶液引入,分别在第一储液池112、第二储液池122和第三储液池142处固定连接进液管111、出液管12以及发光试剂进样管141。本发明中同时使用了三种检测手段,分别需要相关的仪器和管路配套使用。荧光显微成像2只需配置荧光显微镜即可进行检测。不使用汞灯光源时可以作为普通的显微镜用来观察颗粒物。激光诱导荧光需要一个激光器作为激光光源激发光;第一垂向凹槽13内装光纤,光纤将激光器3输出的激光引入到芯片装置中;检测器使用光电倍增管4,并且需要配置相应的滤光片,所述光电倍增管4安放的方向和光纤的引入方向正交。化学发光检测不需要光源,只需向通道中引入化学发光试剂即可进行检测,以基片为中心,将各检测器和相关设备合理的安放在基片周围,最大化利用空间。装置的整体结构示意图如附图2所示。
4、工作流程和原理
使用注射泵将含有颗粒物的载液从进液管111的进样口送入基片1的第一部分水平凹槽11,使单个颗粒物固定在第一部分水平凹槽11和第二部分水平凹槽12的交界处;可以使用显微镜观察颗粒物的形貌;启动荧光显微镜2的汞灯光源,进行荧光显微成像的检测;从第二垂向凹槽14的进样口引入相应的化学发光试剂溶液,可以观察颗粒物荧光成像的变化;启动激光器3并配合光电倍增管4,可以进行激光诱导荧光的检测;颗粒物含有的化学物质被特定溶液洗脱后流动至激光照射处,激发出荧光,通过滤光片滤除激发光,被光电倍增管检测到荧光信号;化学发光信号同样由光电倍增管检测,不同之处在于不需要使用滤光片。化学发光试剂从第二垂向凹槽14引入后,在激光诱导荧光检测点之后与主通道中的液体混合并产生化学发光信号,被光电倍增管检测。
在本发明中,可以依次使用三种检测手段对单一颗粒物进行研究。通过合理的设计和巧妙的安排,可以使三种手段相对独立,避免了相互干扰,同时也可以节省空间,充分利用仪器设备的性能。不同的检测手段具有不同的功能,可以从不同的方面对单一颗粒物进行研究,从而得到比较全面和系统的结果。
芯片设计与制作的具体实施方式
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
具体实施方式
实施例1:玻璃芯片的制作
1)掩膜设计:掩膜胶片上通道的结构及尺寸设计如附图1A所示。主通道为粗细相连,宽度分别为150μm和80μm,侧通道为80μm,光纤通道宽度设计为120μm。如果研究对象的尺寸发生变化,可以相应修改通道的设计宽度。
2)基片1的制作:将掩膜胶片置于63mm×63mm×1.5mm的匀胶铬版上并压紧,使用波长365nm的紫外灯曝光180秒,然后在0.5%的氢氧化钠显影液中显影30秒。用去离子水清洗后,在100℃下烘干半小时。在室温下用铬刻蚀液(硫酸铈铵∶高氯酸∶水=50克∶15毫升∶300毫升)去除铬层,然后用高纯水冲洗干净并烘干。用0.5M HF/0.5M NH4F玻璃刻蚀剂腐蚀裸露的玻璃,刻蚀一段时间后,在体式显微镜下测量通道宽度。通道截面为半圆形,当细通道直径达到100μm后,用透明胶带将细通道保护起来,将基片转移到高浓度的1M HF/1MNH4F腐蚀剂中继续刻蚀,直到粗通道直径为350μm并且光纤通道能容纳光纤时停止刻蚀。再依次用丙酮、铬刻蚀液除去残余光胶层和铬层,得到具有通道结构的玻璃基片。用微型台钻打孔,钻头为1mm的金刚钻头,孔的直径即为液池直径为1mm。得到的玻璃基片的结构和尺寸如附图1B和1C所示。
3)盖板的制作:裁取一块与基片同样尺寸的匀胶铬版,分别使用丙酮和铬刻蚀液除去光胶层和铬层,即得玻璃盖板。
