CN1790168A - 模版处理系统 - Google Patents

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Abstract

对方向错误地安装的模版输送容器(11)进行自动修正。该模版处理系统具有模版输送容器、输送模版输送容器的输送机构(4、5)、烧制电路图案的曝光设备、保管多个模版(12)的模版储存器(2)。在从模版储存器至曝光设备(1)的烧制位置之间的路径上，备有检测模版输送容器的朝向并将模版输送容器变换为适当朝向的朝向变换机构(81)。朝向变换机构(81)备有：使模版输送容器旋转的旋转驱动部(82)、设置于从模版储存器到曝光设备(1)的烧制位置之间的路径的任意处并检测模版输送容器的方向的方向检测机构(83)、当由方向检测机构(83)检测出的方向偏离180°时控制旋转驱动部(82)修正成标准方向的控制部(84)。

Description

模版处理系统
技术领域
本发明涉及一种模版处理系统，其中利用输送机构将收纳有模版的模版输送容器从模版储存器输送到曝光设备，并通过曝光设备借助上述模版在基板上烧制电路图案。
背景技术
半导体元件或液晶显示元件等的制造在光刻工序中进行。在该工序中，形成于模版(包括光掩模)的图案的像由曝光设备投影转印到半导体晶片或玻璃板等基板上。
此时，在基板上涂敷有感光剂，投影后的图案与感光剂反应，经过其后的处理而形成电路。
在该工序中，为了防止由灰尘等所引起的污染或由接触等所引起的损伤等，将模版收纳于专用的模版输送容器中进行处理。
此时，当形成的电路复杂时，由于必须在基板上作出很多的电路图案，从而必须与之相应地准备很多模版，在基板上重合很多图案而进行曝光。
图2表示在该光刻工序中使用的模版处理系统的一个例子。图中的附图标记1表示将电路图案投影·转印到基板上的曝光设备。附图标记2表示收纳并保管有很多模版的模版储存器。附图标记3是收纳有模版的模版输送容器。附图标记4是输送导轨，其设置于曝光设备1和模版储存器2之间，并对模版在收纳于模版输送容器3中的状态下于曝光设备1和模版储存器2之间进行输送。附图标记5是设置于输送导轨4上、直接把持并搬运模版输送容器3的输送机构部。
这些部件由控制装置(未图示)进行控制。由此，电路图案所必需的模版，在收纳于模版输送容器3的状态下，由输送导轨4的输送机构部5从模版储存器2输送到曝光设备1。曝光设备1中不再需要的模版借助输送导轨4的输送机构部5返回到模版储存器2中。
在上述工序中使用的模版，由于尘埃等引起的污染或接触等造成的损伤而无法形成准确的电路图案，所以为了安全且可靠地支承模版，将其收纳于模版输送容器3中。该模版输送容器3，根据其与曝光在基板上的电路图案之间的关系而以限定为准确的朝向的状态加以输送。该模版输送容器3的输送、模版的曝光等处理，由模版处理系统来进行。
日本特开平10-163094号公报公开了该模版处理系统的一个例子。在日本特开平10-163094号公报中，设有模版箱对位装置，进行模版舱的对位，进而进行曝光处理。
但是，在上述的现有模版处理系统中，当操作人员从外部将模版输送容器3装入系统内时，在模版输送容器3的朝向错误的情况下，或是无法将模版输送容器3安装于系统内，或是停止对位装置而加以应对。也就是说，通常，利用设置于模版输送容器3上的运动销槽和设置于系统侧的装置上的运动销，仅能够在以正确的朝向安装了模版输送容器3的情况下将其安装于系统内。另外，假设模版输送容器3的朝向错误地安装于系统内时，在上述对位装置处位置不对合从而使该装置停止，进而在装置停止后进行改变模版输送容器3的朝向等的处理。
但是，在这些情况下会产生作业效率低下的问题。即，若在模版输送容器3的朝向错误的情况下模版输送容器3无法安装于系统内，则操作人员在将模版输送容器3安装于系统内时必须加倍注意，从而导致作业效率的低下。另外，当模版输送容器的朝向错误时，若停止装置而进行改变模版输送容器3的朝向的作业，则由于在此期间停止了系统，会导致曝光处理的作业效率降低。
发明内容
本发明为了解决上述课题，提供一种模版处理系统，其容许模版输送容器的朝向错误并能自动修正该朝向错误。也就是说，本发明的特征在于，至少具有：收纳模版的模版输送容器、输送该模版输送容器的输送机构、利用上述模版在半导体晶片上的抗蚀剂上烧制电路图案的曝光设备、以及保管多个上述模版的模版储存器，在从上述模版储存器至上述曝光设备的烧制位置之间的路径的至少一个部位上，备有检测上述模版输送容器的朝向并将该模版输送容器变换为适当朝向的机构。
