CN1799852A - 圆弧导轨纳米压印倾斜校正机构 - Google Patents
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Abstract
圆弧导轨纳米压印倾斜校正机构，由上中下圆弧导轨、限位外套、压模卡盘、压模、基片、钢球或滚柱、上下隔离架、拉簧和拉簧挂销组成，上中下圆弧导轨之间有钢球或滚柱，并通过拉簧拉紧连接，下圆弧导轨与装有压模的压模卡盘相接，正对压模的下方是基片，限位外套安装在上圆弧导轨上，它的下方四周对下圆弧导轨的旋转角度范围起限位作用。当压模和基片由于不平行，在下压时某处先接触，压模可绕过压模下表面中心点的Y或X轴线作微滚动旋转，达到压模和基片的完全平行贴合与压紧，不产生对准偏离与在水平面内旋转，使纳米压印套准精度大幅提高，制作出复杂多层的纳米图形结构，该机构用常规设备加工，制作方便，成本低廉，应用广泛。
Description
技术领域
本发明是一种圆弧导轨纳米压印倾斜校正机构，属于微细加工制作纳米图形结构器件纳米压印装置设备技术领域。
背景技术
纳米压印技术由于操作简单、分辨率高、能大批量制作纳米图形结构而受到重视，它是由微接触印刷和毛细管微模压制的刻印技术发展起来的，是使用有纳米图形的有弹性的印章或铸模将自组装单分子膜印制到基片上，由于印章或铸模是有弹性的，在大面积基片上制作纳米图形时图形各部位的均匀性和重复性将出现较大的误差。为克服该不足，出现了采用刚性压模的硬压印，即在基片的聚合物薄膜上压出纳米级图形，它包括加热压印和闪光压印，无论是那一种压印，在压模下压时压模的图形平面都必须与被压基片平面平行贴合，在已有的压印装置中，压模下压后压模的图形平面已能做到与被压基片平面平行，但存在一个问题，那就是在自动调整压模图形平面和被压基片平面平行时，需要一定的旋转力矩，压模平面相对于基片平面横向产生了微小位移，使在下压前已套准了的图形，在压印后产生了偏离，因此存在着套压精度较低，同时结构和加工工艺复杂，成本高的缺点。
发明内容
本发明的技术解决问题是：克服上述现有技术的不足，提供一种结构极其简单，成本又低的圆弧导轨纳米压印倾斜校正机构，该倾斜校正机构在压模下压后既能自动调整压模图形平面和被压基片平面平行贴合，又不会在压模下压中产生压模和基片的相对横向方向上微位移，套压精度高，压印出高精度的纳米图形。
本发明的技术解决方案是：圆弧导轨纳米压印倾斜校正机构，其特点在于：它由上圆弧导轨、中圆弧导轨、下圆弧导轨、限位外套、压模卡盘、压模、基片、钢球或滚柱、上下隔离架、拉簧和拉簧挂销组成，上中下圆弧导轨之间有钢球或滚柱，4个拉簧的两端挂钩分别挂在安装在上圆弧导轨和下圆弧导轨上的各4个拉簧挂销上，下圆弧导轨与压模卡盘相接，压模装于压模卡盘内，正对压模的下方是基片，上隔离架位于上圆弧导轨和中圆弧导轨之间，由中圆弧导轨或钢球支撑，下隔离架位于中圆弧导轨和下圆弧导轨之间，由下圆弧导轨或钢球支撑，钢球或滚柱位于各隔离架内，限位外套安装在上圆弧导轨上，它的下方四周对下圆弧导轨的旋转角度范围起限位作用；当压模和基片由于不平行，在下压时某处先接触，压模可绕过压模下表面中心点的Y或X轴线作滚动微旋转，达到压模和基片的完全平行贴合与压紧，不产生对准偏离和在水平面内旋转。