4)将基片1和盖板依次在乙醇和去离子水中超声清洗10min后,放入浓H2SO4/H2O2(3∶1,V∶V)的混合溶液中,加热煮沸半小时。待冷却后,将其取出并用去离子水冲洗至玻璃片表面呈中性。在去离子水中将两片合拢压紧后取出,吹干后将合拢的玻璃片平放在一块氟化钙晶体垫板上,基片在上,盖板在下,然后放入马弗炉进行热键合。马弗炉的升温程序为:以25℃/min的升温速度从室温升到550℃,在550℃恒温半小时;以1℃/min的升温速度从550℃升到610℃,在610℃恒温半小时;以1℃/min的升温速度从610℃升到635℃,在635℃恒温半小时;以1℃/min的升温速度从635℃升到650℃,在650℃恒温6小时;然后自然降温。对于一个加热循环后没有键合好的地方,可通过施加重物来增加压力,再进行一个加热循环,以实现完全键合。
实施例2玻璃芯片的制作
1)掩膜设计:掩膜胶片上通道的结构及尺寸设计如附图1A所示。主通道为粗细相连,宽度分别为120μm和60μm,侧通道为80μm,光纤通道宽度设计为120μm。如果研究对象的尺寸发生变化,可以相应修改通道的设计宽度。
2)基片1的制作:将掩膜胶片置于63mm×63mm×1.5mm的匀胶铬版上并压紧,使用波长365nm的紫外灯曝光180秒,然后在0.5%的氢氧化钠显影液中显影30秒。用去离子水清洗后,在100℃下烘干半小时。在室温下用铬刻蚀液(硫酸铈铵∶高氯酸∶水=50克∶15毫升∶300毫升)去除铬层,然后用高纯水冲洗干净并烘干。用0.5M HF/0.5M NH4F玻璃刻蚀剂腐蚀裸露的玻璃,刻蚀一段时间后,在体式显微镜下测量通道宽度。通道截面为矩形,当细通道宽度达到80μm后,用透明胶带将细通道保护起来,将基片转移到高浓度的1M HF/1M NH4F腐蚀剂中继续刻蚀,直到粗通道宽度为280μm并且光纤通道能容纳光纤时停止刻蚀。再依次用丙酮、铬刻蚀液除去残余光胶层和铬层,得到具有通道结构的玻璃基片。用微型台钻打孔,钻头为1mm的金刚钻头,孔的直径即为液池直径为1mm。得到的玻璃基片的结构和尺寸如附图1B和1C所示。粗通道和细通道的深度分别为100μm和30μm,光纤通道深160μm。
3)盖板的制作:裁取一块与基片同样尺寸的匀胶铬版,分别使用丙酮和铬刻蚀液除去光胶层和铬层,即得玻璃盖板。
4)将基片1和盖板依次在乙醇和去离子水中超声清洗10min后,放入浓H2SO4/H2O2(3∶1,V∶V)的混合溶液中,加热煮沸半小时。待冷却后,将其取出并用去离子水冲洗至玻璃片表面呈中性。在去离子水中将两片合拢压紧后取出,吹干后将合拢的玻璃片平放在一块氟化钙晶体垫板上,基片在上,盖板在下,然后放入马弗炉进行热键合。马弗炉的升温程序为:以25℃/min的升温速度从室温升到550℃,在550℃恒温半小时;以1℃/min的升温速度从550℃升到610℃,在610℃恒温半小时;以1℃/min的升温速度从610℃升到635℃,在635℃恒温半小时;以1℃/min的升温速度从635℃升到650℃,在650℃恒温6小时;然后自然降温。对于一个加热循环后没有键合好的地方,可通过施加重物来增加压力,再进行一个加热循环,以实现完全键合。
实施例3玻璃芯片的制作
1)掩膜设计:掩膜胶片上通道的结构及尺寸设计如附图1A所示。主通道为粗细相连,宽度分别为180μm和100μm,侧通道为100μm,光纤通道宽度设计为120μm。如果研究对象的尺寸发生变化,可以相应修改通道的设计宽度。
