CN1933080A

CN1933080A - 等离子显示面板制造用热处理装置

Info

Publication number: CN1933080A
Application number: CN 200610074916
Authority: CN
Inventors: 金泰龙; 朴范灿
Original assignee: LG Electronics Nanjing Plasma Co Ltd
Current assignee: LG Electronics Nanjing Plasma Co Ltd
Priority date: 2006-04-04
Filing date: 2006-04-04
Publication date: 2007-03-21

Abstract

本发明公开了一种在制造等离子显示面板的过程中，干燥或烧制基板及形成于基板上的构造物时进行热处理的等离子显示面板制造用热处理装置，包括集中照射特定光的集束光照射器、传送基板或形成有构造物的基板的传送器。本发明能够在短时间内进行大量处理，同时也保持了高清洁度，能够控制环境，并进行准确的控制。

Description

等离子显示面板制造用热处理装置

一、技术领域

本发明涉及一种制造等离子显示面板时，在干燥或烧制基板及形成于基板的构造物时，进行热处理的等离子显示面板制造用热处理装置。

二、背景技术

一般来说，等离子显示面板的前基板与后基板之间形成的间隔壁构成一个单位单元，在各单元内充有氖(Ne)、氦(He)或者像氖和氦的混合气体(Ne+He)这样的充电放电气体以及含有少量氙的非活性气体。依靠高频电压进行放电时，非活性气体发出真空紫外线(Vacuum Ultraviolet rays)使形成于间隔壁之间的荧光体发光从而显示图像。这种等离子显示面板既薄又轻，是倍受瞩目的下一代显示装置。

图1是一般的等离子显示面板结构的示意图。

如图1所示，等离子显示面板由在显示画面的前玻璃100上排列着扫描电极101和维持电极102配对形成的多个维持电极对的前基板10和在形成背面的后玻璃110上排列着与上述多个维持电极对相交叉的多个寻址电极112的后基板11以一定间距平行接合而成。

前基板10包括：使一个放电单元中相互放电从而维持单元发光的扫描电极101和维持电极102，即具有由透明的ITO物质构成的透明电极(a)和由金属材质制成的总线电极(b)的一对扫描电极101及维持电极102。扫描电极101和维持电极102限制放电电流，在它们上面覆盖有一个以上使电极对间绝缘的电介质层103。在电介质层103的上面，为使放电条件更加容易，形成有镀膜了氧化镁(MgO)的保护层104。

后基板11排列有多个放电空间，即平行排列的形成放电单元的条状(或者井状)间隔壁111。而且，进行寻址放电发出真空紫外线的多个寻址电极112是对应间隔壁111平行安装的。在后基板11的上层涂有在寻址放电时为显示画面而发出可视光线的R，G，B荧光体113。寻址电极112和荧光体113之间形成保护寻址电极112并且将荧光体113发出的可视光线反射到前基板10的白色电介质114。

等离子显示面板的制造工序为：各自制成前基板10和后基板11之后，密封在前基板10或后基板11中任何一个上面，然后粘合两者。排气后组装机体，蚀刻后进行检查，这样就制成了等离子显示面板。

前基板10的制造工序为：预备及烧制前玻璃100后，在前玻璃100上依次形成透明电极101a，102a、总线电极101b，102b、电介质103和保护层104，这样就制成了前基板10。

后基板11制造工序为：预备及烧制后玻璃110后，在后玻璃110上依次形成寻址电极112、电介质114、间隔壁111和荧光体113，这样就制成了后基板11。

形成前基板10和后基板11的电极101，102，112、电介质103，114、保护层104、间隔壁112、荧光体113等各个构造物的方法有真空镀膜法、模版印刷，碾压法，喷砂法等多种方法。

这些方法在必要情况下要经过干燥工序和烧制工序。这些工序必须通过进行基本热处理的燃烧炉或烧制炉等热处理装置。

图2是现有等离子显示面板制造用热处理装置的截面图。

参照图2，现有等离子显示面板制造用热处理装置400包括：两面开口的多个加热室402；在加热室402的下部，传送基板或形成有构造物的基板408所在的搁置板(setter)410的滚轴装置404；在加热室402的上部提供热源的加热器406。

这种现有等离子显示面板制造用热处理装置400以连续滚动方式，依靠滚轴装置404用加热器406对流加热传送中的基板408。

但是，这种现有等离子显示面板制造用热处理装置400由于依靠滚轴装置404在传送中进行对流加热，所以具有所谓大量加热及工序稳定的优点。但是，同时也存在处理时间长、可能造成污染、维持费用高、设备费用高、玻璃可能变形以及很难准确控制的问题。

图3是另一个现有等离子显示面板制造用热处理装置的截面图。

参照图3，另一个现有等离子显示面板制造用热处理装置500是在密闭的加热室502内的下部安装卤素灯504，在卤素灯504的上部放置基板506进行热处理。

但是，另一个现有等离子显示面板制造用热处理装置500由于采用利用卤素灯504的辐射热量热处理基板506的方式，具有处理时间短、清洁度高、能够控制环境、维持费用低廉、玻璃不易变形以及控制准确的优点，但同时也存在很难进行大量处理的问题。

