CN1832641A - 图形形成基板、光电装置及光电装置的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种能够提高通过干燥液滴形成的叠层图形的均匀性，同时能够提高其生产性的图形形成基板、光电装置及光电装置的制造方法。在下层液中混合亲液性微粒子(26)生成下层形成液(25L)，干燥由该下层形成液(25L)构成的下层液滴(25D)，形成空穴输送层。然后，对空穴输送层照射紫外线，在引发了亲液性微粒子(26)的亲液性后，在该空穴输送层上形成包含发光层形成材料的上层液滴，叠层发光层。

Description

图形形成基板、光电装置及光电装置的制造方法
技术领域
本发明涉及图形形成基板、光电装置及光电装置的制造方法。
背景技术
以往，在具有发光元件的显示器中，已知有作为具备有机电致发光元件(有机EL元件)的光电装置的有机电致发光显示器(有机EL显示器)。
有机EL元件，一般根据其有机EL层的构成材料区别制造方法。即，在将低分子有机材料设定为有机EL层的构成材料的情况下，采用通过蒸发该低分子有机材料形成有机EL层的所谓气相工艺。另外，在将高分子有机材料设定为有机EL层的构成材料的情况下，采用在有机溶剂等中溶解该高分子有机材料，涂布该溶液，然后干燥的所谓液相工艺。
其中，该液相工艺中的喷墨法，由于作为微小的液滴喷出所述溶液，因此与其它的液相工艺(例如，旋涂等)相比，能够更高精度地控制有机EL层的形成位置或膜厚等。而且，由于喷墨法只在形成有机EL层的区域(元件形成区域)喷出所述液滴，因此能够降低原材料即高分子有机材料的使用量。
可是，在喷墨法中，如果增大液滴与所述元件形成区域的接触角(如果润湿性降低)，喷出的液滴就向图形形成区域的一部偏移。结果，出现有机EL层根据各液滴间的边界等而损坏其形状的均匀性(例如，有机EL层内的膜厚均匀性或有机EL层间的膜厚均匀性等)的问题。
因此，在如此的喷墨法中，提出了与以往相比能提高喷出的液滴的润湿性的方案(例如，专利文献1)。在专利文献1中，在喷出液滴之前，对图形形成区域(透明电极上)实施亲液性的等离子处理(氧气等离子处理)。由此，能够提高液滴的润湿性，能够提高图形形成区域的图形形状的均匀性。
专利文献1：特开2002-334782号公报
可是，一般，有机EL层，至少由具有发有色光的发光层、和形成在该发光层和阳极(例如，ITO膜)之间的空穴输送层的叠层图形形成。因此，为了确保形成上层图形(发光层)的液滴的润湿性，必须实施上述的氧等离子处理等表面处理。
但是，如果对下层图形实施氧等离子处理等，就氧化该下层图形，出现损害其电特性的问题。此外，由于追加如此的等离子处理工序，因此存在损害有机EL显示器的生产性的问题。
发明内容
本发明是为解决上述问题而提出的，其目的在于提供一种能够提高通过干燥液滴而形成的叠层图形的均匀性，同时能够提高其生产性的图形形成基板、光电装置及光电装置的制造方法。
本发明的图形形成基板，具有通过叠层图形而形成的叠层图形，该图形通过干燥含有图形形成材料的液滴而形成，其特征在于：下层图形，含有相对于形成上层图形的所述液滴具有亲液性的亲液性微粒子。
在图形形成基板中，所述亲液性微粒子，含有二氧化硅(SiO2)、氧化钛(TiO2)、氧化锌(ZnO)、氧化锡(SnO2)、钛酸锶(SrTiO3)、氧化钨(WO3)、氧化铋(Bi2O3)、氧化铌(NbO、Nb2O5)、氧化钒(VO2、V2O3、V2O5)及氧化铁(Fe2O3)等中的至少任何一种。或，含有任何一种由二氧化硅(SiO2)、氧化钛(TiO2)、氧化锌(ZnO)、氧化锡(SnO2)、钛酸锶(SrTiO3)、氧化钨(WO3)、氧化铋(Bi2O3)、氧化铌(NbO、Nb2O5)、氧化钒(VO2、V2O3、V2O5)及氧化铁(Fe2O3)等中的至少一种以上的组合而构成的粒子。
根据该图形形成基板，由于下层图形含有二氧化硅(SiO2)、氧化钛(TiO2)、氧化锌(ZnO)、氧化锡(SnO2)、钛酸锶(SrTiO3)、氧化钨(WO3)、氧化铋(Bi2O3)、氧化铌(NbO、Nb2O5)、氧化钒(VO2、V2O3、V2O5)及氧化铁(Fe2O3)等中的至少任何一种粒子，或由至少1种以上的组合构成的粒子，所以能够叠层均匀形状的上层图形，能够提高图形形成基板的生产性。
在该图形形成基板中，所述亲液性微粒子的平均粒径在0.5μm以下。
根据该图形形成基板，由于亲液性微粒子的平均粒径在0.5μm以下，能够叠层均匀形状的上层图形，能够提高图形形成基板的生产性。
在该图形形成基板中，所述图形形成材料是发光元件形成材料，所述叠层图形是发光元件。
根据该图形形成基板，能够形成均匀形状的发光元件，能够提高具有该发光元件的图形形成基板的生产性。
本发明的光电装置，具有通过在电极上叠层薄膜层所形成的发光元件，该薄膜层通过干燥含有薄膜层形成材料的液滴而形成，下层薄膜层，含有相对于形成上层薄膜层的所述液滴具有亲液性的亲液性微粒子。
