CN1925005B - 磁头部分静态修正方法和静态修正装置 - Google Patents

Abstract

一种静态修正装置，包括：配置修正方案表的控制器；测量磁头悬架的弯曲部分的磁头部分的倾斜角和横摇角的测量单元；和将激光束照射到目标磁头悬架的弯曲部分的照射线上的激光照射单元。该控制器从修正方案表中选择有效的修正方案，并根据选定的修正方案，控制激光照射部分将激光束照射到目标磁头悬架的弯曲部分的照射线上，其中在配置修正方案表时，控制器考虑了采样磁头悬架的倾斜角和横摇角的参考值中的变差，并选择方案来减小由于修正引起的目标静态角度特性中的预期变差。

Description

磁头部分静态修正方法和静态修正装置

技术领域

本发明涉及一种在计算机等的信息处理装置中修正磁头部分的静态修正方法和用于硬盘的磁头悬架等的静态修正装置。

背景技术

近来，作为磁头悬架的磁头部分的静态角的倾斜角(pitch angle)和横摇角(roll angle)的容许变差减小了。修正磁头部分的倾斜角和横摇角的修正处理就变得重要了。为了支持浮动块(slider)向硬盘驱动器中的磁盘写数据和从中读数据，磁头部分形成弯曲部分以固定于磁头悬架。

在相关技术中的倾斜角和横摇角的修正处理中，例如，预先测定一个磁头悬架的弯曲部分的不带浮动块的的磁头部分或者一个带有浮动块的磁头常平架装置的倾斜角和横摇角。然后选择照射线修正磁头部分以得到一个目标倾斜角和目标横摇角，激光束顺序照射到选择的照射线上。在本说明书中，磁头悬架和磁头常平架装置下称“磁头悬架”。

照射线的选择如下所述。例如，首先测量多个采样磁头悬架的数据改变量，其中磁头悬架采样数据表示照射在弯曲部分的什么位置和如何照射，在一个磁头部分角度改变多少。该步骤下称“校准”。基于这次校准的结果，一个修正方案表覆盖了所有照射线的组合方式，以显示照射激光束修正磁头部分的哪个部分，从而得到预期的目标角度。

然后，作为一个修正方案将照射线的组合从修正方案表中选择出来，用来将从一个目标磁头悬架的弯曲部分的磁头部分测量得到的修正前的倾斜角和横摇角修正成一个具有最小激光照射量的目标倾斜角和目标横摇角。

根据选择的修正方案，激光照射施加到目标磁头悬架的弯曲部分的每个被选择的照射线上，这样就可以修正目标磁头悬架的弯曲部分的磁头部分的倾斜角和横摇角。

但是，使用现有技术中的以最小激光照射量的修正方法，并没有考虑磁头悬架校准结果采样中的变差。这将导致修正时倾斜角和横摇角的变差，从而产生修正精度较差的问题。

上述相关技术记载在日本尚未审查的公开号为2002-74630的专利文献中。

发明内容

本发明的目的是解决修正每个产品的静态角度时所产生的变差带来的修正精度较差的问题。

为了实现该目的，本发明的一个方面的主要特征是：考虑到校准时磁头悬架在采样变化时出现的静态角度参考值中的变差，配置一个修正方案表；选择一个修正方案，这样在修正时目标磁头悬架的弯曲部分的磁头部分的静态角度中的预期变差就可以缩小，从而得到一个目标静态角度。

根据本发明的这个方面，静态修正方法和静态修正装置可以考虑到校准时磁头悬架的采样变化时出现的静态角度参考值中的变差，并据此配置一个修正方案表.选择一个修正方案，这样在修正时目标磁头悬架的弯曲部分的磁头部分的静态角度中的预期变差就可以缩小，从而得到一个目标静态角度.因此，在修正之后它可以减小静态角度的变差，从而高精度的控制静态角度的修正.