所述的上圆弧导轨的导轨圆弧MyMy圆心为O点，下圆弧导轨的导轨圆弧MxMx圆心也为O点，中圆弧导轨包含了两个互相垂直方向的上下面两个圆弧导轨，其上下面导轨的圆弧MyMy和MxMx圆心也为O点，不少于10个的钢球可在由上圆弧导轨和中圆弧导轨的上面圆弧导轨组成的导轨槽内滚动，也能在由中圆弧导轨的下面圆弧导轨和下圆弧导轨组成的导轨槽内滚动，使中下圆弧导轨绕过上圆弧导轨圆心O点的直线AxAx(即X轴线)沿圆弧MyMy作±Δα角微滚动旋转，也使下圆弧导轨绕过下圆弧导轨圆心O点的直线AyAy(即Y轴轴线)沿圆弧MxMx作±Δβ角微滚动旋转，旋转圆心O和压模的下表面中心点重合，当压模和基片由于不平行，在下压时某处P先接触而产生一转动力矩时，压模可绕过O点的Y或X轴线作微滚动旋转，此时，在X(或Y)方向上压模边缘的最大偏离为：
Δx＝OAx-OAx|cosVβ|
Δy＝OAy-OAy|cosVα|
拉簧不仅将上中下三个圆弧导轨拉紧在一起，使中下圆弧导轨及压模不会下落，同时在微旋转时保证Z向无间隙，上中下三个圆弧导轨的导轨截面是上下正V型钢球滚动导轨截面，钢球只能在圆弧导轨V型槽内沿圆弧导轨弧线MyMy(MxMx)滚动。
所述的上中下三个圆弧导轨的导轨截面均为左右侧V型钢球滚动导轨截面，中下圆弧导轨及压模自身不会下落，4个拉簧只是使圆弧导轨在微旋转时保证Z向无间隙，钢球只能在圆弧导轨V型槽内沿圆弧导轨弧线MyMy(MxMx)滚动，不夹杂其它运动。
所述的上中下三个圆弧导轨的导轨截面为左右侧V型滚柱滚动导轨截面，4个拉簧只是使圆弧导轨在微旋转时保证Z向无间隙，滚柱只能在圆弧导轨V型槽内沿圆弧导轨弧线MyMy(MxMx)滚动，不夹杂其它运动，机构承受下压力大。
所述的上中下三个圆弧导轨的导轨截面均为上下V型滚柱滚动导轨截面，4个拉簧不仅将上中下三个圆弧导轨拉紧在一起，同时在微旋转时保证Z向无间隙，滚柱只能在圆弧导轨V型槽内沿圆弧导轨弧线MyMy(MxMx)滚动，不夹杂其它运动，机构承受下压力大。
本发明与现有技术相比具有以下优点：
1、该倾斜校正机构从结构原理上分析，不存在下压后自动找两个面平行的过程中产生横向微位移，因为压模的旋转中心真正做到了位于压模下表面即图形面的中心，不像多铰链纳米压印压模倾斜校正机构的旋转中心是近似位于压模下表面的中心，在下压后的理论横向位移为零，其实际横向位移只与钢球精度及圆弧导轨精度有关，其量很小，重复性更好；
2、该倾斜校正机构在下压中，因为压模和基片两个面的不平行，在某处先接触而产生的转动力矩非常小，因它的微旋转校正是滚动旋转，所需转动力几乎为零，而这个非常小的力的方向又垂直基片平面，使基片与压模相互压紧而移动的横向力也为零，因此非常有利于保持纳米图形的已对准状态，使纳米压印套准精度更高，制作出更复杂多层的小尺寸纳米图形结构；
3、应用该倾斜校正机构来校正纳米压印机下压中两平面的不平行，不产生横向水平平移的同时，还不会产生水平面内微旋转，有利于保持原有的对准精度；
