CN1799993A - 一种β-氮化硅粉体材料的一步反应低温制备方法 - Google Patents

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CN1799993A CN 200510045575 CN200510045575A CN1799993A CN 1799993 A CN1799993 A CN 1799993A CN 200510045575 CN200510045575 CN 200510045575 CN 200510045575 A CN200510045575 A CN 200510045575A CN 1799993 A CN1799993 A CN 1799993A
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王成国
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李木森
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Abstract

本发明提供了一种β-氮化硅粉体材料的一步反应低温制备方法,制备步骤如下:(1)在无水无氧手套箱中,按摩尔比为23.8∶4.27∶1的比例用天平称取叠氮钠,用移液管分别量取液态四氯化硅和四氯化碳,装入反应釜中,将反应釜在加热炉中加热到150℃-200℃,达到设定温度后立即停止加热,使反应釜在加热炉中自然冷却到室温;(2)反应产物经无水酒精清洗、抽滤,除去残余反应物,直到滤液无色为止;(3)再用去离子水清洗除去反应副产物氯化钠;(4)所得产物在60℃温度下烘干3小时,得到灰白色粉末。本发明反应温度低,反应时间短,能耗低,产率高,制备得到的β-Si3N4粉体,化学稳定性好、高温强度高,耐热、耐磨,产率不低于86%。