附图说明

图1是本发明第一实施例的静态修正装置的原理图；

图2是图1的静态修正装置的激光照射单元的侧视原理图；

图3是本发明第一实施例的磁头悬架的弯曲部分的部分示意图，其中照射线照射于其上；

图4A是图示本发明第一实施例的倾斜角部分的校正结果的列表；

图4B是图示本发明第一实施例的横摇角部分的校正结果的列表；

图5A是修正方案表的图像，该图像是根据本发明第一实施例修正时采样的每个磁头悬架的倾斜角和横摇角的变差画出来的；

图5B是修正方案表的图像，该图像是根据一个比较示例中最小激光照射量画出来的；

图6是本发明第一实施例的校准流程图；

图7是本发明第一实施例的修正流程图；

图8A是本发明第二实施例的磁头悬架的弯曲部分的磁盘面的部分示意图，其中照射线照射于其上；

图8B是本发明第二实施例的磁头悬架的弯曲部分的磁盘背面的部分示意图，其中照射线照射于其上；

图9A是修正方案表的图像，该图像是根据本发明第二实施例修正时采样的每个磁头悬架的倾斜角和横摇角的变差画出来的；

图9B是修正方案表的图像，该图像是根据一个比较示例中最小激光照射量画出来的。

具体实施方式

下面根据本发明实施例具体描述用于修正磁头部分静态的静态修正装置和方法。每个实施例都因考虑了修正时磁头悬架采样的静态角度参考值中的变差而具有新颖性，从而解决了由于修正每个产品的静态角度而产生的变差问题。

参照图1和图2阐明本发明第一实施例的静态修正装置，其中图1是发明第一实施例的静态修正装置的原理图，图2是图1的静态修正装置的激光照射单元的侧视原理图。

如图1所示，静态修正装置1包括一个用于磁头悬架3的传递单元5，用作静态角度测量部分的测量单元7，用作激光照射部分的激光照射单元9和控制器11。测量单元7和激光照射单元9与传递单元5关联设置。

在本说明书中，磁头悬架包括至少一个基板和支撑弯曲部分17的承载梁。弯曲部分17具有一个磁头部分19，用于支撑一个面对磁盘并从中读取数据或向其写入数据的浮动块。“磁盘”是一个存储介质，该介质放置在硬盘驱动器中，数据通过磁头悬架从中读取或者写入其中。

传递单元5具有一个传递线13和多个支撑磁头悬架3并可以各自在传递线13上移动的悬架固定夹具15。传递单元5前后传递悬架固定夹具15，每个悬架固定夹具支撑一个磁头悬架。

测量单元7测量作为一个磁头悬架3的磁头部分19的静态角度的倾斜角的横摇角。将测量结果作为测量得到的倾斜角和横摇角的测量值从测量单元7输入到控制器11。

激光照射单元9照射激光束到照射线上，这些照射线就是下面提及的目标磁头悬架的弯曲部分17的要求被修正的部分。在本说明书中，“目标弯曲部分”用于表示目标磁头悬架的弯曲部分。

控制器11形成一个修正方案表的配置部分。控制器11预先配置一个修正方案表，并将配置好的修正方案表存储到其内的存储部分(未图示)。修正方案表是根据从多个采样磁头悬架得来的弯曲部分17的磁头部分19的倾斜角变化和横摇角变化的参考值来配置的。参考值通过照射激光束到每个采样磁头悬架的弯曲部分17的多个照射线上而出现的。在配置修正方案表时，要把采样磁头悬架的倾斜角和横摇角的参考值中的变差作为校准结果考虑。详细的内容如下所述。

修正方案表可以在其他部分中配置，然后可以把结果存储在控制器11中。

控制器11形成一个修正方案选择部分，用于从修正方案表中选择一个有效的修正方案来修正磁头部分19，从而基于测量值获得目标磁头悬架的弯曲部分的磁头部分的目标倾斜角和横摇角。有效的修正方案指示目标弯曲部分的所需部分。在选择的时候，根据修正，控制器11采用一个因素来减小倾斜角和横摇角中的预期变差。

