CN1945435A - 印版 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种印版，尤其是印刷套筒或者印刷板，包括一个印版支承体(11)和一个涂覆到印版支承体(11)上的、可成像和可去像的聚合物层(12)，其中聚合物层(12)可以以光催化方式和/或以光化学方式成像，并且其中聚合物层(12)可以通过电磁辐射作用和/或通过热作用和/或通过至少一种溶剂作用和/或通过蚀刻进行去像。
Description
技术领域
本发明涉及一种印版。
背景技术
在使用印版的印刷中通常根据印刷工艺进行区分，或者使用一次成像印版或者使用多次成像印版进行工作。使用多次成像印版的印刷方法仍然属于“计算机印刷/直接成像”的概念。本发明涉及一种多次成像印版。
申请人销售产品名称为“DICOweb”的数字印刷机，它使用多次成像以及可去像的印版进行工作。在使用“DICOweb”技术的印版时，印版支承体、优选为印版滚筒完成去像步骤以及成像步骤。必要情况下印版成像后进行成像印版的固定和调整。DICOweb技术的主要特性可以从手册“Handbuch der Printmedien，Helmut Kipphan，从674到680页，2000年，Springer出版社”获悉。
在根据DICOweb技术进行印版成像中，成像材料借助热传递方法涂覆到印版支承体上，这种材料在去像时还必须被去除。尤其这种成像材料的涂覆和去除在过程控制技术上比较繁琐，这样就产生了对多次成像以及可去像印版的需求，这种印版在成像以及去像时既不需要涂覆也不需要去除成像材料。
发明内容
由此出发本发明的任务是提供一种新型的、可多次成像的印版。该任务将通过如权利要求1所述的印版解决。本发明所述的印版包括一个印版支承体和一个涂覆在印版支承体上的、可成像和可去像的聚合物层，其中聚合物层可以以光催化方式和/或光化学方式成像，并且聚合物层可以通过电磁辐射作用和/或热作用和/或至少一种溶剂作用和/或通过蚀刻进行去像。
本发明所述的印版包括一个可去像以及可成像的聚合物层，它涂覆在本发明所述印版的印版支承体上。印版成像通过聚合物层的光催化或者说光化学处理实现，这样在印版成像时不需要在印版支承体上涂覆成像材料。由此多次成像和可去像印版的成像与现有技术相比较得到简化。此外成像聚合物层上通过光催化或者说光化学方法处理的聚合物还可以重新组织并因此是可去像的，这样在去像后可以实现印版的多次成像或者说重新成像。这里成像聚合物层的去像优选通过电磁辐射和/或通过热作用实现。
根据本发明的一种优选改进方案，聚合物层拥有大量双极的聚合物刷，这些聚合物刷拥有一个亲水的并由此吸水的端部和一个疏水的并由此吸墨的端部，其中聚合物刷可以通过基于图像数据的紫外光线曝光定向并因此可以使聚合物层成像，并且其中聚合物层可以通过电磁辐射作用和/或通过热作用和/或通过至少一种溶剂作用进行去像。
根据本发明的另一种优选改进方案聚合物层是极疏水的并由此吸墨的层，其中聚合物层可以通过基于图像数据的激光曝光微观构建，并且可以逐部分地转变为亲水的并由此吸水的层，并且这里微观构建的聚合物层可以通过蚀刻进行去像。
本发明的优选改进方案从从属权利要求和随后的描述中产生。本发明的实施例随后将参照附图进行详细解释，但本发明并不限于此实施例。
附图说明
图1：本发明所述的、根据本发明第一实施例的多次成像以及可去像印版在去像状态的一个示意图；
图2：图1所示印版的细节；
图3：本发明所述的图1所示印版在成像状态；
图4：本发明所述的、根据本发明另一实施例的多次成像以及可去像印版在去像状态的一个示意图；和
图5：本发明所述的图4所示印版在成像状态；
具体实施方式
图1到3绘出了本发明所述的多次成像以及可去像印版10的一种第一实施例，其中图1至3所示实施例的印版10包括一个印版支承体11以及一个涂覆到印版支承体11上的聚合物层12。
图1到3所示实施例的聚合物层12由大量的聚合物刷13形成(参照图2)，其中每个聚合物刷13包括一个亲水的或者说吸水的端部14以及一个疏水的即吸墨的端部15。聚合物刷13相应的形成双极，其中第一极由亲水的并因此吸水的端部14构成，而第二极由疏水的并因此吸墨的端部15构成。图1绘出本发明所述印版10的聚合物层12处于这样的状态，即其中所有的聚合物刷13都以同样的方式定向。相应地在图1所示实施例中聚合物层12在它的外表面完全是亲水的并因此是吸水的。
由双极的聚合物刷13组成的聚合物层12可以以光催化或者光化学方式成像，即可以通过聚合物刷13的曝光成像，也就是说以这种方式，使聚合物刷13的定向发生改变。例如图3绘出了通过聚合物层12曝光形成的印版10，其中在曝光部分聚合物刷13的疏水的或者说吸墨的端部15到达聚合物层12即印版10的外表面。聚合物层12的聚合物刷13基于图像数据进行曝光，为此印版10或者说聚合物层12要在同样的区域内曝光，这个同样的区域为了印刷应该是吸墨的。聚合物层12基于图像数据的曝光优选使用紫外光线进行，最好使用紫外激光。