由此，在上述模版输送容器从上述模版储存器移动到上述曝光设备的烧制位置期间，由将上述模版输送容器变换为适当朝向的机构来检测模版输送容器的朝向并将其修正为适当的朝向。
希望上述将模版输送容器变换为适当朝向的机构备有：旋转驱动部，使上述模版输送容器旋转；方向检测机构，设置于从上述模版储存器到上述曝光设备的烧制位置之间的路径的任意处，检测上述模版输送容器的方向；控制部，判断由该方向检测机构检测出的方向是否为标准的方向，当方向偏离180°时，控制上述旋转驱动部而旋转到标准方向。
由此，上述控制部，在判断由上述方向检测机构检测的方向偏离180°的情况下，控制上述旋转驱动部而旋转到标准方向。
希望上述方向检测机构备有以非接触方式检测上述模版输送容器的方向的无线标签。
由此，在模版输送容器的输送途中，可不停止输送地以非接触的方式检测模版输送容器的方向。当判断由上述方向检测机构检测出的方向偏离180°时，上述控制部控制上述旋转驱动部而旋转到标准的方向。
上述方向检测机构也可以备有以非接触方式检测上述模版输送容器的方向的光学传感器。
由此，与无线标签的情况同样地，在模版输送容器的输送途中，可不停止输送地以非接触的方式检测模版输送容器的方向。当判断由上述方向检测机构检测出的方向偏离180°时，上述控制部控制上述旋转驱动部而旋转到标准的方向。
希望上述将模版输送容器变换为适当朝向的机构配备在上述输送机构内或者上述曝光设备内。
由此，在上述模版输送容器被取入到上述输送机构内期间或被取入到上述曝光设备内期间，判断模版输送容器的方向是否正确，当错误时进行修正。
希望以方向相差180°的方式设置两组运动销槽，所述运动销槽形成于上述模版输送容器的门的外侧表面上，用于定位并安装于上述曝光设备。
由此，在将上述模版输送容器安装于模版储存器时，即使模版输送容器的方向错误，也能够以该状态进行安装，不必加倍注意模版输送容器的方向。
希望在上述模版输送容器的舱的外侧表面中与上述运动销槽相对应的位置上，配置用于承接并保持上述运动销槽的承接部，所述承接部配置成从任意方向均可嵌合上述两组运动销槽。
由此，不必加倍注意多个模版输送容器的方向便可对其进行层叠。
附图说明
图1是表示本发明实施方式的模版输送容器的朝向变换机构的功能框图。
图2是表示在光刻工序中所采用的装置的一个例子的概略结构图。
图3是对本发明实施方式的门从其底面侧进行观察时的立体图。
图4是表示在舱和门相互分离的状态下的本发明实施方式的模版输送容器的立体图。
图5是表示本发明实施方式的模版输送容器的侧剖视图。
图6是表示本发明实施方式的模版输送容器的要部的剖视图。
图7是表示本发明实施方式的膜式过滤器的要部剖视图。
图8是表示本发明实施方式的无线标签的要部剖视图。
具体实施方式
下面参照附图说明本发明的实施方式。图1是表示朝向变换机构的功能框图。图3是对门从其底面侧进行观察时的立体图。图4是表示本实施方式的舱和门相互分离的状态下的模版输送容器的立体图。图5是表示本实施方式的模版输送容器的侧剖视图。图6是表示本实施方式的模版输送容器的要部的剖视图。图7是表示膜式过滤器的要部剖视图。图8是表示无线标签的要部剖视图。
象图4和图5所示的那样，模版输送容器11主要包括收纳模版12的舱13、封闭该舱13的门14、和密封件15，该密封件15设置于该舱13和门14之间，将内部气密地密封。
舱13包括主体部17和周缘嵌合部18，在该主体部17的内部收纳模版12，该周缘嵌合部18与该主体部17的外周一体形成并与门14嵌合。
主体部17呈盘状形成，设定成可将模版12完全收纳在内部的深度。在主体部17的中央部，设置有输送用的中心操作凸缘20。在该主体部17的周缘部，设置有水平延伸的板状的侧面操作凸缘21。该中心操作凸缘20与输送装置的臂部(图中未示出)结合，将模版输送容器11或舱13上抬。另外，侧面操作凸缘21在曝光设备内将门14与舱13以机械方式分离时用作辅助支承机构。此外，在主体部17的外侧表面的周缘部上，后述的运动销槽(キネマテイツクピングル一ブ)61的承接部22以每条边3个部位的方式，在对置的2条边上设置于共计6个部位上。这6个部位的承接部22配置在与运动销槽61对应的位置上，从任意方向均能嵌合两组运动销槽61。各承接部22由俯视形状呈半圆形的板材形成。该俯视形状呈半圆形的各承接部22按照向外侧开口的方式设置。俯视形状呈半圆形的各承接部22按照其前端侧比基端侧更相互靠近而稍稍向内侧倾斜的方式形成。由此，上侧的模版输送容器11的运动销槽61容易嵌合并准确定位在下侧的模版输送容器11的承接部22上，这样，能简单并且稳定地将多个模版输送容器11叠置。