控制器11形成一个控制部分，用于根据被选择的修正方案控制激光照射单元9照射激光束到待修正的目标弯曲部分17的照射线上。

修正方案选择单元和控制单元还可以分别包含在其他单元中。

如图2所示，激光照射单元9被设置成可以将激光束从上面或者从底部照射到由悬架固定夹具15支撑的磁头悬架3上。激光照射单元9可以被设置成从上部或者底部任一处照射激光束。悬架固定夹具15支撑一个定位销钉21，它用于调整由悬架固定夹具15支撑的磁头悬架13的磁头部分19的高度以达到与激光照射单元9相关的预定高度。

在装置1中，悬架固定夹具15支撑一个传递线13上的目标磁头悬架3，并在控制器11的控制下向测量单元7移动。悬架固定夹具15被定位在测量单元7处。

测量单元7测量目标弯曲部分17的磁头部分19的倾斜角和横摇角，并将测量得到的倾斜角和横摇角的测量值输入到控制器11中。

控制器11从存储的修正方案表中选择一个照射线的有效修正方案，以使修正之后目标弯曲部分17的磁头部分的预期变差最小。

然后传递线13上的悬架固定夹具15在控制器11的控制下向激光照射单元9移动。目标磁头悬架3被定位在激光照射单元9处。

控制器11根据选择的修正方案控制激光照射单元9照射激光束到目标弯曲部分17的照射线上，从而修正磁头部分19的倾斜角和横摇角。

修正之后，控制器11驱动传递线13向后。然后，测量单元7测量修正之后的目标弯曲部分17的磁头部分19的倾斜角和横摇角，并将磁头悬架3从悬架固定夹具15中取出。

下面将对照具有最小激光照射量的静态修正方法阐述本发明第一实施例的磁头部分的静态修正方法.

图3是本发明第一实施例的磁头悬架的弯曲部分的部分示意图，其中照射线照射于其上。

根据本发明的第一实施例，给弯曲部分17的一个单侧面配置一个修正方案表，并为目标弯曲部分17的单侧面选择一个修正方案。在图3中，照射线分别对称地设置在单侧面即弯曲部分17的磁盘面的外伸支架23和25上。在第一实施例中，照射线的总量是20。也就是说，一个外伸支架23有10条照射线，用奇数F1至F19来表示，另一个外伸支架25也有10条照射线，用偶数F2至F20来表示。照射线可以设置在外伸支架23和25的旁边，或者照射线也可以设置在一个弯曲部分的单个磁盘背面上。在本说明书中，“磁盘面”是面向磁盘的表面，“磁盘背面”是磁盘的背面。换句话说，磁盘背面与磁盘面相对。

假设在如图3所示的照射线F1至F20上执行校准，校准结果将，例如如图4所示。校准结果是从6个磁头悬架#1至#6的采样得到的。图4A图示的是倾斜角部分的校准结果列表，图4B图示的是横摇角部分的校准结果列表。

图4A和4B的列表图示了，例如，当将一束激光束照射到每个采样磁头悬架的照射线F1时，倾斜角角度的变化平均值是0.374度，横摇角的变化平均值是-0.184度。

根据图4A和4B的列表，配置了覆盖所有的用于修正目标弯曲部分17的磁头部分19的照射线的组合方式的修正方案表。每个组合都指示在哪儿照射激光束、以什么顺序照射，从而根据一个待修正的目标磁头悬架3的弯曲部分在修正之前的倾斜角和横摇角的测量值得到一个目标角度。

图5中是一个修正方案表的图像。图5A是根据本发明第一实施例修正时采样的每个磁头悬架的倾斜角和横摇角的变差画出来的修正方案表图像，图5B是根据一个比较示例中最小激光照射量画出来的修正方案表图像。在图5A和5B中，纵坐标表示倾斜角，横坐标表示横摇角。