2)基片1的制作:将掩膜胶片置于63mm×63mm×1.5mm的匀胶铬版上并压紧,使用波长365nm的紫外灯曝光180秒,然后在0.5%的氢氧化钠显影液中显影30秒。用去离子水清洗后,在100℃下烘干半小时。在室温下用铬刻蚀液(硫酸铈铵∶高氯酸∶水=50克∶15毫升∶300毫升)去除铬层,然后用高纯水冲洗干净并烘干。用0.5M HF/0.5M NH4F玻璃刻蚀剂腐蚀裸露的玻璃,刻蚀一段时间后,在体式显微镜下测量通道宽度。通道截面为半圆形,当细通道直径达到130μm后,用透明胶带将细通道保护起来,将基片转移到高浓度的1M HF/1MNH4F腐蚀剂中继续刻蚀,直到粗通道直径为400μm并且光纤通道能容纳光纤时停止刻蚀。再依次用丙酮、铬刻蚀液除去残余光胶层和铬层,得到具有通道结构的玻璃基片。用微型台钻打孔,钻头为1mm的金刚钻头,孔的直径即为液池直径为1mm。
3)盖板的制作:裁取一块与基片同样尺寸的匀胶铬版,分别使用丙酮和铬刻蚀液除去光胶层和铬层,即得玻璃盖板。
4)将基片1和盖板依次在乙醇和去离子水中超声清洗10min后,放入浓H2SO4/H2O2(3∶1,V∶V)的混合溶液中,加热煮沸半小时。待冷却后,将其取出并用去离子水冲洗至玻璃片表面呈中性。在去离子水中将两片合拢压紧后取出,吹干后将合拢的玻璃片平放在一块氟化钙晶体垫板上,基片在上,盖板在下,然后放入马弗炉进行热键合。马弗炉的升温程序为:以25℃/min的升温速度从室温升到550℃,在550℃恒温半小时;以1℃/min的升温速度从550℃升到610℃,在610℃恒温半小时;以1℃/min的升温速度从610℃升到635℃,在635℃恒温半小时;以1℃/min的升温速度从635℃升到650℃,在650℃恒温6小时;然后自然降温。对于一个加热循环后没有键合好的地方,可通过施加重物来增加压力,再进行一个加热循环,以实现完全键合。
实施例4
用实施例1、2或3的微流控芯片装置对颗粒物进行检测,步骤如下:
1)单一颗粒物的载入和定位:用移液枪移取待分析的单个颗粒物于芯片的进样口储液槽中。将聚四氟乙烯导管固定到储液槽上,另一端与注射泵相连。使用去离子水作为运输颗粒物的载液,然后启动注射泵,在泵的驱动下将颗粒从储液槽送入通道内部。当颗粒物移动到粗细通道交界处时,颗粒被固定在粗通道末端。然后使用注射泵将空气通入通道中,移除通道内部的去离子水,完成颗粒的载入与定位。
2)荧光显微成像:调整荧光显微镜的物镜和目镜,使颗粒物在显微镜中清晰成像,观察其形貌并使用CCD进行拍照记录。启动高压汞灯,选择合适的滤光片进行荧光显微成像检测,如果待测颗粒物中含有荧光物质,就可以通过CCD拍摄到荧光物质的分布图。使用注射泵将合适的溶剂通入通道中,可以将颗粒物表面及内部的化学物质洗脱下来,使用荧光显微镜可以同步监测这一过程,得到荧光信号的强度及分布与洗脱时间的关系,从而可以对荧光物质在颗粒物内部的分布情况进行研究。
3)激光诱导荧光检测:使用合适的溶剂可以将颗粒物内部的物质洗脱下来,这些物质在载流的输送下进入细通道,流经光纤侧通道对应的位置时,可以使用激光诱导荧光进行检测。检测不同的化学物质可以选择不同的激发光和相应的滤光片。洗脱液将颗粒物含有的荧光物质洗脱下来,被激光照射后发出荧光,通过滤光片将激发光滤除,荧光信号被芯片下方的光电倍增管检测到,从而可以对颗粒物含有的物质进行分析以及监测洗脱过程。