根据本发明的光电装置，由于下层薄膜层含有亲液性微粒子，所以相对于下层薄膜层，能够提高形成上层薄膜层的液滴的润湿性。因此，能够在不追加各种表面处理工序的情况下，在下层薄膜层上叠层形状均匀的上层薄膜层。进而，能够提高光电装置的生产性。
在该光电装置中，所述亲液性微粒子，含有二氧化硅(SiO2)、氧化钛(TiO2)、氧化锌(ZnO)、氧化锡(SnO2)、钛酸锶(SrTiO3)、氧化钨(WO3)、氧化铋(Bi2O3)、氧化铌(NbO、Nb2O5)、氧化钒(VO2、V2O3、V2O5)及氧化铁(Fe2O3)等中的至少任何一种。或，含有任何一种由二氧化硅(SiO2)、氧化钛(TiO2)、氧化锌(ZnO)、氧化锡(SnO2)、钛酸锶(SrTiO3)、氧化钨(WO3)、氧化铋(Bi2O3)、氧化铌(NbO、Nb2O5)、氧化钒(VO2、V2O3、V2O5)及氧化铁(Fe2O3)等中的至少一种以上的组合而构成的粒子。
根据该光电装置，由于下层图形含有二氧化硅(SiO2)、氧化钛(TiO2)、氧化锌(ZnO)、氧化锡(SnO2)、钛酸锶(SrTiO3)、氧化钨(WO3)、氧化铋(Bi2O3)、氧化铌(NbO、Nb2O5)、氧化钒(VO2、V2O3、V2O5)及氧化铁(Fe2O3)等中的至少任何一种粒子，或由至少1种以上的组合构成的粒子，所以能够叠层形状均匀的上层图形，能够提高光电装置的生产性。
在该光电装置中，所述亲液性微粒子的平均粒径在0.5μm以下。
根据该光电装置，由于亲液性微粒子的平均粒径在0.5μm以下，所以能够叠层形状均匀的上层薄膜层，能够提高光电装置的生产性。
在该光电装置中，所述发光元件，是在透明电极和背面电极的之间叠层所述薄膜层的电致发光元件。
根据该光电装置，能够提高具有有机电致发光元件的光电装置的生产性。
在该光电装置中，所述发光元件，是具有由有机材料构成的所述薄膜层的有机电致发光元件。
根据该光电装置，能够提高具有有机电致发光元件的光电装置的生产性。
本发明的光电装置的制造方法，通过干燥含有薄膜层形成材料的液滴，形成薄膜层，在电极上叠层所述薄膜层形成发光元件，其中：在形成下层薄膜层的液滴中混合相对于形成上层薄膜层的液滴具有亲液性的亲液性微粒子，干燥混合了所述亲液性微粒子的液滴形成所述下层薄膜层后，在所述下层薄膜层上，干燥形成所述上层薄膜层的液滴，在所述下层薄膜层上叠层所述上层薄膜层。
根据本发明的光电装置的制造方法，由于在形成下层薄膜层的液滴中混合亲液性微粒子，所以相对于下层薄膜层，能够提高形成上层薄膜层的液滴的润湿性。因此，能够在不追加各种表面处理工序的情况下，在下层薄膜层上叠层形状均匀的上层薄膜层。进而，能够提高光电装置的生产性。
在该光电装置的制造方法中，所述亲液性微粒子，含有二氧化硅(SiO2)、氧化钛(TiO2)、氧化锌(ZnO)、氧化锡(SnO2)、钛酸锶(SrTiO3)、氧化钨(WO3)、氧化铋(Bi2O3)、氧化铌(NbO、Nb2O5)、氧化钒(VO2、V2O3、V2O5)及氧化铁(Fe2O3)等中的至少任何一种。或，含有任何一种由二氧化硅(SiO2)、氧化钛(TiO2)、氧化锌(ZnO)、氧化锡(SnO2)、钛酸锶(SrTiO3)、氧化钨(WO3)、氧化铋(Bi2O3)、氧化铌(NbO、Nb2O5)、氧化钒(VO2、V2O3、V2O5)及氧化铁(Fe2O3)等中的至少一种以上的组合而构成的粒子。
根据该光电装置的制造方法，由于下层薄膜层含有二氧化硅(SiO2)、氧化钛(TiO2)、氧化锌(ZnO)、氧化锡(SnO2)、钛酸锶(SrTiO3)、氧化钨(WO3)、氧化铋(Bi2O3)、氧化铌(NbO、Nb2O5)、氧化钒(VO2、V2O3、V2O5)及氧化铁(Fe2O3)等中的至少任何一种粒子，或由至少1种以上的组合构成的粒子，所以能够叠层形状均匀的上层薄膜层，能够提高光电装置的生产性。
在该光电装置中的制造方法中，所述亲液性微粒子的平均粒径在0.5μm以下。
根据该光电装置的制造方法，由于亲液性微粒子的平均粒径在0.5μm以下，所以能够叠层形状均匀的上层薄膜层，能够提高光电装置的生产性。
在该光电装置的制造方法中，对形成所述下层薄膜层的液滴照射光，引发所述亲液性微粒子的亲液性。
根据该光电装置的制造方法，由于对形成下层薄膜层的液滴照射光，引发亲液性微粒子的亲液性，所以能够扩大该亲液性微粒子的材料的选择范围。
在该光电装置的制造方法中，照射在形成所述下层薄膜层的液滴上的光的波长在400nm以下。
根据该光电装置的制造方法，由于通过照射400nm以下的光，引发亲液性微粒子的亲液性，所以能够叠层形状均匀的上层薄膜层，能够提高光电装置的生产性。
在该光电装置的制造方法中，所述发光元件，是在透明电极和背面电极的之间叠层所述薄膜层而形成的有机电致发光元件。
根据该光电装置的制造方法，能够提高具有电致发光元件的光电装置的生产性。
在该光电装置的制造方法中，所述发光元件，是具有由有机材料构成的所述薄膜层的有机电致发光元件。