在主体部17的内侧的4个角部附近，设置有模版保持器25。该模版保持器25为与后述门14侧的模版保持器45成对而用于支承模版12的部件。该模版保持器25象图5和图6所示的那样，包括保持器承接部26和保持器板部27。该保持器承接部26为用于支承保持器板部27的部件。该保持器承接部26在主体部17的内侧的四个角部附近，与主体部17一起一体地形成。具体来说，该保持器承接部26由形成于主体部17的角部的五边形的板材形成，其1条边为形成接触并弹性地支承模版12的上侧角部12A的倾斜面部28的边。在该保持器承接部26的、形成倾斜面部28的边的一端，设置有保持器板部27的一端部嵌合的一端侧嵌合用缺口29。在该保持器承接部26的、形成倾斜面部28的边的另一端，设置有保持器板部27的另一端部嵌合的另一端侧嵌合用缺口30。此外，在形成倾斜面部28的边上，设置有凹部31。该凹部31设置于倾斜面部28的内侧，为用于在模版12的上侧角部12A接触时允许倾斜面部28的挠曲的部位。通过该凹部31，使保持器板部27具有缓冲功能。即，具有下述的缓冲功能：由于保持器板部27本身具有的弹性，以及凹部31的作用，保持器板部27弹性地挠曲，由此，吸收从外部传递的振动等，弹性地支承模版12。凹部31的间隙可为1mm左右以上。
保持器板部27为形成接触并弹性地支承模版12的上侧角部12A的倾斜面部28的部件。保持器板部27由弹性高分子材料成形。具体来说，采用PEE(聚酯弹性体)、PBT(聚对苯二甲酸丁二醇酯)、PP(聚丙烯)等不发尘的弹性材料。保持器板部27包括接触面板33、一端嵌合部34与另一端嵌合部35，其侧面形状呈非规则的コ字状。该接触面板33为用于在保持器板部27与保持器承接部26嵌合的状态下构成倾斜面部28的部件。由于该接触面板33由具有弹性的合成树脂成形，故其本身弹性地变形，并且由于上述凹部31的作用，而弹性地挠曲，倾斜地接触并弹性地支承模版12的上侧角部12A。
一端嵌合部34为用于与保持器承接部26的一端侧嵌合用缺口29嵌合、从而将保持器板部27安装于保持器承接部26上的部分。另一端嵌合部35为用于与保持器承接部26的另一端侧嵌合用缺口30嵌合、从而将保持器板部27安装于保持器承接部26上的部分。由此，一端嵌合部34和另一端嵌合部35与一端侧嵌合用缺口29和另一端侧嵌合用缺口30嵌合，这样，将该保持器板部27固定于保持器承接部26上。
在主体部17的内侧的四个角部附近，除上述模版保持器25外还设置有膜片保持器37。有在模版12上不设置膜片的情况、在下侧面上设置膜片46的情况、在上下两侧面上设置膜片46的情况。膜片保持器37为在模版12的上侧面上设置膜片时起作用的部件。该膜片保持器37具有与模版保持器25相同的结构。即，该膜片保持器37包括：结构与模版保持器25的保持器承接部26相同的保持器承接部38、和结构与模版保持器25的保持器板部27相同的保持器板部39。在保持器板部39的内侧，设置有结构与模版保持器25的凹部31相同的凹部(图中未示出)。
舱13的周缘嵌合部18象图4和图5所示的那样，按照从主体部17的周缘向周围伸出的方式形成为盘状。该盘状的周缘嵌合部18设定为可将门14的周围完全收纳的深度。在该周缘嵌合部18的对置的边上，设置有用于固定门14的门扣41。