4、该倾斜校正机构由于用了滚柱滚动，承受下压力可以达到非常大，很适合大面积压印的压印设备应用；
5、该结构更为简单，加工工艺也较为简单，用传统精密车床和精密镗床就可完成加工，制作成本低廉，易于推广应用。
附图说明
图1为本发明实施例1圆弧导轨滚动倾斜校正机构结构图；
图2为本发明实施例1圆弧导轨滚动倾斜校正机构侧视剖面图；
图3为本发明实施例1倾斜校正原理示意图；
图4为本发明实施例2倾斜校正机构结构图；
图5为本发明实施例2倾斜校正机构侧视剖面图；
图6为本发明实施例3倾斜校正机构结构图；
图7为本发明实施例3倾斜校正机构侧视剖面图；
图8为本发明实施例4倾斜校正机构结构图；
图9为本发明实施例4倾斜校正机构侧视剖面图。
具体实施方式
如图1、2所示，是本发明实施例1圆弧导轨倾斜校正机构图和侧视剖面图，它由上圆弧导轨1、中圆弧导轨2、下圆弧导轨3、限位外套4、压模卡盘5、压模6、基片7、钢球8、上隔离架9、下隔离架10、拉簧11和拉簧挂销12组成，上圆弧导轨1通过钢球8与中圆弧导轨2相接，上隔离架9位于上圆弧导轨1和中圆弧导轨2之间，由中圆弧导轨2支撑，是一个两边具有不少于10个可均匀容纳钢球8圆孔的水平方向矩形薄环柱片，将钢球8相互隔离开，中圆弧导轨2也通过钢球8与下圆弧导轨3相接，下隔离架10位于中圆弧导轨2和下圆弧导轨3之间，由下圆弧导轨3支撑，同样也是一个两边具有不少于10个可均匀容纳钢球8圆孔的水平方向矩形薄环柱片，将钢球8相互隔离开，4个拉簧11的两端挂钩分别挂在安装在上圆弧导轨1和下圆弧导轨3上的各4个拉簧挂销12上，下圆弧导轨3与压模卡盘5相接，压模6装于压模卡盘5内，正对压模6的下方是基片7，限位外套4安装在上圆弧导轨1上，它的下方四周对外形为矩形的下圆弧导轨3的旋转角度范围起限位作用。由上向下看，上中下圆弧导轨外形均为矩形，内部也均开矩形通孔。上圆弧导轨1的导轨圆弧MyMy圆心为O点，下圆弧导轨3的导轨圆弧MxMx圆心也为O点，中圆弧导轨2包含了两个互相垂直方向的上下面两个圆弧导轨，其上下面导轨的圆弧MyMy和MxMx圆心也为O点，不少于10个钢球的钢球8可在由上圆弧导轨1和中圆弧导轨2的上面圆弧导轨组成的导轨槽内滚动，也能在由中圆弧导轨2的下面圆弧导轨和下圆弧导轨3组成的导轨槽内滚动，使中下圆弧导轨(包括相接的压模6和压模卡盘5)绕过上圆弧导轨圆心O点的直线AxAx(即X轴线)沿圆弧MyMy作±Δα角微滚动旋转，也使下圆弧导轨3(包括相接的压模6及压模卡盘5)绕过下圆弧导轨圆心O点的直线AyAy(即Y轴轴线)沿圆弧MxMx作±Δβ角微滚动旋转，由于在结构上已预先设计达到圆心O和压模6的下表面中心点精确重合，当压模6和基片7由于不平行(见图3)，在下压时某处P先接触而产生一转动力矩时，压模6则可沿上面所述的圆弧MyMy与MxMx绕过O点的Y或X轴线作微旋转，达到压模6和基片7的完全平行贴合与压紧，因为是滚动旋转，不仅因接触而产生的转动力矩最小，而且在下压的过程中还准确绕压模6的下表面中心O点作±Δβ(±Δα)微旋转，此时，在x(或y)方向上压模边缘的最大偏离可从几何关系得到：