根据该光电装置的制造方法，能够提高具有有机电致发光元件的光电装置的生产性。
在该光电装置的制造方法中，所述液滴，从液滴喷出装置喷出。
根据该光电装置的制造方法，由于通过液滴喷出装置形成微细的液滴，所以能够形成形状更均匀的发光元件，能够提高光电装置的生产性。
附图说明
图1是表示使本发明具体化的有机EL显示器的简要俯视图。
图2是表示有机EL显示器的像素的简要俯视图。
图3是表示有机EL显示器的控制元件形成区域的简要剖面图。
图4是表示有机EL显示器的控制元件形成区域的简要剖面图。
图5是表示有机EL显示器的发光元件形成区域的简要剖面图。
图6是说明有机EL显示器的光电装置的制造工序的流程图。
图7是说明有机EL显示器的光电装置的制造工序的说明图。
图8是说明有机EL显示器的光电装置的制造工序的说明图。
图9是说明有机EL显示器的光电装置的制造工序的说明图。
图10是说明有机EL显示器的光电装置的制造工序的说明图。
图11是说明有机EL显示器的光电装置的制造工序的说明图。
图中：10-作为光电装置的有机EL显示器，11-作为图形形成基板的透明基板，15-发光元件形成区域，20-作为透明电极的阳极，22-隔壁层，24-隔壁，25-作为下层图形及下层薄膜层的空穴输送层，25D-下层液滴，25s-构成薄膜形成材料的空穴输送层形成材料，26-亲液性微粒子，27-作为上层图形及上层薄膜层的发光层，27s-作为薄膜层形成材料的发光层形成材料，27D-上层液滴，30-作为叠层图形的有机EL层，31-作为背面电极的阴极，35-构成液滴喷出装置的液体喷头。
具体实施方式
以下，参照图1～图11说明使本发明具体化的一实施方式。图1是表示作为光电装置的有机电致发光显示器(有机EL显示器)的简要俯视图。
如图1所示，在有机EL显示器10中，具有作为图形形成基板的透明基板11。透明基板11是形成四角形状的无碱玻璃基板，在其表面(元件形成面11a)上，形成四角形状的元件形成区域12。在该元件形成区域12上间隔规定间隔地形成向上下方向(列方向)延伸的多个数据线Ly。各数据线Ly分别与配置在透明基板11的下侧的数据线驱动电路Dr1电连接。数据线驱动电路Dr1，基于从未图示的外部装置供给的显示数据，生成数据信号，按规定的定时向对应的数据线Ly输出该数据信号。
此外，在元件形成区域12上，按规定的间隔与各数据线Ly并排设置向列方向延伸的多个电源线Lv。各电源线Lv分别与形成在元件形成区域12的下侧的公用电源线Lvc电连接，将由未图示的电源电压生成电路生成的驱动电源供给各电源线Lv。
另外，在元件形成区域12上，按规定间隔形成向与数据线Ly及电源线Lv正交的方向(行方向)延伸的多个扫描线Lx。各扫描线Lx，分别与形成在透明基板11的左侧的扫描线驱动电路Dr2电连接。扫描线驱动电路Dr2，基于从未图示的控制电路供给的扫描信号，按规定的定时，从多个扫描线Lx中有选择地驱动规定的扫描线Lx，将扫描信号输出给该扫描线Lx。
在上述数据线Ly和扫描线Lx的交叉位置，通过与对应的数据线Ly电源线Lv及扫描线Lx连接，形成矩阵状排列的多个像素13。在该像素13内，分别区分形成控制元件形成区域14和发光元件形成区域15。然后，通过用四角形状的密封基板16(图1中的双点划线)覆盖元件形成区域12的上侧来保护像素13。
另外，本实施方式中的各像素13，是分别发对应颜色的光的像素，是发红色的光的红色像素、或发绿色的光的绿色像素、或发蓝色的光的蓝色像素。然后，通过上述各像素13，可在透明基板11的背面(显示面11b)侧显示全色图像。
接着，说明上述的像素13。图2是表示控制元件形成区域14及发光元件形成区域15的配置的简要俯视图。图3及图4分别是表示沿图2的1点虚线A-A及B-B的控制元件形成区域14的简要剖面图，图5是表示沿图2的1点虚线C-C的发光元件形成区域15的简要剖面图。
首先，说明控制元件形成区域14的构成。如图2所示，在各像素13的下侧，分别形成控制元件形成区域14，在该控制元件形成区域14上，分别形成第1晶体管(开关用晶体管)T1、第2晶体管(驱动用晶体管)T2及保持电容器Cs。
如图3所示，开关用晶体管T1，在其最下层具有第1通道膜B1。第1通道膜B1是形成在元件形成面11a上的岛状p型多晶硅膜，在其中央位置形成第1通道区域C1。在夹着该第1通道区域C1的左右两侧形成活性化的n型区域(第1源极区域S1及第1漏极区域D1)。即，开关用晶体管T1是所谓的多晶硅型TFT。
在第1通道区域C1的上侧，从元件形成面11a侧起按顺序形成栅极绝缘膜Gox及第1栅电极G1。栅极绝缘膜Gox是氧化硅膜等具有透光性的绝缘膜，堆积在第1通道区域C1的上侧及元件形成面11a的大致整面上。第1栅电极G1，是钽或铝等低电阻金属膜，形成在与第1通道区域C1相对向的位置上，如图2所示，与扫描线Lx电连接。该第1栅电极G1，如图3所示，通过堆积在栅极绝缘膜Gox的上侧的第1层间绝缘膜IL1电连接。