Description

一种β-氮化硅粉体材料的一步反应低温制备方法
技术领域
本发明涉及β-Si3N4粉体材料的制备方法,属于无机非金属粉体材料制备方法技术领域。
背景技术
氮化硅(Si3N4)具有良好的高温力学性能,耐热冲击,抗蠕变,化学稳定性好,是一种理想的工程结构材料,可广泛应用于高接触应力条件下的滑动、滚动轴承及磨球,高温、化学腐蚀条件下工作的结构陶瓷,高效研磨材料,冶金领域的耐火材料等。
Si3N4有几种结构,其中最常见的是具有六方结构的α-Si3N4和β-Si3N4,前者是一种低温稳定相,在高温和稀土氧化物的催化作用下可以转变成后者。通过这种方法制备β-Si3N4,温度高,耗能大,时间长,而且转变过程对催化剂非常敏感,需要选择合适的催化剂及催化剂用量。
目前,制备Si3N4粉体材料的主要方法包括:硅的高温氮化、二氧化硅在氨气或氮气中进行碳热还原、CS2与氨气反应、气相反应、有机物高温热分解、高温自蔓延合成、溶剂热合成。但是这些方法一般都需要在1000℃以上的高温进行,有的甚至需要在1500℃以上的高温进行,而且制备得到的粉体是以α-Si3N4为主和少量β-Si3N4的混合粉体。α-Si3N4和β-Si3N4结构和稳定性的差异会造成构件在高温使用过程中结构不稳定,性能不均匀,从而影响其使用性能。因此在低温下制备单相β-Si3N4,不仅可以节能,降低成本,而且可以提高Si3N4陶瓷结构和性能的稳定性,扩大其应用。
发明内容
为克服现有技术的不足,本发明提供一种β-Si3N4粉体材料的一步反应低温制备方法,该方法反应温度低、时间短、能耗小、产率高,制备过程容易控制,Si3N4陶瓷结构和性能的稳定性好。
该方法是以四氯化硅(SiCl4)作硅源、以叠氮钠(NaN3)作氮源,添加少量的四氯化碳(CCl4),四氯化硅、叠氮钠及四氯化碳三种物质的摩尔比为23.8∶4.27∶1,在150--200℃的低温下反应制备β-Si3N4粉体材料。
通过SiCl4、NaN3和CCl4之间的反应制备β-Si3N4的反应式为:
制备步骤如下:
(1)在无水无氧手套箱中,按摩尔比为23.8∶4.27∶1的比例用天平称取叠氮钠,用移液管分别量取液态四氯化硅和四氯化碳,装入反应釜中,封釜后,将反应釜在加热炉中加热到150℃--200℃,加热炉达到设定温度后立即停止加热,使反应釜在加热炉中自然冷却到室温;
(2)反应产物经无水酒精清洗、抽滤,除去残余反应物,直到滤液无色为止;
(3)再用去离子水清洗,以除去反应副产物氯化钠(NaCl);
(4)所得产物在60℃温度下烘干3小时,得到灰白色粉末。
本发明反应温度低,反应时间短,能耗低,产率高,制备过程容易控制,不需要稀土氧化物作催化剂,而且可以提高Si3N4陶瓷结构和性能的稳定性,是一种理想的低温制备β-Si3N4粉体材料的方法。制备得到的β-Si3N4粉体,化学稳定性好、高温强度高,耐热、耐磨,产率不低于86%。
附图说明
图1是分别以3.0mL SiCl4+8.0g NaN3为原料,以及以2.5mL SiCl4+0.5mL CCl4+8.0gNaN3为原料在150℃反应后按本发明的方法制得粉体的X-射线粉末衍射图。
图2是分别以2.8mL SiCl4+0.2mL CCl4+8.0g NaN3为原料,以2.7mL SiCl4+0.3mLCCl4+8.0gNaN3为原料以及以2.5mL SiCl4+0.5mL CCl4+8.0gNaN3为原料在150℃反应后按本发明的方法制得粉体的X-射线粉末衍射图。
图3是以2.7mL SiCl4+0.3mL CCl4+8.0g NaN3为原料分别在150℃、200℃和250℃反应后制得粉体的X-射线粉末衍射图。
图4是以2.5mL SiCl4+0.5mL CCl4+8.0g NaN3分别在150℃、200℃反应后制得粉体的X-射线粉末衍射图。
具体实施方式
实施例1:
通过SiCl4、NaN3和CCl4之间的反应制备β-Si3N4粉体。在无水无氧手套箱中,用天平称取8.0g(0.123摩尔)NaN3,用移液管分别量取2.5mL(0.022摩尔)SiCl4和0.5mL(0.005摩尔)CCl4,移入30mL反应釜中。封釜后,将反应釜在加热炉中加热到150℃,使反应物之间发生化学反应,到150℃后停止加热并使反应釜在炉中自然冷却到室温。反应产物经无水酒精清洗至滤液无色,再用去离子水清洗至滤液呈中性,然后将产物在60℃烘干3小时后,得到灰白色粉末0.92g。
得到的白色粉末的X-射线粉末衍射图如图1所示。同时图1中还给出了以3.0mL SiCl4+8.0g NaN3为原料制得的X-射线粉末衍射图。
通过比较,图1表明:SiCl4和CCl4的总体积保持3.0mL不变,NaN3保持8.0g不变。在不添加CCl4的情况下,反应后只能得到β-Si3N4和α-Si3N4的混合粉体,即使反应温度高于480℃也不能得到单相β-Si3N4粉体。而当添加0.5mL CCl4时,反应后得到了单相β-Si3N4粉体,说明CCl4对β-Si3N4的形成起了重要作用。
实施例2:
在无水无氧手套箱中,用天平称取8.0gNaN3,用移液管分别量取2.8mL SiCl4和0.2mLCCl4,移入30mL反应釜中。封釜后,将反应釜在加热炉中加热到150℃,使反应物之间发生化学反应,到150℃后停止加热并使反应釜在炉中自然冷却到室温。反应产物经无水酒精清洗至滤液无色,再用去离子水清洗至滤液呈中性,然后将产物在60℃烘干3小时后,得到灰白色粉末1.07g。得到的白色粉末的X-射线粉末衍射图如图2所示。
实施例3:
在无水无氧手套箱中,用天平称取8.0g NaN3,用移液管分别量取2.7mL SiCl4和0.3mLCCl4,移入30mL反应釜中。封釜后,将反应釜在加热炉中加热到150℃,使反应物之间发生化学反应,到150℃后停止加热并使反应釜在炉中自然冷却到室温。反应产物经无水酒精清洗至滤液无色,再用去离子水清洗至滤液呈中性,然后将产物在60℃烘干3小时后,得到灰白色粉末0.98g。得到的白色粉末的X-射线粉末衍射图如图2所示。
图2还同时给出了以2.5mL SiCl4+0.5mL CCl4+8.0g NaN3为原料在150℃反应后制得粉体的X-射线粉末衍射图。
通过比较,图2表明:当CCl4的体积低于0.5mL时,反应后只能得到β-Si3N4和α-Si3N4的混合粉体,尽管β-Si3N4的含量随CCl4体积增加而逐渐提高。而当CCl4的体积达到0.5mL时,反应后得到单相β-Si3N4粉体。
实施例4:
在无水无氧手套箱中,用天平称取8.0g NaN3,用移液管分别量取2.7ml SiCl4和0.3mLCCl4,移入30mL反应釜中。封釜后,将反应釜在加热炉中加热到200℃,使反应物之间发生化学反应,到200℃后停止加热并使反应釜在炉中自然冷却到室温。反应产物经无水酒精清洗至滤液无色,再用去离子水清洗至滤液呈中性,然后将产物在60℃烘干3小时后,得到灰白色粉末1.04g。得到的白色粉末的X-射线粉末衍射图如图3所示。
图3还给出了以2.7mL SiCl4+0.3mL CCl4+8.0g NaN3为原料在150℃和250℃反应后制得粉体的X-射线粉末衍射图。
通过比较,图3表明:粉体都是由β-Si3N4和α-Si3N4组成,虽然β-Si3N4的含量随温度升高而提高,但在250℃反应后也不能得到单相β-Si3N4粉体。
实施例5:
在无水无氧手套箱中,用天平称取8.0g NaN3,用移液管分别量取2.5mL SiCl4和0.5mLCCl4,移入30mL反应釜中。封釜后,将反应釜在加热炉中加热到200℃,使反应物之间发生化学反应,到200℃后停止加热并使反应釜在炉中自然冷却到室温。反应产物经无水酒精清洗至滤液无色,再用去离子水清洗至滤液呈中性,然后将产物在60℃烘干3小时后,得到灰白色粉末0.96g。
得到的白色粉末的X-射线粉末衍射图如图4所示。同时图4中还给出了以相同原料在150℃反应制得的X-射线粉末衍射图。
通过比较,图4表明:反应后都得到了单相β-Si3N4粉体,但200℃反应得到的β-Si3N4粉体的产率达到90%以上,且结晶性明显提高。反应温度高于200℃,β-Si3N4粉体的产率及结晶性几乎不再发生变化。