门14为用于通过与舱13的周缘嵌合部18嵌合而将舱13封闭、并通过密封件15将内部气密地密封的部件。该门14象图4～图6所示的那样，形成为基本平坦状，在其周缘上开设有密封槽43。密封件15安装于该密封槽43中，将舱13和门14之间气密地密封。在门14的上侧面上，在其4个角部的位置上设置有门侧支承部件44。该门侧支承部件44包括模版保持器45、膜片保持器47和底座板部48，该模版保持器45与上述舱13侧的模版保持器25相配合，从上下两侧支承模版，该膜片保持器47支承安装于模版12的下侧面上的膜片46，该底座板部48一体地支承模版保持器45和膜片保持器47。该模版保持器45为下述结构，即、保持器承接部50与上述的舱13侧的模版保持器25的保持器承接部27在与图6的纸面相垂直的方向上错开的状态下镜面对称。即，模版保持器45包括保持器承接部50和保持器板部51，它们与上述的模版保持器25的保持器承接部26和保持器板部27，如映在镜中时那样成对称的结构。保持器板部51的内侧的凹部52也具有与模版保持器25的凹部31相同的功能。即，保持器板部51能通过凹部52而弹性地挠曲，倾斜接触并弹性地支承模版12的下侧角部12B。
上述结构的模版保持器45和模版保持器25设置于相互错开的位置，能相互不妨碍地支承模版12。通过该模版保持器25、45夹持模版12，于规定位置对其进行支承。即使在取下舱13后，该模版12仍能由门14的模版保持器45支承在与门14隔开规定距离的状态下。膜片保持器47的膜片承接部56，与舱13侧的膜片保持器37的保持器承接部39为在图6的纸面内横向上错开的镜面对称的结构。即，膜片保持器47包括与舱13侧的膜片保持器37的保持器承接部38镜面对称的保持器承接部55、与保持器板部39镜面对称的保持器板部56。在保持器板部56的内侧，设置有结构与膜片保持器37的凹部相同的凹部(图中未示出)。
在门14的背面上，象图3所示的那样，设置有2组运动销槽61。该运动销槽61为用于定位并安装于曝光设备上的部件。该运动销槽61以设置于大致等腰三角形的顶点的位置的3个为一组，在朝向相差180°的状态下，设置有2组(61A，61B)，共计6个。这样做的目的在于，在将模版输送容器11安装于装置内部时，即使在作业者误将模版输送容器11的朝向改变了180°而安装的情况下，仍可直接安装。
在上述舱13中，象图7所示的那样，形成有膜式过滤器安装部62。该膜式过滤器安装部62是用于使得能可靠安装并且容易装卸膜式过滤器63的部分。该膜式过滤器安装部62包括：管导向件65、过滤器嵌合筒部66和止动器67。
该管导向件65为用于在内部收纳并固定膜式过滤器63的筒部。该管导向件65一体地设置于舱13的主体部17上。管导向件65的外侧开口，从而可装卸膜式过滤器63。另外，该管导向件65还构成用于与置换模版输送容器11内的气体用的气体供给管(图中未示出)连接的管。该管导向件65的内侧封闭，设置有过滤器嵌合筒部66。该过滤器嵌合筒部66为膜式过滤器63的嵌合筒部71嵌合用的筒部。该过滤器嵌合筒部66构成为在管导向件65的内部从其内侧底部向外侧延伸的小直径的筒部。在管导向件65的内侧面的中间位置上，设置有止动器67。该止动器67为用于固定安装于管导向件65内的膜式过滤器63而使其不会脱落的部件。
膜式过滤器63为用于允许气体进出模版输送容器11的内外的过滤器。该膜式过滤器63防止灰尘等的通过，仅仅允许气体在模版输送容器11的内外侧之间进出。该膜式过滤器63包括过滤器主体部70、嵌合筒部71、开口筒部72。
过滤器主体部70呈厚壁圆盘状形成，在其内部收纳过滤器。该过滤器主体部70的直径设定为与上述止动器67卡止的尺寸。嵌合筒部71为用于将过滤器主体部70的内部和模版输送容器11的内部连通的部件。嵌合筒部71在膜式过滤器63安装于管导向件65的内部的状态下，与过滤器嵌合筒部66嵌合，将过滤器主体部70的内部和模版输送容器11的内部连通。开口筒部72为用于通过过滤器将模版输送容器11的内部和外部连通的筒部。另外，作为过滤器，填充0.1～0.5μm的筛网，其将非活性气体或干燥空气中的灰尘成分去除。
在门14的外侧表面上，象图8所示的那样，设置有无线标签(タグ)74。该无线标签74在由覆盖板75覆盖的状态下安装于门14的外侧表面上。在覆盖板75完全覆盖无线标签74的状态下熔接其全周，从而将其内部密封。在覆盖板75上，形成有收纳无线标签74的凹部75A。在无线标签74收纳于该覆盖板75的凹部75A中的状态下，将覆盖板75的全周熔接于门14的外侧表面上。由此，将无线标签74密封收纳于覆盖板75的内部。这样做的目的在于，在模版输送容器11的输送过程中等时，防止无线标签74的脱落或机械性损伤。另外，这样做的目的还在于防止无线标签本身造成的对装置的污染。该无线标签74是下述元件，其备有线圈状的天线(未图示)和IC芯片(未图示)，通过来自外部的电磁波的变化而在天线中产生感应电动势，利用该电动势的变化而在非接触状态下向IC芯片写入信息或从其中读出记录的信息。在该无线标签74中，存储有处理、保管等时所需的各种管理信息。进而，无线标签74还具有后述的方向检测机构的作用。另外，无线标签74也可以设置在舱13侧。