然后，如果扫描线驱动电路Dr2，经由扫描线Lx，向第1栅电极G1输入扫描信号，开关用晶体管T1就形成基于该扫描信号的导通状态。
在第1源极区域S1上，电连接贯通所述第1层间绝缘膜IL1及栅极绝缘膜Gox的数据线Ly。此外，在第1漏极区域D1上，电连接贯通所述第1层间绝缘膜IL1及栅极绝缘膜Gox的第1漏电极Dp1。上述数据线Ly及第1漏电极Dp1，如图3所示，通过堆积在第1层间绝缘膜IL1的上侧的第2层间绝缘膜IL2电连接。
然后，如果扫描线驱动电路Dr2基于线顺序扫描逐根地依次选择扫描线Lx，像素13的开关用晶体管T1就依次只在选择期间中形成导通状态。如果开关用晶体管T1成导通状态，从数据线驱动电路Dr1输出的数据信号，就经由数据线Ly及开关用晶体管T1(通道膜B1)，输出给第1漏电极Dp1。
如图4所示，驱动用晶体管T2是具备通道膜B2的多晶硅型TFT，通道膜B2具有第2通道区域C2、第2源极区域S2及第2漏极区域D2。在该第2通道膜B2的上侧，经由栅绝缘膜Gox形成第2栅电极G2。第2栅电极G2，是钽或铝等低电阻金属膜，如图2所示，与开关用晶体管T1的第1漏电极Dp1及保持电容器Cs的下部电极Cp1电连接。这些第2栅电极G2及下部电极Cp1，如图4所示，通过堆积在栅极绝缘膜Gox的上侧的第1层间绝缘膜IL1电连接。
第2源极区域S2，与贯通该第1层间绝缘膜IL1的保持电容器Cs的上部电极Cp2电连接。该上部电极Cp2，如图2所示，与对应的电源线Lv电连接。即，在驱动用晶体管T2的第2栅电极G2和第2源极区域S2的之间，如图2及图4所示，连接以第1层间绝缘膜IL1作为电容膜的保持电容器Cs。第2漏极区域D2，与贯通第1层间绝缘膜IL1的第2漏电极Dp2电连接。这些第2漏电极Dp2及上部电极Cp2，通过堆积在第1层间绝缘膜IL1的上侧的第2层间绝缘膜IL2电绝缘。
然后，如果从数据线驱动电路Dr1输出的数据信号经由开关用晶体管T1输出给第1漏极区域D1，保持电容器Cs就蓄积与输出的数据信号相对的电荷。接着，如果开关用晶体管T1形成断开状态，相对于蓄积在保持电容器Cs中的电荷的驱动电流，就经由驱动用晶体管T2(通道膜B2)，输出给第2漏极区域。
下面，说明发光元件形成区域15的构成。
如图2所示，在各像素13的上侧分别形成四角形状的发光元件形成区域15。如图5所示，在该发光元件形成区域15上即在所述第2层间绝缘膜IL2的上侧形成作为透明电极的阳极20。
阳极20，是ITO等具有透光性的透明导电膜，其一端，如图4所示，贯通第2层间绝缘膜IL2而与第2漏极区域D2电连接。该阳极20的上面20a，通过后述的亲液化处理(图6中的步骤12)能够亲液下层液滴25D(参照图9)。
在该阳极20的上侧，堆积相互绝缘各阳极20的氧化硅膜等第3层间绝缘膜IL3。在该第3层间绝缘膜IL3上形成有将阳极20的大致中央位置向上侧开口的四角形状的贯通孔21，在该第3层间绝缘膜IL3的上侧形成隔壁层22。
隔壁层22，由所谓正型的感光型材料形成，即如果由规定的波长构成的曝光光Lpr曝光(参照图7)，只有曝光的部分可溶于碱性溶液等显影液中，由相对后述的下层形成液25L(参照图9)及上层形成液27L(参照图11)疏液的感光性聚酰亚胺等树脂形成。在该隔壁层22上形成有在与贯通孔21相对向的位置朝上侧锥状开口的收容孔23。收容孔23，以能够在对应的发光元件形成区域15内收容后述的下层液滴25D(参照图9)及上层液滴27D(参照图11)的尺寸形成。然后，通过该收容孔23的内周面，形成围住发光元件形成区域15(阳极20及贯通孔21)的隔壁24。
在发光元件形成区域15内的、阳极20的上侧，形成作为下层图形的下层薄膜层(空穴输送层)25。空穴输送层25，是由构成图形形成材料及薄膜形成材料的空穴输送层形成材料25s(参照图9)构成的图形。
另外，本实施方式的空穴输送层形成材料25s，例如是联苯胺衍生物、苯乙烯胺衍生物、三苯甲烷衍生物、三苯胺衍生物及腙衍生物等低分子化合物，或局部含有这些结构的高分子化合物，或聚苯胺、聚噻吩、聚苯乙烯咔唑、α-萘基苯基二胺、聚(3，4-亚乙二氧基噻吩)和磺化聚苯乙烯酸的混合物(PEDOT/PSS)(Baytron P，バイエル公司商标)等高分子化合物。
在该空穴输送层25内含有亲液性微粒子26(参照图9及图10)。亲液性微粒子26，是相对于后述的上层液滴27D具有亲液性的氧化钛(TiO2)等，按其平均粒径在0.5μm以下形成。
在该空穴输送层25的上侧叠层作为上层图形的上层薄膜层(发光层)27。发光层27，是由构成图形形成材料及薄膜层形成材料的发光层形成材料27s(参照图11)构成的图形。