在图5A和5B中，每个预期变差的级别用色调指示，这些色调是通过将分别分配给倾斜角和横摇角的变差的不同色调层叠而成的。根据第一实施例，预期变差被分为高密块、中密块、低密块三级。低密块指示每个要修正的倾斜角和横摇角的预期变差最小的区域。高密块指示每个要修正的倾斜角和横摇角的预期变差最大的区域。

首先来阐述不考虑变差的使用最少量的激光照射来修正的情况。

在图5B中，选择了采用最少量的激光照射的修正方案，从而得到目标倾斜角P＝1.5度，目标横摇角R＝-0.13度。用这种方法，将选择一个根据校准结果以最少量的激光照射修正磁头部分的方案。例如，通过照射在照射线F1、F5、F17和F13的组合上，待修正的目标磁头悬架3的弯曲部分17的磁头部分19的倾斜角和横摇角可以最接近目标值。基于校准数据来估算倾斜角和横摇角，修正后的预计倾斜角是0.93+0.374+0.203-0.031+0.017＝1.493度，预计横摇角是-0.13-0.184-0.018+0.144+0.179＝0.009度。

在修正方法的比较示例中，修正可以使用最少量的激光照射来做，但是这样在校准中采样磁头悬架的倾斜角和横摇角的参考值中会有变差。因此，由于修正而产生的预期变差也很大，从而使得修正精度变差。

检查由于修正而带来的预期变差，如果将每个修正带来的照射线的预期变差用σ1、σ2、σ3……来表示，每个累积预期变差σT可以表示为

在用最少量激光照射的情况下，根据累积的预期变差的级别，图5B中修正之前的倾斜角和横摇角的相应块用色调来指示。同样，也可以得到其他的修正方案和预期变差，从而用图5B所示的色调来指示其他的块。也就是说，图5B中所有块都有色调。而且，图5B中没有着色的白色块表示那儿没有修正方案来修正磁头部分以获得目标值。

另一方面，参照图5A阐述考虑了变差的修正方案。

在图5A中所示的考虑了变差的修正方案表中，增加了一些低密块，即是与图5B中的修正方案表相比，具有最小预期变差的区域扩大了。也就是说，考虑变差的修正方案表中将被精确修正的区域扩大了。

在图5A中，目标倾斜角P＝1.5度，目标横摇角R＝0度，根据修正前的0.93度的倾斜角和-0.13度的横摇角选择出一个具有最小变差的修正方案。被选择的修正方案，例如，是照射线F5、F6、F7、F8和F17的组合。基于与比较示例中等同的校准数据来估算倾斜角和横摇角，修正后的预计倾斜角是1.491度，预计横摇角是-0.015度。

根据图5A中的修正方案表，修正前的0.93度的倾斜角和-0.13度的横摇角在修正时，由于修正而产生的预期变差(修正偏差)将变成倾斜角部分σ＝0.036度，横摇角部分σ＝0.039度。

相反，根据图5A中的修正方案表，修正前的0.93度的倾斜角和-0.13度的横摇角在修正时，由于修正而产生的预期变差将变成倾斜角部分σ＝0.149度，横摇角部分σ＝0.237度。因此，根据图5B的修正方案表修正的磁头部分19与根据图5A的修正方案表修正的磁头部分19相比具有更大的变差。

根据本发明第一实施例的磁头部分静态修正方法，首先考虑校准中产生的采样磁头悬架中的变差，配置图5A中的修正方案表。然后从图5A的修正方案表中选择一个有效的修正方案，以减小由于修正而产生的预期变差。根据选定的修正方案，修正目标弯曲部分17的磁头部分19。因此，与基于图5B的修正方案表的用最少量激光照射的修正相比，它可以以更高精度来修正目标弯曲部分19的磁头部分19，并且可以大大减少修正偏差。