在这种状况下，很需要不但可以进行大量处理而且处理时间短、清洁度高、能够控制环境以及控制准确的处理装置。

三、发明内容

为克服上述缺点，本发明的目的是：提供一种等离子显示面板制造用热处理装置，能够在短时间内进行大量处理，同时也保持了高清洁度，能够控制环境，并进行准确的控制。

本发明的目的是通过发下技术方案来实现的：

一种等离子显示面板制造用热处理装置，其特征在于：它包括集中照射特定光的集束光照射器和传送基板或形成有构造物的基板的传送器。

这时，集束光照射器是多个的。多个集束光照射器中，越是位于基板的行进方向，照射强度越大。集束光照射器照射的特定光是紫外线、激光、卤素光中的任意一个或者两个以上。

而且，传送器是滚轴装置。同时，还另外包括排出热处理基板时产生的杂质的排出器。

在本说明书中，基板(substrate)是指能够形成等离子显示面板构造物的玻璃或塑料等的板。而且，基板上的构造物是指等离子显示面板的前基板和后基板上的维持电极、寻址电极、电介质、保护层、间隔壁、荧光体等。

另外，本发明的等离子显示面板制造用热处理装置还包括与外部分离，提供热处理基板或形成有构造物的基板的空间的加热室；集束光照射器固定在加热室上部的内侧。

本发明的有益效果是：能够在短时间内进行大量处理，同时也保持了高清洁度，能够控制环境，并进行准确的控制。

四、附图说明

图1是一般的等离子显示面板的侧视图。

图2是现有等离子显示面板制造用热处理装置的截面图。

图4是依据本发明的一个实施例的等离子显示面板制造用热处理装置的截面图。

五、具体实施方式

下面参照附图对依据本发明的一个实施例的等离子显示面板制造用热处理装置进行详细说明。

参照图4，依据本发明的一个实施例的等离子显示面板制造用热处理装置600包括：加热室602、传送装置604、集束光照射器606、吸排气器612，614。

加热室602的两侧是开口的，以便基板或形成有构造物的基板608能够通过。在进行基板或形成有构造物的基板608的干燥工序及烧制工序时，加热室602提供与外部分离的、能够保持一定程度的清洁度和环境的热处理空间。

传送装置604是在加热室602的下部并列设置多个滚轴，依靠滚轴的旋转运动将基板或形成有构造物的基板608向前传送的装置。这时，基板或形成有构造物的基板608是放置在相当于一种桌面的搁置板(setter)610上被传送装置604传送的。传送装置604根据需要也可以暂时停止传送基板608。

传送装置604的多个滚轴是依靠未作图示的链、皮带、齿轮等连接构件与电动机进行轴连接的。而且，传送装置604的滚轴(roller)是不锈钢管、陶瓷管、陶瓷面不锈钢管中的一种。

集束光照射器606固定在加热室602上部的内侧。集束光照射器606包括：中空的金属环(ferrule)；贯通金属环，将电气信号转换为光信号的发光手段；集束向外透射的光信号的透镜。集束光照射器606将透过透镜的特定光集中在基板608上从而加热基板608。

集束光照射器606照射的特定光随着发光手段的种类可以是紫外线、激光、卤素光等。另外，根据基板608的种类、基板608上形成的构造物的厚度、胶等的种类、干燥或烧制温度等，可以机械或者电动控制集束光照射器606的照射量。

由于精密地控制传送装置604的传送速度和集束光照射器606的照射量，所以能够在最佳状态下热处理基板及形成有构造物的基板608。

吸排气器612，614贯通加热室602的上部，包括供气的吸气管612和向外排出热处理过程中产生的杂质的排气管614。当然，吸排气器612，614的各个吸气管612及排气管614内装有风扇，能够适当控制空气及杂质的吸排气量。由于适当控制吸排气器612，614的吸排气量，所以能够适当控制加热室602的热处理环境。

以上，虽然说明了依据本发明的一个实施例的等离子显示面板制造用热处理装置，但是本发明并不限于此。

在上述实施例中，虽然已经说明加热室602是开口的，但是随着基板604的传送状态可以追加安装开闭加热室602开口部分的开闭装置。这个开闭装置分别安装在加热室602的入口和出口。开闭装置能与吸排气器612，614一起更精密地控制加热室602内的环境。

在上述实施例中，虽然已经说明吸排气器612，614形成于加热室602的上部，但是吸排气器612，614也可以形成于加热室602的侧面或下部。由于在加热室602的侧面或下面形成吸排气器612，614，所以能够随着等离子显示面板的制造工序处理因比重大而下降的杂质。

而且，在上述实施例中，虽然未对温度控制器、预加热器、冷却器进行说明，但是它们也是存在于加热室内或加热室前后的。

另外，在上述实施例中，虽然已经说明集束光照射器606是一个，但是它可以是两个以上。

在多个加热室602内设置的一个以上的集束光照射器606的光量可以根据烧制工序的烧制温度模式(Profile)进行调节。在这里，烧制温度模式是指按照形成电极、形成总线、形成黑矩阵(BM)等各个烧制阶段，为了达到最佳的烧制效果，根据时间确定升温、维持温度、降温等温度范围的一种烧制控制条件。

如上所述，在不改变本发明技术思想及技术特征的范围内，本发明所属技术领域的工作人员可以用其他具体形态实施本发明的技术构成。

因此，上述实施例在所有方面都是举例性的，而且不具有限定性。本发明的权利要求意义及范围以及由同等概念得出的所有变更或变形形态都属于本发明的范围。

Claims

1、一种等离子显示面板制造用热处理装置其特征在于：它包括传送基板的传送器；在上述基板上照射光的集束光照射器。

2、根据权利要求1所述的等离子显示面板制造用热处理装置，其特征在于：所述集束光照射器随着各个烧制阶段设定的烧制温度模式调节光的强度。

3、根据权利要求1所述的等离子显示面板制造用热处理装置，其特征在于：所述传送器随着各烧制阶段设定的烧制温度模式调节上述基板的传送速度。

4、根据权利要求1所述的等离子显示面板制造用热处理装置，其特征在于：所述集束光照射器照射的光是紫外线、激光、卤素光中的任意一种以上。