另外，本实施方式中的发光层27，分别由发出对应颜色的光的发光层形成材料27s(发红色光的红色发光层材料、发绿色光的绿色发光层材料及发蓝色光的蓝色发光层材料)形成。红色用发光层形成材料，例如是在聚乙烯撑苯乙烯衍生物的苯环具有烷基或烷氧基取代基的高分子化合物，或在聚乙烯撑苯乙烯衍生物的乙烯撑基具有氰基的高分子化合物等。此外，绿色用发光层形成材料，例如是在苯环中导入烷基、或烷氧基或芳基衍生物取代基的聚乙烯撑苯乙烯衍生物等。蓝色用发光层形成材料，例如是聚芴衍生物(二烷基芴和蒽的共聚合物、或二烷基芴和噻吩的共聚合物等)。
然后，通过这些空穴输送层25和发光层27形成作为叠层图形的有机电致发光层(有机EL层)30。
在有机EL层30的上侧且隔壁层22(隔壁24)的上侧形成作为由铝等具有反射性的金属膜构成的背面电极的阴极31。阴极31以覆盖元件形成面11a侧全面的方式形成，通过共有各像素13，供给在各发光元件形成区域15公用的电位。
即，由这些阳极20、有机EL层30及阴极31，构成作为发光元件的有机电致发光元件(有机EL元件)。
然后，如果与数据信号相符的驱动电流，经由第2漏极区域D2供给阳极20，有机EL层30就以与该驱动电流相应的亮度发光。此时，从有机EL层30朝阴极31侧(图4中的上侧)发出的光，被该阴极31反射。因此，从有机EL层30发出的光，其大部分透过阳极20、第2层间绝缘膜IL2、第1层间绝缘膜IL1、栅极绝缘膜Gox、元件形成面11a及透明基板11，从透明基板11的背面(显示面11b)侧朝外方出射。即，基于数据信号的图像显示在有机EL显示器10的显示面11b。
在阴极31的上侧形成由环氧树脂等构成的粘合层32，经由该粘合层32，粘贴覆盖元件形成区域12的密封基板16。密封基板16是无碱玻璃基板，用于防止像素13及各种布线Lx、Ly、Lv的氧化等。
(有机EL显示器10的制造方法)
下面，说明有机EL显示器10的制造方法。图6是说明有机EL显示器10的制造方法的流程图。图7～图11是说明该有机EL显示器10的制造方法的说明图。
如图6所示，首先，在透明基板11的元件形成面11a上形成各种布线Lx、Ly、Lv、Lvc及各晶体管T1、T2，进行加工隔壁层22图形的有机EL层预形成工序(步骤S11)。图7是说明有机EL层预形成工序的说明图。
即，在有机EL层预形成工序中，首先，在元件形成面11a的整面上形成通过受基元激光器等结晶化的多晶硅膜，加工该多晶硅膜图形，形成各通道膜B1、B2。接着，在各通道膜B1、B2及元件形成面11a的上侧整面，形成由氧化硅膜等构成的栅极绝缘膜Gox，在该栅极绝缘膜Gox的上侧整面堆积钽等低电阻金属膜。然后，加工该低电阻金属膜图形，形成各栅电极G1、G2、保持电容器Cs的下部电极Cp1及扫描线Lx。
如果形成各栅电极G1、G2，就通过以该栅电极G1、G2作为掩模的离子掺杂法，分别在各通道膜B1、B2上形成n型杂质区域。由此，形成各通道区域C1、C2、各源极区域S1、S2及各漏极区域D1、D2。如果在各通道膜B1、B2上分别形成各源极区域S1、S2及各漏极区域D1、D2，就在各栅电极G1、G2、下部电极Cp1、扫描线Lx及栅极绝缘膜Gox的上侧整面上堆积由氧化硅膜等构成的第1层间绝缘膜IL1。
如果堆积第1层间绝缘膜IL1，就在该第1层间绝缘膜IL1，即与各源极区域S1、S2及各漏极区域D1、D2相对的位置上加工一对接触孔图形。然后，在该接触孔内及第1层间绝缘膜IL1的上侧整面上堆积铝等金属，通过加工该金属膜图形，分别形成与各源极区域S1、S2对应的数据线Ly和保持电容器Cs的上部电极Cp2。同时，分别形成与各漏极区域D1、D2对应的各漏电极Dp1、Dp2。然后，在数据线Ly、上部电极Cp2、各漏极区域D1、D2及第1层间绝缘膜IL1的上侧整面上堆积由氧化硅膜等构成的第2层间绝缘膜IL2。由此，形成开关用晶体管T1及驱动用晶体管T2。
如果堆积第2层间绝缘膜IL2，就在该第2层间绝缘膜IL2上即在与第2漏极区域D2相对向的位置上形成过孔。接着，在该过孔内及第2层间绝缘膜IL2的上侧整面上，堆积ITO等具有透光性的透明导电膜，通过加工该透明导电膜图形，形成与第2漏极区域D2连接的阳极20。如果形成阳极20，就在该阳极20及第2层间绝缘膜IL2的上侧整面上堆积由氧化硅膜等构成的第3层间绝缘膜IL3。
如果堆积第3层间绝缘膜IL3，如图7所示，就在第3层间绝缘膜IL3的上侧整面上涂布感光性聚酰亚胺树脂等，形成隔壁层22。然后，如果经过掩模Mk，对与阳极20相对向的位置的隔壁层22曝光由规定的波长构成的曝光光Lpr，进行显影，就在该隔壁层22上加工以隔壁24作为内周面的收容孔23图形。
如果加工收容孔23图形，就以隔壁层22作为掩模，加工第3层间绝缘膜IL3图形，在阳极20的上侧形成与收容孔23连通的贯通孔21。
由此，在元件形成面11a上形成各种布线Lx、Ly、Lv、Lvc及各晶体管T1、T2，结束加工收容孔23图形的有机EL层预形成工序。
如图6所示，如果结束有机EL层预形成工序(步骤S11)，为了形成后述的下层液滴25D及上层液滴27D，进行处理收容孔23内及隔壁层22的表面的表面处理工序(步骤S12)。图8是说明表面处理工序的说明图。