Δx＝OAx-OAx|cosVβ|
Δy＝OAy-OAy|cosVα|
由上面两式可知，Δα(Δβ)微旋转角很小，cosVβ和cosVα都趋向1，Δx(Δy)都是趋向于零的二阶微量，所以实际偏离量达到最小。
在图1和2中还可看到，由于4个拉簧11分别借助于固定在上圆弧导轨1和下圆弧导轨3上的8个拉簧挂销12将上中下三个圆弧导轨拉紧在一起，使中下圆弧导轨及压模不会下落，同时在微旋转时保证Z向无间隙，又由于上中下三个圆弧导轨的导轨截面均为上下正V型钢球滚动截面，钢球8只能在圆弧导轨V型槽内沿圆弧导轨弧线MyMy(MxMx)滚动，不会在水平面内有任何的微旋转偏离。因此在压模6下压，由于微旋转调整而引起的压模6的水平微移动和微转动为最小，同时也不夹杂其它运动，非常有利压模6和基片7图形下压时的高精度套准。
如图4、5所示，是本发明实施例2圆弧导轨倾斜校正机构图和侧视剖面图，它由上圆弧导轨1、中圆弧导轨2、下圆弧导轨3、限位外套4、压模卡盘5、压模6、基片7、钢球8、上隔离架9、下隔离架10、拉簧11和拉簧挂销12组成，与上实施例1同样上圆弧导轨1通过钢球8与中圆弧导轨2相接，上隔离架9位于上圆弧导轨1和中圆弧导轨2之间，由钢球8支撑，是一个两边具有不少于10个可均匀容纳钢球8圆孔的矩形薄环圈，将钢球8相互隔离开，中圆弧导轨2也通过钢球8与下圆弧导轨3相接，下隔离架10位于中圆弧导轨2和下圆弧导轨3之间，由钢球8支撑，也是一个两边具有不少于10个可均匀容纳钢球8圆孔的矩形薄环圈，将钢球8相互隔离开，4个拉簧11的两端挂钩分别挂在安装在上圆弧导轨1和下圆弧导轨3上的各4个拉簧挂销12上，下圆弧导轨3与压模卡盘5相接。压模6装于压模卡盘5内，正对压模6的下方是基片7，限位外套4安装在上圆弧导轨1上，它的下方四周对外形为矩形的下圆弧导轨3的旋转角度范围起限位作用。由上向下看，上中下圆弧导轨外形均为矩形，内部也均开矩形通孔。上圆弧导轨1的导轨圆弧MyMy圆心为O点，下圆弧导轨3的圆弧导轨的圆弧MxMx圆心也为O点，中圆弧导轨2包含了两个互相垂直方向的上下面两个圆弧导轨，其上下面导轨的圆弧MyMy和MxMx圆心也为O点，不少于10个钢球的钢球8可在由上圆弧导轨1和中圆弧导轨2的上面圆弧导轨组成的导轨槽内滚动，也能在由中圆弧导轨2的下面圆弧导轨和下圆弧导轨3组成的导轨槽内滚动，使中下圆弧导轨(包括相接的压模6和压模卡盘5)绕过上圆弧导轨圆心O点的直线AxAx(即X轴线)沿圆弧MyMy作±Δα角微滚动旋转，也使下圆弧导轨3(包括相接的压模6及压模卡盘5)绕过下圆弧导轨圆心O点的直线AyAy(即Y轴轴线)沿圆弧MxMx作±Δβ角微滚动旋转，上下圆弧导轨圆弧的圆心都为同一的O点，由于在结构上已预先设计保证圆心O和压模6的下表面中心点精确重合，当压模6和基片7由于不平行，在下压时某处先接触而产生一转动力矩时，压模6则可沿上面所述的圆弧MyMy与MxMx绕过O点的X或Y轴线作微旋转，达到压模6和基片7的完全平行贴合与压紧，其产生的转动力矩最小，在x(或y)方向上偏离由于都是趋向于零的二次微量，加上微旋转角本来就很小，所以实际偏离量也是最小。