4)化学发光检测:很多化学物质与另一种物质进行反应的过程中会产生化学发光。在本发明中,从侧通道中引入化学发光试剂与主通道中的溶液混合并反应,从而可以产生化学发光信号。对于不同的待测物,可以选择不同的化学发光试剂来产生化学发光信号。使用特定的溶剂将颗粒物中的化学物质洗脱下来,并与侧通道中的化学发光试剂混合并反应,产生的化学发光信号被芯片下方的光电倍增管检测到,从而可以对颗粒物含有的物质进行分析以及监测洗脱过程。
Claims (6)
1、一种对单一颗粒物进行多功能检测的微流控芯片装置,包括:
一基片(1);
所述基片(1)的上表面上设置一水平凹槽,该水平凹槽由相互连通的第一部分水平凹槽(11)和第二部分水平凹槽(12)组成,所述第一部分水平凹槽(11)的截面面积为0.03-0.08mm2,所述第二部分水平凹槽(12)的截面面积为0.002-0.004mm2;
设置在所述基片(1)上表面上的所述水平凹槽一侧且与所述水平凹槽垂直的内装光纤的第一垂向凹槽(13),所述第三垂向凹槽(13)的内端距所述第二水平凹槽(12)的槽边0.15-0.2mm;
设置在所述基片(1)上表面上的所述水平凹槽另一侧且与所述水平凹槽垂直相通的第二垂向凹槽(14);所述第二垂向凹槽(14)的截面面积为0.08-0.1mm2;
设置在所述第一部分水平凹槽(11)外端处的与所述第一部分水平凹槽(11)相通的圆筒型进液池(112);
设置在所述第二部分水平凹槽(12)外端处且与第二部分水平凹槽(12)相通的圆筒型出液池(122);
设置在所述第二垂向凹槽(14)外端部处且与所述第二垂向凹槽(14)相通的圆筒型发光试剂进样池(142);
-紧密贴合于所述基片(1)上表面上且与所述基片(1)尺寸相同的盖板;在所述盖板上与所述圆筒型进液池(112)和圆筒型出液池(122)以及圆筒型发光试剂池(142)的相对应处分别设有通孔,所述通孔上分别连接进液管(111)、出液管(121)以及发光试剂进样管(141);
一激光器(3)及一光电倍增管(4);所述激光器(3)与所述第一垂向凹槽(13)共轴,所述装在所述第一垂向凹槽(13)的光纤将激光器(3)输出的激光引入到微流控芯片装置中;所述光电倍增管(4)配置有滤光片并位于所述基片(1)的下方,其安放方向和光纤的引入方向正交;
一带有CCD的荧光显微镜(2);所述带有CCD的荧光显微镜(2)位于所述第一部分水平凹槽(11)与所述第二部分水平凹槽12连接处正上方。
2、按权利要求1所述的对单一颗粒物进行多功能检测的微流控芯片装置,其特征在于,所述的基片(1)为玻璃基片或硅基基片。
3、按权利要求1所述的对单一颗粒物进行多功能检测的微流控芯片装置,其特征在于,所述水平凹槽的第一部分水平凹槽(11)和第二部分水平凹槽12分别为方形截面的方形凹槽或半圆形截面的半圆形凹槽。
4、按权利要求1所述的对单一颗粒物进行多功能检测的微流控芯片装置,其特征在于,所述垂向第一凹槽(13)为方形截面的方形凹槽或半圆形截面的半圆形凹槽。
5、按权利要求1所述的对单一颗粒物进行多功能检测的微流控芯片装置,其特征在于,所述的第二垂向凹槽(14)为截面为方形的方形凹槽或截面为半圆形的半圆形凹槽。
6、按权利要求1所述的对单一颗粒物进行多功能检测的微流控芯片装置,其特征在于,所述圆筒型进液池(112)、圆筒型出液池(122)和圆筒型发光试剂进样池(142)的直径皆为1mm,深度皆为0.5mm。
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