采用上述模版输送容器11而将电路图案烧制于半导体晶片等基板上的模版处理系统具有下述的结构。该模版处理系统的整体结构与图2所示的现有的模版处理系统具有通用的部分，从而对于相同的结构部分采用相同的附图标记并省略其说明。模版处理系统主要包括：收纳模版12的上述模版输送容器11，输送模版输送容器11的输送机构(4、5)，采用上述模版12而在半导体晶片(未图示)上的抗蚀剂上烧制电路图案的曝光设备1，保管多个上述模版12的模版储存器2，将模版输送容器变换为适当朝向的朝向变换机构81(参照图1)。
输送机构(4、5)为用于进行下述作业的机构，即、与模版输送容器11的中心操作凸缘20相结合，为了电路图案的烧制而将模版输送容器11从模版储存器2输送到曝光设备1，并且，将完成了电路图案烧制的模版输送容器11输送到模版储存器2的原来的位置。输送机构(4、5)可以为各种结构，在此，是由输送导轨4和输送机构部5构成的。作为输送机构，除了采用导轨以外，还可以采用带式输送机或自行式的装置等。
在输送机构部5上，设有与模版输送容器11的中心操作凸缘20相结合的臂部(未图示)。由此，输送机构部5的臂部与中心操作凸缘20相结合并提起模版输送容器11。在臂部上设有后述的朝向变换机构81的旋转驱动部82。
朝向变换机构81是用于将模版输送容器11修正为适当的朝向的机构。即，检测模版输送容器11的朝向是否正确，在正确的情况下保持该朝向，而在错误的情况下变换为适当的朝向。该朝向变换机构81设置在从模版储存器2至曝光设备1的烧制位置之间的路径上的至少一个部位上。这是为了：在将从模版储存器2输送至曝光设备1的烧制位置的模版12安装于烧制位置之前，修正到正确的朝向。只要能在从模版储存器2至曝光设备1的烧制位置之间将模版12修正到正确的朝向就不会产生什么问题，所以，只要在从模版储存器2至曝光设备1的烧制位置之间的路径的至少一个部位上设置即可。也可以在多个部位设置朝向变换机构81，从而在多个部位上检查模版输送容器11的朝向。例如，可以设置在输送机构(4、5)上、或从曝光设备1内的输入口至烧制位置之间的路径上。在曝光设备1内也设有输送机构，该输送机构从输入口取入模版输送容器11，并在途中从模版输送容器11卸下模版12的舱13和门14，将模版12输送至烧制位置。因此，也可以在曝光设备1内的输送机构部分上设置朝向变换机构81，然而在本实施方式中，是以设置于输送机构(4、5)为例进行说明的。
如图1所示，朝向变换机构81主要包括：旋转驱动部82、方向检测机构83和控制部84。
旋转驱动部82是用于使模版输送容器11旋转的机构。该旋转驱动部82与输送机构部5的臂部设置成一体并旋转驱动该臂部。旋转驱动部82由安装于被可旋转地支承的臂部上的齿轮(未图示)、和与该齿轮相啮合并使臂部旋转的驱动马达(未图示)等构成。由此，在臂部与模版输送容器11的中心操作凸缘20相结合的状态下，由旋转驱动部82旋转驱动臂部来修正模版输送容器11的朝向。
方向检测机构83是用于检测模版输送容器11的方向的机构。该方向检测机构83只要能够在模版输送容器11从模版储存器2输送至曝光设备1的烧制位置期间检测模版输送容器11的方向即可，所以，设置于从模版储存器2至曝光设备1的烧制位置之间的路径上的、不妨碍其它装置的任意位置上。
作为方向检测机构83，包括能够检测模版输送容器11的方向的各种机构。包括电气机构、光学机构、机械机构等。作为电气机构采用上述的无线标签74。该无线标签74的读取设备(未图示)，与输送的模版输送容器11的无线标签74对置地设置在沿输送导轨4的位置上。也就是说，将其设置于当将模版输送容器11设置于正确方向而加以输送时、能够与无线标签74相互反应并进行信息交换的位置上。读取设备具有电波到达距离为数十厘米左右的微弱电波发射机86和反射波的微弱电波接收机87，这两个设备均设置于与无线标签74的天线对置的位置上。该微弱电波发射机86以及微弱电波接收机87和天线之间的间隔与电波到达距离相应地设定为数十厘米左右。