由图4和5还可看到，本实施例2上中下三个圆弧导轨的导轨截面均为左右侧V型钢球滚动截面，中下圆弧导轨及压模自身不会下落，4个拉簧11只是使圆弧导轨在微旋转时保证Z向无间隙，同样钢球8只能在圆弧导轨V型槽内沿圆弧导轨弧线MyMy(MxMx)滚动，不夹杂其它运动。
如图6、7所示，是本发明实施例3圆弧导轨倾斜校正机构图和侧视剖面图，它由上圆弧导轨1、中圆弧导轨2、下圆弧导轨3、限位外套4、压模卡盘5、压模6、基片7、滚柱13、上隔离架9、下隔离架10、拉簧11和拉簧挂销12组成，与上实施例1同样上圆弧导轨1通过滚柱13与中圆弧导轨2相接，上隔离架9位于上圆弧导轨1和中圆弧导轨2之间，由中圆弧导轨2支撑，是一个两边具有不少于10个可均匀容纳滚柱13小矩形孔的矩形框，将滚柱13相互隔离开，中圆弧导轨2也通过滚柱13与下圆弧导轨3相接，下隔离架10位于中圆弧导轨2和下圆弧导轨3之间，由下圆弧导轨3支撑，也是一个两边具有不少于10个可均匀容纳滚柱13小矩形孔的矩形框，将滚柱13相互隔离开，4个拉簧11的两端挂钩分别挂在安装在上圆弧导轨1和下圆弧导轨3上的各4个拉簧挂销12上，下圆弧导轨3与压模卡盘5相接，压模6装于压模卡盘5内，正对压模6的下方是基片7，限位外套4安装在上圆弧导轨1上，它的下方四周对外形为矩形的下圆弧导轨3的旋转角度范围起限位作用。由上向下看，上中下圆弧导轨外形均为矩形，内部也均开矩形通孔。上圆弧导轨1的导轨圆弧MyMy圆心为O点，下圆弧导轨3的导轨圆弧MxMx圆心也为O点，中圆弧导轨2包含了两个互相垂直方向的上下面两个圆弧导轨，其上下面导轨圆弧MyMy和MxMx圆心也为O点，不少于10个滚柱的滚柱13可在由上圆弧导轨1和中圆弧导轨2的上面圆弧导轨组成的导轨槽内滚动，也能在由中圆弧导轨2的下面圆弧导轨和下圆弧导轨3组成的导轨槽内滚动，使中下圆弧导轨(包括相接的压模6和压模卡盘5)绕过上圆弧导轨圆心O点的直线AxAx(即X轴线)沿圆弧MyMy作±Δα角微滚动旋转，也使下圆弧导轨3(包括相接的压模6及压模卡盘5)绕过下圆弧导轨圆心O点的直线AyAy(即Y轴轴线)沿圆弧MxMx作±Δβ角微滚动旋转，上下圆弧导轨圆弧的圆心都为同一的O点，由于在结构上已预先设计保证圆心O和压模6的下表面中心点精确重合，当压模6和基片7由于不平行，在下压时某处先接触而产生一转动力矩时，压模6则可沿上面所述的圆弧MyMy与MxMx绕过O点的X或Y轴线作微旋转，达到压模6和基片7的完全平行贴合与压紧，其产生的转动力矩最小，在x(或y)方向上偏离由于都是趋向于零的二次微量，加上微旋转角本来就很小，所以实际偏离量也是最小。
由图6和7还可看到，本实施例3上中下三个圆弧导轨的导轨截面均为左右侧V型滚柱滚动截面，中下圆弧导轨及压模自身不会下落，4个拉簧11只是使圆弧导轨在微旋转时保证Z向无间隙，同样滚柱13只能在圆弧导轨V型槽内沿圆弧导轨弧线MyMy(MxMx)滚动，不夹杂其它运动，由于是滚柱滚动，承受下压力可以达到非常大，适合大面积压印的压印设备应用。