参考图6和7阐述基于此静态修正方法的静态修正装置1中的控制流程，其中图6是校准的流程图，图7是修正的流程图。根据该第一实施例，静态修正方法由图1中的控制器11来实施。

首先，详细阐述第一实施例中的校准过程。

如图6所示，校准过程开始时，在步骤S1中确定多条激光照射线。例如，确定图3中的激光照射线F1至F20作为激光束照射到的目标部分，然后校准过程进入到步骤S2。

在步骤S2中，获得由于照射激光线到确定的每个采样磁头悬架的激光照射线而产生的修正角和横摇角的变化量数据。也就是说，图1中的激光照射单元9照射激光束到每个采样磁头悬架的确定的照射线上，图1中的测量单元7根据激光照射测量每个采样磁头悬架的倾斜角和横摇角，并将测量到的角度输入到图1中的控制器11。在控制器11中，测量值作为输入的倾斜角和横摇角的参考值读出来，计算每个测量值以得到倾斜角和横摇角的变化量数据。然后，校准过程进入到步骤S3。

在步骤S3中，进一步计算在步骤S2中计算出的倾斜角和横摇角的变化量，以得到每个激光照射线的倾斜角和横摇角的平均值和变差。这个过程在控制器11中执行。然后，校准过程进行到步骤S4。

在步骤S4中，进一步计算在步骤S3中计算出的每个激光照射的倾斜角和横摇角的平均值和变差，以得到根据照射线F1至F20的所有组合方式得来预期修正量和变差，然后终止校准过程。这个过程也是在控制器11中执行。

以这种方式，例如，可以配置出一个考虑到图5A所示图像的倾斜角和横摇角的变差的修正方案表，并将其存入图1中的控制器11的存储部分。

然后，详细阐述第一实施例的修正过程。

如图7所示，修正过程开始时，控制器11将修正前目标弯曲部分17的磁头部分的倾斜角和横摇角的测量值作为步骤11中的目标值读出来。也就是说，测量单元7测量磁头部分19的倾斜角和横摇角，并将测量倾斜角和横摇角得到的测量值输入到控制器11。在控制器11中，读出输入的测量值。然后，修正过程进行到步骤S12。

在步骤S12中，控制器11确定目标弯曲部分17的磁头部分的倾斜角和横摇角的测量值是否在设定目标值的可允许范围之内。也就是说，控制器11将倾斜角和横摇角的测量值与设定目标值进行比较。如果测量值在可允许范围之内(Yes)，控制器11就确定目标弯曲部分17的磁头部分19没有必要修正，并将目标磁头悬架3送到下一个过程。如果测量值不在可允许范围之内(NO)，修正过程进行到步骤S13。

在步骤S13中，控制器11从图5A的修正方案表中选择一个用于以允许范围之内的最小变差来修正磁头部分19的照射线的组合作为校准数据。在这个过程中，从修正方案表中选择一个优选的照射线的组合，例如F5、F6、F7、F8和F17，作为一个有效的修正方案。然后，修正过程进行到步骤S14。

在步骤S14中，照射激光束以修正目标弯曲部分17的磁头部分19。在这个过程中，在控制器11的控制下，图1中的目标磁头悬架3和悬架固定夹具15被移动并定位在激光照射单元9处。根据选择的修正方案，控制激光照射单元9照射激光束到照射线F5、F6、F7、F8和F17。然后，修正过程进行到步骤S15。

在步骤S15中，将目标弯曲部分17的磁头部分19的倾斜角和横摇角作为修正产品来测量。也就是说，修正后目标磁头悬架3和悬架固定夹具15将被从激光照射单元9移动到测量单元7，并被定位在测量单元7处。测量单元7测量修正后的目标弯曲部分17的磁头部分19的倾斜角和横摇角，并将测量得到的值(测量值)输入到控制器11。控制器11读出输入的测量值，然后修正过程进行到步骤S16。