而且，在微弱电波发射机86以及微弱电波接收机87和天线之间，具有若模版输送容器11的朝向改变则反射波的强度改变的特性。也就是说，设定为，当模版输送容器11为正确朝向和相差180°的朝向时，来自天线的反射波的强度改变。在此情况下，可以通过微弱电波发射机86以及微弱电波接收机87和天线之间的位置关系来实现上述特性。也可以安装朝向旋转180°则电磁波的吸收率变化的吸收部件来实现上述特性。也可以使天线具有定向性，仅在模版输送容器11为正确朝向时，反射波才朝向微弱电波接收机87反射。另外，微弱电波接收机87不仅具有检测模版输送容器11的朝向的功能，还具有读取记录在无线标签74内的管理信息等的读取装置的功能。
也可以使得无线标签74仅用于信息管理，而与无线标签74分开地仅将反射电磁波的天线设置于模版输送容器11的舱13或门14。可以使该天线如上述那样具有定向性，或者调整天线的位置，或者设置吸收部件，以使得来自天线的反射波的不同与模版输送容器11的朝向相对应。
也可以设置多个无线标签74或天线，从多个反射波的接收位置检测模版输送容器11的朝向。可以将天线的安装位置设置为非对称的，从而当模版输送容器11的朝向改变时，多个反射波接收位置偏离，据此检测出模版输送容器11的朝向。
另外，也可以采用磁铁或磁带等。可以在模版输送容器11的特定位置上埋入磁铁或磁带等，由与磁铁或磁带等的位置相对应地设置的霍尔元件等来检测该磁铁的静磁场强度，并从其检测位置的不同检测出模版输送容器11的朝向。也可以设置多个磁铁或磁带等。在此情况下，通过错开该位置地埋入多个磁铁，若模版输送容器11的朝向改变则检测位置改变，可以根据检测位置的不同来检测出模版输送容器11的朝向。
另外，也存在用光学机构检测方向的方式。在此情况下，用光学传感器来检测模版输送容器11的有无。此时，在舱13或门14中、模版输送容器11的朝向相反时检查光的照射位置上设置凹部或孔。由此，当模版输送容器11通过时，若光学传感器检测出模版输送容器11的存在，则判断模版输送容器11的朝向为标准。当模版输送容器11的朝向相反时，光学传感器和凹部等相匹配，检查光进入凹部等中而导致光学传感器无反应，从而不能检测出模版输送容器11的存在。由此，当模版输送容器11通过时，若检测出模版输送容器11的存在，则可以判断其朝向标准，若无法检测出模版输送容器11的存在，则可以判断其朝向相反。也可以设置凸部等来代替上述凹部等。此时，在存在上述凸部等的情况下有反应从而检测出设定的状态(模版输送容器11的朝向为标准的状态)。作为该凹部也可以采用形成于信息面板(インフオパツド)上的凹部。
此外，也可以机械方式检测模版输送容器11的方向。例如，在舱13或门14中、不会妨碍周围的地方设置突起，可以根据在模版输送容器11通过时，设置于输送装置侧的承接部是否与上述突起相接触来检测模版输送容器11的方向。
控制部84，判断由方向检测机构83检测到的方向是否为标准朝向，在发现朝向偏离180°的情况下，控制旋转驱动部82而旋转到标准朝向。作为控制部84，可以作为控制模版处理系统整体的控制装置的一部分而装入，也可以将其作为独立的装置而加以设置。
上述结构的模版处理系统如下使用。在此，以在半导体晶片上烧制电路图案时的处理为例进行说明。
首先，模版12收纳于模版输送容器11内。此时，模版12载置于门14的模版保持器45上，安装舱13并利用门扣41进行固定。由此，由门14侧的模版保持器45和舱13侧的模版保持器25夹持并支承模版12。具体地说，模版12的下侧角部12B倾斜地接触并支承于模版保持器45的保持器板部51上，而模版12的上侧角部12A则倾斜地接触并支承于模版保持器25的保持器板部27上。此时，在保持器板部51、27的内侧具有凹部52、31而容许保持器板部51、27的挠曲，从而弹性地支承模版12。由此，在不损伤模版12的表面的情况下，抑制全部自由度地将该模版12固定于模版输送容器11内。
在模版12上设有膜片46的情况下，通过与上述模版12相同的作用由膜片保持器47固定该膜片46。
这样，在每个模版输送容器11内各收纳一个模版12，由操作人员将该模版输送容器11以必要的数量码放并安装于模版储存器2内。此时，希望模版输送容器11能够全部按照设定的方向进行收纳，但即使在方向不同的情况下，也能够利用两组运动销槽61而不产生任何问题地进行安装。