即，在表面处理工序中，首先，在酸系的等离子Ps下曝露元件形成面11a的整面，进行使收容孔23内的阳极20(上面20a)及第3层间绝缘膜IL3(贯通孔21)具有亲水性的亲水化处理。接着，如果进行所述的亲水化处理，就在氟系的等离子Ps下曝露元件形成面11a的整面，再次进行使隔壁层22(隔壁24)具有疏液性的疏液化处理。
如图6所示，如果结束表面处理工序(步骤S12)，就在收容孔23内形成含有空穴输送层形成材料25s及亲液性微粒子26的下层液滴25D，进行形成空穴输送层25的下层形成工序(步骤S13)。图9是说明该下层形成工序的说明图。
首先，说明用于形成下层液滴25D的液滴喷出装置的构成。
如图9所示，构成本实施方式中的液滴喷头35，具备喷嘴板36。在该喷嘴板36的下面(喷嘴形成面36a)，朝上方地形成喷出液体的多个喷嘴36n。在各喷嘴36n的上侧形成与未图示的液体收容盒连通的能够向喷嘴36n内供给液体的液体供给室37。在各液体供给室37的上侧配置通过上下方向往复振动来扩大缩小液体供给室37内的容积的振动板38。在该振动板38的上侧即与各液体供给室37相对向的位置上，分别配置通过向上下方向伸缩，使振动板38振动的压电元件39。
然后，输送给液滴喷出装置的透明基板11，如图9所示，通过使元件形成面11a与喷嘴形成面36a平行，并且将各收容孔23的中心位置分别配置在喷嘴36n的正下进行定位。
此处，向液体供给室37内供给通过在可溶解或可分散的下层液中，溶解或分散空穴输送层形成材料25s，在该溶液中混合亲液性微粒子而生成的下层形成液25L。
然后，如果向液滴喷头35输入形成下层液滴25D的驱动信号，就基于该区动信号伸缩压电元件39，扩大缩小液体供给室37的容积。此时，如果缩小液体供给室37的容积，与缩小的容积相对的量的下层形成液25L，就以微小的下层液滴25B从各喷嘴36n喷出。喷出的微小的下层液滴25b，分别落在收容孔23内的阳极20上面。接着，如果扩大液体供给室37的容积，扩大的容积程度的下层形成液25L，就未图示的液体收容盒供给液体供给室37内。即，液体喷头35，通过如此的液体供给室37的扩大缩小，朝收容孔23喷出规定容量的下层形成液25L。另外，此时，液滴喷头35，以形成下层液滴25D所含的空穴输送层形成材料25s所要求的膜厚度的程度，喷出微小的下层液滴25b。
然后，喷出到收容孔23内的微小的下层液滴25b，只需进行上述的亲液化处理，就可均匀地润湿扩展在阳极20上面及贯通孔21整体上。均匀润湿扩展的微小的下层液滴25b，几乎如图9的双点划线所示，通过其表面张力和隔壁24的疏液性，形成呈现半球面状的表面的下层液滴25D。
如果形成下层液滴25D，然后就将透明基板11(下层液滴25)配置在规定的减压条件下，使该下层液滴25D蒸发，以均匀含有亲液性微粒子26的状态硬化空穴输送层形成材料25s。硬化的空穴输送层形成材料25s，由于均匀地润湿扩展在阳极20的整个上面，所以形成具有均匀形状的空穴输送层25。由此，在贯通孔21(收容孔23)内，即在阳极20的整个上面，形成含有亲液性微粒子26的空穴输送层25。
如图6所示，如果形成空穴输送层25(步骤S13)，就进行引发所述亲液性微粒子26的亲液性的亲液化工序(步骤S14)。即，如图10所示，向空穴输送层25照射波长400nm以下的紫外光Luv。照射紫外光Luv的亲液性微粒子26，通过相对亲液性微粒子26表面的羟基的生成、或起因于该羟基的物理吸附水的形成等，引发亲液性。
如图6所示，如果引发亲液性微粒子26的亲液性(步骤S14)，就在各收容孔23内形成含有对应色的发光层形成材料的上层液滴27D，进行形成发光层27的上层形成工序(步骤S15)。图11是说明上层形成工序的说明图。
在上层形成工序中，与下层形成工序同样，从各喷嘴36n，向对应的空穴输送层25上喷出，由在上层液中溶解或分散了各色的发光层形成材料27s的上层液滴27L构成的微小的上层液滴27b。此时，液体喷头35，由于发光层形成材料27s在收容孔23内形成所要求的膜厚度，所以喷出微小的上层液滴27b。
另外，本实施方式中的所述上层液，是可溶解或分散发光层形成材料27s的液体，是引发与上述的亲液性微粒子26的亲合力的液体。
喷出在空穴输送层25上的微小的上层液滴27b，由于通过与上述的下层形成液25L所含的亲液性微粒子26的亲合力，含有该亲液性微粒子26，所以均匀润湿扩展在空穴输送层25的整个上面。然后，均匀润湿扩展的微小的上层液滴27b，几乎如图11的双点划线所示，通过其表面张力和隔壁24的疏液性，形成呈现半球面状的表面的下层液滴27D。
如果形成上层液滴27D，与上述的下层形成工序一样，就将透明基板11(上层液滴27)配置在规定的减压条件下，使该上层液滴27D的上层液蒸发，硬化发光层形成材料27s。硬化的发光层形成材料27s，由于均匀地润湿扩展在空穴输送层25的整个上面上，形成使其形状(例如，发光元件形成区域15内的薄膜均匀性或发光元件形成区域15间的膜厚度均匀性)均匀的发光层27。即，形成具有均匀形状的有机EL层30。