在步骤S16中，控制器确定修正后的磁头部分19的倾斜角和横摇角是否在设定目标值的允许范围之内。该步骤与步骤S12相同。也就是说，控制器11将倾斜角和横摇角的测量值与设定目标值进行比较。如果测量值在可允许范围之内(Yes)，修正过程就进行到步骤S17。如果测量值不在可允许范围之内(NO)，修正过程进行到步骤S18。

在步骤S 17中，它进行到下一过程。也就是说，将修正后的磁头悬架3从悬架固定夹具15中取出，并传递到下一过程。

在步骤18中，丢弃悬架3。也就是说，将未修正的磁头悬架3从悬架固定夹具15中取出，并传递给一个丢弃单元。

根据本发明的第一实施例，磁头部分的静态修正方法和静态修正装置1考虑修正时激光照射的每个采样磁头悬架的倾斜角和横摇角的变差而配置修正方案表.选择一个修正方案来修正目标弯曲部分17的磁头部分19，从而得到目标倾斜角和横摇角，以减小由于修正而产生的倾斜角和横摇角的变差.因此，它可以抑制由于修正而产生的倾斜角和横摇角的变差，高精度地修正磁头部分19.

控制器11根据磁头悬架3的弯曲部分17的单侧面配置修正方案表，并仅根据要修正的目标磁头悬架3的弯曲部分17的单侧面选择一个修正方案。因此，它可以阻止计算数据量的增加，是一个运算快的小型设备。

参考附图8和9阐述本发明的第二实施例。图8A是本发明第二实施例的磁头悬架的弯曲部分的磁盘面的部分示意图，其中照射线照射于其上；图8B是本发明第二实施例的磁头悬架的弯曲部分的磁盘背面的部分示意图，其中照射线照射于其上。

虽然在第二实施例中也用图1和2表示其装置，但是第二实施例的控制器11的控制不同于第一实施例的控制器11的控制。也就是说，第二实施例的控制器11根据弯曲部分17的两侧面来配置修正方案表，并根据目标磁头悬架3的弯曲部分17的两侧面来选择一个修正方案。

如图8A所示，与图3中相同的照射线作为要修正的目标部分被设置在一个磁头悬架3的弯曲部分17的磁盘面内。而且，如图8B所示，照射线也设置在弯曲部分17的磁盘背面上。在磁盘面的对面，设置一个承载梁27，从而使得放置照射线的空间稍微比图3中的小一些。因此，磁盘背面上的照射线总数是18。外伸支架23有9条照射线，用偶数G2至G18来表示，另一个外伸支架25也有9条照射线，用奇数G1至G17来表示。相对磁盘面上的照射线可以设置在磁盘面上相对应的照射线相同的和相反的位置处。

图9A是根据修正时采样的每个磁头悬架的倾斜角和横摇角的变差画出来的表示修正方案表的图像，图9B是根据最小激光照射量画出来的表示修正方案表的图像。在图9A和9B中，纵坐标表示倾斜角，横坐标表示横摇角。

在图9A的考虑到本发明第二实施例修正时采样的每个磁头悬架的倾斜角和横摇角的变差的修正方案表中，增加了一些低密块，即是与图9B中的修正方案表相比，具有最小预期变差的区域扩大了。也就是说，考虑到变差的修正方案表中将被精确修正的区域扩大了。

在图9A和9B所示的修正方案表中，磁盘面都被认为是“上面”，磁盘背面被认为是“下面”。根据弯曲部分的两面配置出正方案表，并根据目标磁头悬架3的弯曲部分17选择出一个修正方案。

然后在图9B中的修正方案表中，被选定的修正方案是，例如，上面的照射线F10、F13、F15和下面的照射线G15的组合。在对修正前的1.32度的倾斜角和-0.43度的横摇角的修正过程中，预期变差包括倾斜角部分σ＝0.088度和横摇角部分σ＝0.199度。相应的，预期变差较大，从而产生修正偏差。