此后的模版输送容器11的输送等全部以机械方式来进行。也就是说，以机械方式来进行从模版储存器2取出并收纳模版输送容器11、然后采用输送升降设备使其在输送导轨上移动、再将模版输送容器11内的模版12设定在曝光设备1中这所有的操作(SMIF：标准机械界面)。
输送导轨4的输送机构部5的臂部与模版储存器2内的模版输送容器11的中心操作凸缘20相结合，然后提升模版输送容器11。之后利用输送导轨4将其移动至曝光设备1。
在该输送工序中，修正模版输送容器11的方向。即，将微弱的电磁波从方向检测机构83的微弱电波发射机86发射到无线标签74。由此，无线标签74发射反射波，并由微弱电波接收机87来检测该反射波，进而根据其信号功率由控制部84判断模版输送容器11的方向是否是标准的方向。当方向偏离180°时，控制旋转驱动部82使得输送机构部5的臂部旋转，从而将模版输送容器11修正为标准的方向。
将模版输送容器11输送到曝光设备1后，将模版输送容器11定位于曝光设备1内的规定位置上，之后，将曝光设备1的运动销(未图示)与运动销槽61连结。接下来，以机械方式卸下模版输送容器11的门扣41，并由开闭装置的臂部(未图示)抓住侧面操作凸缘21而将舱13从门14分离。然后，使门14下降而将模版12导入曝光设备1的内部。此后，将模版12移送到曝光设备1的自动曝光台(未图示)上，设置为准确地定位到已经安装的半导体晶片上的状态，自动进行曝光作业。
曝光完成后，再次使模版12返回到模版输送容器11的门14中，使该门14上升并与舱13相配合，进而由门扣41加以固定。此时，模版12的上侧角部12A和下侧角部12B由模版保持器25、45夹持，如上所述，在不损伤其表面的情况下抑制所有自由度地固定于模版输送容器11内。然后，使运动销和运动销槽61分离，并再次利用输送机构部5而在输送导轨4上移动，进而返回模版储存器2中。
在以上的处理工序中，根据记录在无线标签74中的信息进行工序控制。在模版输送容器11的门14的无线标签74中记录有模版12的种类和作业过程等各种信息，读取装置以非接触方式读取无线标签74的信息，并基于该信息来进行曝光设备1内的各种控制。在曝光作业完成后，根据需要采用写入装置(未图示)将模版12和模版输送容器11的过程、作业过程等写入无线标签74。由此，顺利地进行曝光作业或管理等。
此时，由于无线标签74由覆盖板75密闭收纳，所以，能够防止无线标签74的脱落和机械损伤，此外，还可以防止无线标签74自身造成的对装置的污染。
另外，在将模版输送容器11放置于压力变化的环境中的情况下，比如，象飞机进行的输送等那样，放置在高空的气压较低的环境、与地上的气压较高的环境的情况下，有时模版输送容器11的内压低于外压。在此情况下，难以将舱13和门14分离，但是，由于膜式过滤器63允许气体进出模版输送容器11的内外，故防止了模版输送容器11的内压低于外压的情况。由此，容易分离舱13和门14。
另外，在置换模版输送容器11内部的气体的情况下，将气体供给管插入而连接到膜式过滤器安装部62的管导向件65上，将非活性气体或干燥空气等供给管导向件65。
如上所述，在模版输送容器11从模版储存器2移动到曝光设备1的烧制位置期间，朝向变换机构81检测模版输送容器11的朝向并将其修正为适当的朝向。也就是说，根据方向检测机构83的检测结果，在其方向偏离180°的情况下，由控制部84控制的旋转驱动部82使该模版输送容器11旋转到标准的方向。
其结果，即使在模版输送容器11的朝向偏离180°的情况下也不必停止模版处理系统即可自动地将模版输送容器11的朝向修正为标准的方向，所以，能够提高处理工序中的作业效率。
由于将运动销槽61错开180°地设置有两组，所以，在搞错模版输送容器11的方向而加以安装的情况下，也能够始终以正确的方向将模版安装于曝光设备中，从而能够毫无问题地进行安装。
另外，在舱13的主体部17上，与运动销槽61相配合地在六个部位设置有承接部22，所以，可以不注意模版输送容器11的方向地叠置多个模版输送容器11。对于该承接部，只要有至少四个承接部对称地与运动销槽相嵌合即可，不一定要设置为六个。
另外，利用模版保持器25等，可以无损伤地、安全且可靠地支承模版12等，可以更加慎重地处理模版12等。