Claims (1)

1、一种β-氮化硅粉体材料的一步反应低温制备方法,该方法是以四氯化硅作硅源,以叠氮钠作氮源,添加少量的四氯化碳,四氯化硅、叠氮钠及四氯化碳三种物质的摩尔比为23.8∶4.27∶1,制备步骤如下:
(1)在无水无氧手套箱中,按摩尔比为23.8∶4.27∶1的比例用天平称取叠氮钠,用移液管分别量取液态四氯化硅和四氯化碳,装入反应釜中,封釜后,将反应釜在加热炉中加热到150℃--200℃,加热炉达到设定温度后立即停止加热,使反应釜在加热炉中自然冷却到室温;
(2)反应产物经无水酒精清洗、抽滤,除去残余反应物,直到滤液无色为止;
(3)再用去离子水清洗,以除去反应副产物氯化钠;
(4)所得产物在60℃温度下烘干3小时,得到灰白色粉末。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN100445199C (zh) * 2006-09-07 2008-12-24 暨南大学 氮化硅纳米线或纳米带粉体材料的制备方法
CN100560485C (zh) * 2007-07-26 2009-11-18 山东大学 利用溶剂热反应低温合成氮化硅纳米材料的方法
CN101164869B (zh) * 2007-10-09 2010-06-02 山东大学 一种利用硫辅助反应低温制备氮化硅纳米棒的方法

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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