如图8、9所示，是本发明实施例4圆弧导轨倾斜校正机构图和侧视剖面图，它由上圆弧导轨1、中圆弧导轨2、下圆弧导轨3、限位外套4、压模卡盘5、压模6、基片7、滚柱13、上隔离架9、下隔离架10、拉簧11和拉簧挂销12组成，与上实施例1同样上圆弧导轨1通过滚柱13与中圆弧导轨2相接，上隔离架9位于上圆弧导轨1和中圆弧导轨2之间，由中圆弧导轨2支撑，是一个两边具有不少于10个可均匀容纳滚柱13小矩形孔的矩形框片，将滚柱13相互隔离开，中圆弧导轨2也通过滚柱13与下圆弧导轨3相接，下隔离架10位于中圆弧导轨2和下圆弧导轨3之间，由下圆弧导轨3支撑，也是一个两边具有不少于10个可均匀容纳滚柱13小矩形孔的矩形框片，将滚柱13相互隔离开，4个拉簧11的两端挂钩分别挂在安装在上圆弧导轨1和下圆弧导轨3上的各4个拉簧挂销12上，下圆弧导轨3与压模卡盘5相接，压模6装于压模卡盘5内，正对压模6的下方是基片7，限位外套4安装在上圆弧导轨1上，它的下方四周对外形为矩形的下圆弧导轨3的旋转角度范围起限位作用。由上向下看，上中下圆弧导轨外形均为矩形，内部也均开矩形通孔。上圆弧导轨1的圆弧导轨的圆弧MyMy圆心为O点，下圆弧导轨3的圆弧导轨的圆弧MxMx圆心也为O点，中圆弧导轨2包含了两个互相垂直方向的上下面两个圆弧导轨，其上下面导轨的圆弧MyMy和MxMx圆心也为O点，不少于10个滚柱的滚柱13可在由上圆弧导轨1和中圆弧导轨2的上面圆弧导轨组成的导轨槽内滚动，也能在由中圆弧导轨2的下面圆弧导轨和下圆弧导轨3组成的导轨槽内滚动，使中下圆弧导轨(包括相接的压模6和压模卡盘5)绕过上圆弧导轨圆心O点的直线AxAx(即X轴线)沿圆弧MyMy作±Δα角微滚动旋转，也使下圆弧导轨3(包括相接的压模6及压模卡盘5)绕过下圆弧导轨圆心O点的直线AyAy(即Y轴轴线)沿圆弧MxMx作±Δβ角微滚动旋转，上下圆弧导轨圆弧的圆心都为同一的O点，由于在结构上已预先设计保证圆心O和压模6的下表面中心点精确重合，当压模6和基片7由于不平行，在下压时某处先接触而产生一转动力矩时，压模6则可沿上面所述的圆弧MyMy与MxMx绕过O点的X或Y轴线作微旋转，达到压模6和基片7的完全平行贴合与压紧，其产生的转动力矩最小，在x(或y)方向上偏离由于都是趋向于零的二次微量，加上微旋转角本来就很小，所以实际偏离量也是最小。
由图8和9还可看到，本实施例4上中下三个圆弧导轨的导轨截面均为上下V型滚柱滚动导轨截面，由于4个拉簧11分别借助于固定在上圆弧导轨1和下圆弧导轨3上的8个拉簧挂销12将上中下三个圆弧导轨拉紧在一起，使中下圆弧导轨及压模不会下落，同时在微旋转时保证Z向无间隙，同样滚柱13只能在圆弧导轨V型槽内沿圆弧导轨弧线MyMy(MxMx)滚动，不夹杂其它运动，由于是滚柱滚动，承受下压力可以达到非常大，适合大面积压印的压印设备应用。
Claims (8)