一个通过曝光成像的印版10或者印版10的聚合物层12也是可以去像的，其中去像优选通过电磁辐射作用在聚合物层12上实现。成像聚合物层12的去像也可以这样进行，即在在聚合物层上进行热作用。
同样可行的是，成像的印版10通过至少一种溶剂的作用实现去像。还可以这样，即将种这些去像方法组合用于成像聚合物层12的去像。
在去像后印版10又呈现出如图1所示的定向，这样印版10的重新成像可以通过聚合物层12也即聚合物刷13基于图像数据的曝光实现。
双极的聚合物刷13优选使用PI/P2VP聚合物体系或者聚[苯乙烯-共-2-(4-乙烯基苯基)茚]/P2VP聚合物体系。这种聚合物体系形成的聚合物刷通过紫外光线曝光可以很好地定向，从而以这种方式可以在聚合物层的外表面上有针对性地获得疏水的即吸墨的部分和亲水的即吸水的部分。
根据一种优选的改进方案，可以将聚合物刷13集成或者说嵌入到极疏水的聚合物中。在可开关的聚合物刷和极疏水聚合物的组合中，聚合物刷的开关性可以通过对聚合物刷的紫外光线曝光得到改善，即较小的开关幅值就足够将双极的聚合物刷在曝光中针对需要提供的印版进行定向。
对于极疏水的承载聚合物例如可以使用PTFE(聚四氟乙烯)，将优选由端羟基聚(苯乙烯-共-2，3，4，5，6-五氟苯乙烯)和端羟基聚(2-乙烯基吡啶)制成的双极聚合物刷嵌入在其中。
图4和5绘出本发明所述的、多次成像以及可去像印版的一种第二实施例，其中这种实施例的印版16仍然包括一个印版支承体17以及一个涂覆在印版支承体17上的聚合物层18。在图4和5所示的实施例中的聚合物层18是由一种极疏水的并由此吸墨的聚合物制成的聚合物层，特别是由PTFE(聚四氟乙烯)制成，它在低压氧离子中进行等离子刻蚀后表现出极疏水的特性。这种类型的极疏水的聚合物层18也可以通过光催化或者说光化学的方法、尤其通过基于图像数据的激光曝光，逐部分地进行微观构建，这样在曝光的、靠近表面的部分19中，原来极疏水的聚合物层18转变为亲水的并因此吸水的。在聚合物层18去像时只要将聚合物层18的外部区域蚀刻，这样接着就可以实现聚合物层18的重新成像。
根据本发明不需要涂覆成像材料就可以对印版成像。本发明所述印版的聚合物层通过光催化或者说光化学方法基于图像数据进行成像。本发明所述的印版既涉及印刷套筒也涉及印刷板。
附图标记表
10 印版
11 印版支承体
12 聚合物层
13 聚合物刷
14 亲水的或者说吸水的端部
15 疏水的或者说吸墨的端部
16 印版
17 印版支承体
18 聚合物层
19 部分
Claims (10)
1.印版，尤其是印刷套筒或者印刷板，包括一个印版支承体(11；17)和一个涂覆到印版支承体(11；17)上的、可成像和可去像的聚合物层(12；18)，其中聚合物层(12；18)可以以光催化方式和/或以光化学方式成像，并且其中聚合物层(12；18)可以通过电磁辐射作用和/或通过热作用和/或通过至少一种溶剂作用和/或通过蚀刻进行去像。
2.如权利要求1所述的印版，其特征在于，所述聚合物层(12)包括大量双极的带有亲水的并由此吸水的端部(14)以及疏水的并由此吸墨的端部(15)的聚合物刷(13)，其中聚合物刷(13)可以通过基于图像数据的光线曝光进行定向，并因此聚合物层(12)可以成像。
3.如权利要求2所述的印版，其特征在于，所述聚合物刷(13)可以通过基于图像数据的紫外激光曝光进行定向。
4.如权利要求2或3所述的印版，其特征在于，所述聚合物刷(13)是PI/P2VP聚合物。
5.如权利要求2或3所述的印版，其特征在于，所述聚合物刷(13)是聚[苯乙烯-共-2-(4-乙烯基苯基)茚]/P2VP聚合物。
6.如权力要求2或3所述的印版，其特征在于，所述聚合物刷嵌入到极疏水的聚合物当中。
7.如权利要求6所述的印版，其特征在于，所述极疏水的聚合物由PTFE构成，由端羟基聚(苯乙烯-共-2，3，4，5，6-五氟苯乙烯)和端羟基聚(2-乙烯基吡啶)制成的双极聚合物刷嵌入在其中。
8.如权利要求2到7中一项或多项所述的印版，其特征在于，所述聚合物层(12)可以通过电磁辐射作用和/或通过热作用和/或通过至少一种溶剂作用进行去像。
9.如权利要求1所述的印版，其特征在于，所述聚合物层(18)由极疏水的并因此吸墨的层构成，其中聚合物层(18)可以通过基于图象数据的激光曝光微观构建并因此可以逐部分地转变为亲水的并因此吸水的层。
10.如权利要求9所述的印版，其特征在于，所述微观构建的聚合物层(18)可以通过蚀刻进行去像。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C12 | Rejection of a patent application after its publication | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Open date: 20070411 |