如图6所示，如果形成空穴输送层25(有机EL层30)(步骤S15)，就在发光层27(有机EL层30)及隔壁层22上形成阴极31，进行密封像素13的有机EL层预形成工序(步骤S16)。即，在有机EL层及隔壁层22的上侧整面上堆积由铝等金属构成的阴极31，形成由阳极20、有机EL层30及阴极31构成的有机EL元件。如果形成有机EL元件，就在阴极31(像素13)的上侧整面上涂布环氧树脂等，形成粘合层32，通过该粘合层32，在透明基板11上粘贴密封基板16。
由此，能够制造有机EL层30的形状均匀的有机EL显示器10。
下面，说明按如上所述构成的本实施方式的效果。
(1)根据上述实施方式，通过在下层液中混合亲液性微粒子26，生成下层形成液25L，干燥由该下层形成液25L构成的下层液滴25D，形成空穴输送层25。因而，由于含有亲液性微粒子26，所以能够在空穴输送层25的整个上面润湿扩展上层液滴27D。其结果，能够避免等离子等的表面处理对空穴输送层25的破坏，能够使发光层27的形状均匀。进而，能够使有机EL层30的形状均匀，能够提高有机EL显示器10的生产性。
(2)根据上述实施方式，将亲液性微粒子26的平均粒径规定在0.5μm以下。因而，由于减小亲液性微粒子26的平均粒径，所以能够使空穴输送层25的形状平坦化，进而，能够使有机EL层30间的形状更加均匀。
(3)根据上述实施方式，对空穴输送层25照射紫外光Luv，引发亲液性微粒子26的亲液性。因而，能够只使空穴输送层25的上面亲液化，与实施等离子的全面处理时相比，能够维持隔壁层22等的表面状态(疏液性)。其结果，在各收容孔23内，能够避免喷出的微小的上层液滴27b的泄漏等，能够确实形成相对于该微小的上层液滴27b的量的发光层27。进而，能够更加提高有机EL层30间的形状的均匀性。
(4)根据上述实施方式，由从液滴喷出装置喷出的微小的下层液滴25b形成下层液滴25D。因而，能够使所要求量的亲液性微粒子26确实含在下层液滴25D(空穴输送层25)内，与其它的液相工艺(例如，旋涂法等)相比，能够形成形状更加均匀的有机EL层30。
另外，也可以按以下变更上述实施方式。
·在上述实施方式中，形成由氧化钛(TiO2)形成亲液性微粒子26的构成，但也不局限于此，也可以是二氧化硅(SiO2)、氧化锌(ZnO)、氧化锡(SnO2)、钛酸锶(SrTiO3)、氧化钨(WO3)、氧化铋(Bi2O3)、氧化铌(NbO、Nb2O5)、氧化钒(VO2、V2O3、V2O5)及氧化铁(Fe2O3)等。
或者，亲液性微粒子26，也可以含有由二氧化硅(SiO2)、氧化钛(TiO2)、氧化锌(ZnO)、氧化锡(SnO2)、钛酸锶(SrTiO3)、氧化钨(WO3)、氧化铋(Bi2O3)、氧化铌(NbO、Nb2O5)、氧化钒(VO2、V2O3、V2O5)及氧化铁(Fe2O3)等中的至少一种以上的组合而构成的粒子。
·在上述实施方式中，形成通过照射紫外光，引发亲液性微粒子26的亲液性的构成，但也不局限于此，例如也可以由具有亲液性的二氧化硅(SiO2)等构成亲液性微粒子26，也可以形成不照射紫外光，而对空穴输送层25赋予相对于上层液滴27D的亲液性的构成。如此，能够削减空穴输送层25的亲液化处理工序(步骤S14)，能够更加提高有机EL显示器10的生产性。
·在上述实施方式中，形成有机EL显示器10的空穴输送层25含有亲液性微粒子26的构成，但也不局限于此，在制造有机EL显示器10的过程中，在形成发光层27时，只要是空穴输送层25含有具有亲液性的亲液性微粒子26的构成就可以。即，亲液性微粒子26，在形成上层液滴27D时，只要能够出现提高其润湿性的性质就可以，在形成空穴输送层25时，或在形成发光层27后，也可以不具有该亲液性。
·在上述实施方式中，将叠层图形具体化为空穴输送层25和发光层27这2层，但也不局限于此，例如也可以形成重复叠层上述2层的多光子结构，只要叠层多个薄膜层就可以。
·在上述实施方式中，将有机EL显示器10具体化为底部发射型，但也不局限于此，也可以形成顶部发射型。或者，也可以作为下层薄膜层构成发光层，使该发光层27含有亲液性微粒子26。
·在上述实施方式中，将空穴输送层形成材料25s及发光层形成材料27s具体化为有机高分子材料，但也不局限于此，也可以由公知的低分子材料构成。
·在上述实施方式中，由空穴输送层25及发光层27构成有机EL层30，但也可以形成在该发光层27的上层上设计由氟化锂和氟化钙的叠层膜等构成的电子注入层的构成。此外，这时也可以由液滴形成电子注入层，使发光层27含有界面活性剂的构成。
·在上述实施方式中，形成在控制元件形成区域14具有开关用晶体管T1及驱动用晶体管T2的构成，但也不局限于此，也可以通过设计所要求的元件，形成例如由1个晶体管或多个晶体管、或多个电容器组成的构成。