此外，由于将各种信息记录于无线标签74中而进行管理，故可根据该信息，提高作业效率。此时，由于无线标签74由覆盖板75密闭收纳，故可不使无线标签74脱落，不对其造成机械性损伤，还可防止无线标签74本身造成的对装置的污染。
还有，通过膜式过滤器63，允许气体进出模版输送容器11的内外，故可防止模版输送容器11的内压低于外压的情况，容易将舱13和门14分离。另外，可容易置换模版输送容器11内部的气体。
另外，当将上述模版输送容器11变换成适当朝向的机构即上述控制部84判断由上述方向检测机构83检测的方向偏离了180°时，控制上述旋转驱动部82而旋转到标准的方向，从而可以不停止系统地自动将上述模版输送容器11的朝向修正为标准的方向，可以提高处理工序中的作业效率。
上述方向检测机构83具有以非接触方式检测上述模版输送容器11的方向的无线标签74或光学传感器，可以不停止模版输送容器11的输送地以非接触的方式检测其方向并使其旋转到标准方向，所以，能提高处理工序中的作业效率。
在上述输送机构(4、5)内或上述曝光设备1内备有将上述模版输送容器11变换为适当朝向的机构，判断模版输送容器11的方向是否正确，当错误时加以修正，所以可以提高处理工序中的作业效率。
在上述模版输送容器11的门的外侧表面上方向相差180°地设有两组运动销槽61，即使模版输送容器11的方向错误也能够以该状态进行安装，所以不必加倍注意模版输送容器11的方向，可以实现作业的高效化。
将上述承接部22设置成，从任意方向都能嵌合上述两组运动销槽61，从而不必加倍注意多个模版输送容器11的方向便可进行叠置，所以，可以实现模版输送容器11的层叠作业时的高效化。
再有，在上述实施方式中，1个膜式过滤器63设置于舱13侧，但是其也可设置于门14侧。该膜式过滤器63的设置个数不限于1个，也可为2个以上。可在舱13、门14中的某一者或两者上，设置1个或多个膜式过滤器63。在此情况下，其设置于不会造成其它妨碍的位置上。
另外，在上述实施方式中，将无线标签74设置于门14的外侧表面的1个部位上，但是也可根据需要而设置于2个以上的部位上。所设置的部位不限于门14侧，也可设置于舱13上。还可设置于这两者上。还有根据所要求的功能、读取装置和写入装置的关系，设置于舱13侧的情况。此外，记录于无线标签74中的信息不限于作业过程等，可记录各种信息。

Claims (8)

1、一种模版处理系统，其特征在于，至少具有：收纳模版的模版输送容器、输送该模版输送容器的输送机构、利用上述模版在半导体晶片上的抗蚀剂上烧制电路图案的曝光设备、以及保管多个上述模版的模版储存器，
在从上述模版储存器至上述曝光设备的烧制位置之间的路径的至少一个部位上，备有检测上述模版输送容器的朝向并将该模版输送容器变换为适当朝向的机构。
2、如权利要求1所述的模版处理系统，其特征在于，上述将模版输送容器变换为适当朝向的机构备有：
旋转驱动部，使上述模版输送容器旋转；
方向检测机构，设置于从上述模版储存器到上述曝光设备的烧制位置之间的路径的任意处，检测上述模版输送容器的方向；
控制部，判断由该方向检测机构检测出的方向是否为标准的方向，当方向偏离180°时，控制上述旋转驱动部而旋转到标准方向。
3、如权利要求2所述的模版处理系统，其特征在于，上述方向检测机构备有以非接触方式检测上述模版输送容器的方向的无线标签。
4、如权利要求2所述的模版处理系统，其特征在于，上述方向检测机构备有以非接触方式检测上述模版输送容器的方向的光学传感器。
5、如权利要求1所述的模版处理系统，其特征在于，上述将模版输送容器变换为适当朝向的机构配备在上述输送机构内。
6、如权利要求1所述的模版处理系统，其特征在于，上述将模版输送容器变换为适当朝向的机构配备在上述曝光设备内。
7、如权利要求1所述的模版处理系统，其特征在于，以方向相差180°的方式设置有两组运动销槽，所述运动销槽形成于上述模版输送容器的门的外侧表面上，用于定位并安装于上述曝光设备。
8、如权利要求7所述的模版处理系统，其特征在于，在上述模版输送容器的舱的外侧表面中与上述运动销槽相对应的位置上，配置有用于承接并保持上述运动销槽的承接部，所述承接部配置成从任意方向均可嵌合上述两组运动销槽。
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