1、圆弧导轨纳米压印倾斜校正机构，其特征在于：由上圆弧导轨(1)、中圆弧导轨(2)、下圆弧导轨(3)、限位外套(4)、压模卡盘(5)、压模(6)、基片(7)、钢球(8)或滚柱(13)、上隔离架(9)、下隔离架(10)、4个拉簧(11)和8个拉簧挂销(12)组成，上圆弧导轨(1)、中圆弧导轨(2)、下圆弧导轨(3)之间均设有钢球(8)或滚柱(13)，4个拉簧(11)的两端挂钩分别挂在安装在上圆弧导轨(1)和下圆弧导轨(3)上的各4个拉簧挂销(12)上，下圆弧导轨(3)与压模卡盘(5)相接，压模(6)装于压模卡盘(5)内，正对压模(6)的下方是基片(7)，上隔离架(9)位于上圆弧导轨(1)和中圆弧导轨(2)之间，由中圆弧导轨(2)或钢球(8)支撑，下隔离架(10)位于中圆弧导轨(2)和下圆弧导轨(3)之间，由下圆弧导轨(3)或钢球(8)支撑，钢球(8)或滚柱(13)位于各隔离架内，限位外套(4)安装在上圆弧导轨(1)上，它的下方四周对下圆弧导轨(3)的旋转角度范围起限位作用；当压模(6)和基片(7)由于不平行，在下压时某处先接触，压模(6)可绕过压模(6)下表面中心点的Y或X轴线作滚动微旋转，达到压模(6)和基片(7)的完全平行贴合与压紧，不产生对准偏离与在水平面内旋转。
2、根据权利要求1所述的圆弧导轨纳米压印倾斜校正机构，其特征在于：所述的上圆弧导轨(1)的导轨圆弧MyMy圆心为O点。
3、根据权利要求1所述的圆弧导轨纳米压印倾斜校正机构，其特征在于：所述的下圆弧导轨(3)的导轨圆弧MxMx圆心为O点。
4、根据权利要求1所述的圆弧导轨纳米压印倾斜校正机构，其特征在于：所述的中圆弧导轨(2)包含了两个互相垂直方向的上下面两个圆弧导轨，其上下面导轨的圆弧MyMy和MxMx圆心为O点，不少于10个钢球的钢球(8)可在由上圆弧导轨(1)和中圆弧导轨(2)的上面圆弧导轨组成的导轨槽内滚动，也能在由中圆弧导轨(2)的下面圆弧导轨和下圆弧导轨(3)组成的导轨槽内滚动，使中下圆弧导轨绕过上圆弧导轨圆心O点的直线AxAx(即X轴线)沿圆弧MyMy作±Δα角微滚动旋转，也使下圆弧导轨(3)绕过下圆弧导轨圆心O点的直线AyAy(即Y轴轴线)沿圆弧MxMx作±Δβ角微滚动旋转，旋转圆心O和压模(6)的下表面中心点重合。
5、根据权利要求1所述的圆弧导轨纳米压印倾斜校正机构，其特征还在于：上圆弧导轨(1)、中圆弧导轨(2)和下圆弧导轨(3)的导轨截面均为上下正V型钢球滚动导轨截面。
6、根据权利要求1所述的圆弧导轨纳米压印倾斜校正机构，其特征还在于：上圆弧导轨(1)、中圆弧导轨(2)、下圆弧导轨(3)的导轨截面均为左右侧V型钢球滚动导轨截面。
7、根据权利要求1所述的圆弧导轨纳米压印倾斜校正机构，其特征还在于：上圆弧导轨(1)、中圆弧导轨(2)、下圆弧导轨(3)的导轨截面为左右侧V型滚柱滚动导轨截面。
8、根据权利要求1所述的圆弧导轨纳米压印倾斜校正机构，其特征还在于：上圆弧导轨(1)、中圆弧导轨(2)、下圆弧导轨(3)的导轨截面均为上下V型滚柱滚动导轨截面。
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| CNB2005101307412A CN100498527C (zh) | 2005-12-27 | 2005-12-27 | 圆弧导轨纳米压印倾斜校正机构 |
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