·在上述实施方式中，形成利用喷墨法形成有机EL层30的构成。但也不局限于此，有机EL层30的形成方法，例如，也可以通过利用旋涂法等涂布的液体，形成下层液滴25D或上层液滴27D，只要是通过干燥液体并使其硬化，能形成有机EL层30的方法就可以。
·在上述实施方式中，通过压电元件39喷出微小的下层液滴25b，但也不局限于此，例如也可以在液体供给室37上设计电阻加热元件，通过由该电阻加热元件的加热形成的气泡的破裂，喷出微小的下层液滴25b。
·在上述实施方式中，作为有机EL层30使叠层图形具体化，但也不局限于此，例如，也可以是通过向含有亲液性微粒子的衬底层喷出液滴而形成的各色的滤色器，另外也可以是扫描线Lx或数据线Ly等各种布线图形。
·在上述实施方式中，作为有机EL层30使光电装置具体化，但也不局限于此，例如，也可以是安装在液晶面板上的背光灯等，或具有平面状的电子发射元件，利用从该元件发射的电子形成的荧光物质的发光的场效应型显示器(FED或SED等)。

Claims (20)

1.一种图形形成基板，具有通过叠层图形而形成的叠层图形，该图形通过干燥含有图形形成材料的液滴而形成，其特征在于：
下层图形含有相对于形成上层图形的所述液滴具有亲液性的亲液性微粒子。
2.如权利要求1所述的图形形成基板，其特征在于：
所述亲液性微粒子含有二氧化硅、氧化钛、氧化锌、氧化锡、钛酸锶、氧化钨、氧化铋、氧化铌、氧化钒及氧化铁等中的至少任意一种。
3.如权利要求1所述的图形形成基板，其特征在于：
所述亲液性微粒子含有任何一种由二氧化硅、氧化钛、氧化锌、氧化锡、钛酸锶、氧化钨、氧化铋、氧化铌、氧化钒及氧化铁等中的至少一种以上的组合而构成的粒子。
4.如权利要求1～3中任何一项所述的图形形成基板，其特征在于：
所述亲液性微粒子的平均粒径在0.5μm以下。
5.如权利要求1～4中任何一项所述的图形形成基板，其特征在于：
所述图形形成材料是发光元件形成材料，所述叠层图形是发光元件。
6.一种光电装置，具有通过在电极上叠层薄膜层而形成的发光元件，该薄膜层通过干燥含有薄膜层形成材料的液滴而形成，其特征在于：
下层薄膜层，含有相对于形成上层薄膜层的所述液滴具有亲液性的亲液性微粒子。
7.如权利要求6所述的光电装置，其特征在于：
所述亲液性微粒子含有二氧化硅、氧化钛、氧化锌、氧化锡、钛酸锶、氧化钨、氧化铋、氧化铌、氧化钒及氧化铁等中的至少任何一种。
8.如权利要求6所述的光电装置，其特征在于：
所述亲液性微粒子含有任何一种由二氧化硅、氧化钛、氧化锌、氧化锡、钛酸锶、氧化钨、氧化铋、氧化铌、氧化钒及氧化铁等中的至少一种以上的组合而构成的粒子。
9.如权利要求6～8中任何一项所述的光电装置，其特征在于：
所述亲液性微粒子的平均粒径在0.5μm以下。
10.如权利要求6～9中任何一项所述的光电装置，其特征在于：
所述发光元件是在透明电极和背面电极的之间叠层所述薄膜层的电致发光元件。
11.如权利要求10所述的光电装置，其特征在于：
所述发光元件是具有由有机材料构成的所述薄膜层的有机电致发光元件。
12.一种光电装置的制造方法，通过干燥含有薄膜层形成材料的液滴，形成薄膜层，在电极上叠层所述薄膜层形成发光元件，其特征在于：
在形成下层薄膜层的液滴中混合相对于形成上层薄膜层的液滴具有亲液性的亲液性微粒子，再对混合了所述亲液性微粒子的液滴进行干燥形成所述下层薄膜层后，在所述下层薄膜层上干燥形成所述上层薄膜层的液滴，在所述下层薄膜层上叠层所述上层薄膜层。
13.如权利要求12所述的光电装置的制造方法，其特征在于：
所述亲液性微粒子含有二氧化硅、氧化钛、氧化锌、氧化锡、钛酸锶、氧化钨、氧化铋、氧化铌、氧化钒及氧化铁等中的至少任何一种。
14.如权利要求12所述的光电装置的制造方法，其特征在于：
所述亲液性微粒子含有任何一种由二氧化硅、氧化钛、氧化锌、氧化锡、钛酸锶、氧化钨、氧化铋、氧化铌、氧化钒及氧化铁等中的至少一种以上的组合而构成的粒子。
15.如权利要求12～14中任何一项所述的光电装置的制造方法，其特征在于：
所述亲液性微粒子的平均粒径在0.5μm以下。
16.如权利要求12～15中任何一项所述的光电装置的制造方法，其特征在于：
对形成所述下层薄膜层的液滴照射光，引发所述亲液性微粒子的亲液性。
17.如权利要求16所述的光电装置的制造方法，其特征在于：
照射在形成所述下层薄膜层的液滴上的光的波长为400nm以下。
18.如权利要求12～17中任何一项所述的光电装置的制造方法，其特征在于：
所述发光元件是在透明电极和背面电极的之间叠层所述薄膜层而形成的电致发光元件。
19.如权利要求18所述的光电装置的制造方法，其特征在于：
所述发光元件是具有由有机材料构成的所述薄膜层的有机电致发光元件。
20.如权利要求12～18中任何一项所述的光电装置的制造方法，其特征在于：
所述液滴从液滴喷出装置喷出。
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