另一方面，在图9A的修正方案表中，被选定的修正方案是，例如，上面的照射线F2、F4、F6、F11、F15和下面的照射线G2的组合。在对修正前的1.32度的倾斜角和-0.43度的横摇角的修正过程中，预期变差包括倾斜角部分σ＝0.028度和横摇角部分σ＝0.052度。因此，可以抑制由于修正而产生的预期变差带来的修正偏差。

因此，本发明的第二实施例实质上也实现了与第一实施例相同的效果。而且，根据弯曲部分17的两面来配置修正方案表并根据目标磁头悬架3的弯曲部分17的两面来选择一个修正方案，从而它可以高精度地执行目标弯曲部分17的磁头部分19的修正。

Claims (6)

1.一种磁头部分的静态修正方法，该磁头部分构成可固定于磁头悬架的弯曲部分来支撑浮动块，该方法包括步骤：

通过在每个采样磁头悬架的弯曲部分的多个照射线照射激光束，根据从多个采样磁头悬架获得的静态角度变化参考值，配置修正方案表；

测量待修正的目标磁头悬架的弯曲部分的磁头部分的静态角度；

根据测量静态角度得到的测量值，从修正方案表中选择有效的修正方案来指示激光束照射的目标磁头悬架的弯曲部分的需要照射的照射线；以及

根据选定的修正方案，照射激光束到目标磁头悬架的弯曲部分的需要照射的照射线，从而修正目标磁头悬架的弯曲部分的磁头部分的静态角度，其中

修正方案表覆盖了所述多个照射线的所有组合，且每个组合都根据每个相对应的采样磁头悬架照射线的静态角度变化的参考值的平均值和变差而取得的每个组合而具有预期修正量和变差，并且

在修正方案表中选择修正方案作为一个照射线的组合，该照射线的组合预计能够以允许范围内的最小变差修正磁头部分。

2.如权利要求1所述的磁头部分的静态修正方法，其中

相对磁头悬架的弯曲部分的单侧面配置修正方案表；以及

相对目标磁头悬架的弯曲部分的单侧面选择修正方案。

3.如权利要求1所述的磁头部分的静态修正方法，其中

相对待修正磁头悬架的弯曲部分的双侧面配置修正方案表；以及

相对目标磁头悬架的弯曲部分的双侧面选择修正方案。

4.一种静态修正装置，包括：

修正方案表配置部分，通过在每个采样磁头悬架的弯曲部分的多个照射线照射激光束，根据从多个采样磁头悬架获得的磁头部分的静态角度变化参考值，配置修正方案表；

静态测量部分，用于测量磁头悬架的弯曲部分的磁头部分的静态角度；

激光照射部分，用于将激光束照射到目标磁头悬架的弯曲部分的所需待修正部分照射线；

修正方案选择部分，根据静态测量部分测量的静态角度测量值，从修正方案表中选择有效的修正方案来指示目标磁头悬架的弯曲部分的所需照射线；和

控制部分，根据选定的修正方案来控制激光照射部分照射激光束到目标磁头悬架的弯曲部分的所需照射线，从而获得目标磁头悬架的弯曲部分的磁头部分的目标静态角度；其中

修正方案表覆盖了所述多个照射线的所有组合，且每个组合都根据每个相对应的采样磁头悬架照射线的静态角度变化的参考值的平均值和变差而取得的每个组合而具有预期修正量和变差，并且

修正方案选择部分在修正方案表中选择修正方案作为一个照射线的组合，该照射线的组合预计能够以允许范围内的最小变差修正磁头部分。

5.如权利要求4所述的静态修正装置，其中

修正方案表配置部分相对磁头悬架的弯曲部分的单侧面来配置修正方案表；并且

方案选择部分相对该单侧面来选择修正方案。

6.如权利要求4所述的静态修正装置，其中

修正方案表配置部分相对磁头悬架的弯曲部分的双侧面来配置修正方案表；并且

方案选择部分相对双侧面来选择修正方案。

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