CN1779519A - 主动元件阵列基板、彩色滤光片及其制作方法 - Google Patents

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CN1779519A CN 200410091323 CN200410091323A CN1779519A CN 1779519 A CN1779519 A CN 1779519A CN 200410091323 CN200410091323 CN 200410091323 CN 200410091323 A CN200410091323 A CN 200410091323A CN 1779519 A CN1779519 A CN 1779519A
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Abstract

本发明是关于一种主动元件阵列基板、彩色滤光片及其制作方法,该主动元件阵列基板,包括一基板、一元件层、多个第一彩色滤光膜、多个第二彩色滤光膜、多个第三彩色滤光膜以及一电极层。其中,元件层是配置在基板上。第一、第二与第三彩色滤光膜是配置在基板上,且第一彩色滤光膜、第二彩色滤光膜与第三彩色滤光膜是部分重叠,以分别形成一堆叠型黑矩阵以及多个堆叠型间隙物。电极层是配置于第一彩色滤光膜、第二彩色滤光膜与第三彩色滤光膜上,且电极层是与元件层电性连接。藉由彩色滤光膜的堆叠以同时制作黑矩阵与间隙物,可以简化制程步骤,并有助于提升生产效率。

Description

主动元件阵列基板、彩色滤光片及其制作方法
技术领域
本发明涉及一种液晶显示面板,特别是涉及一种液晶显示面板中的主动元件阵列基板、彩色滤光片及其制作方法。
背景技术
随着视讯技术的迅速发展,平面显示器(Flat Display Panel,FDP)已成为人们获得影像信息的重要介面。其中,由于液晶显示器(LiquidCrystal Display,LCD)具备优异的显示性能与成熟的制作技术,故大部分的行动电话、数码相机、数码摄影机、笔记型电脑以及桌上型电脑的显示萤幕皆使用液晶显示面板(LCD Panel)。
目前的彩色液晶显示器主要是以彩色滤光片(Color Filter,C/F)或是将彩色滤光膜制作在薄膜晶体管阵列上的技术(Color Filter on TFTArray,COA,其中,阵列即为数组,以下均称为阵列)为技术主流。一般而言,彩色滤光片主要是于一片基板上制作出红色滤光膜、绿色滤光膜、蓝色滤光膜、黑矩阵(black matrix,BM)、间隙物(spacer)以及共用电极(common electrode),而此基板上的红色滤光膜、绿色滤光膜、蓝色滤光膜的位置是对应于一薄膜晶体管阵列(TFT array)上各个画素电极(pixelelectrode)的位置。另一方面,将彩色滤光膜制作在薄膜晶体管阵列上的技术(COA Technology)主要是将红色滤光膜、绿色滤光膜、蓝色滤光膜、黑矩阵以及间隙物直接制作在薄膜晶体管阵列的适当位置上,如此设计同样可以达到彩色化的需求。
现有习知的彩色滤光片的制程总共需要六道光罩制程。具体而言,制作红、绿与蓝色滤光膜需要三道光罩制程;制作黑矩阵与间隙物需要两道光罩制程;而制作共用电极需要一道光罩制程。
而在现有习知的液晶显示面板的制作技术中,将彩色滤光膜制作在薄膜晶体管阵列上的技术总共需要十道光罩制程。具体而言,薄膜晶体管阵列(TFT array)的制作一般需要五道光罩制程;而红色滤光膜、绿色滤光膜、蓝色滤光膜总共需要三道光罩制程;且黑矩阵与间隙物需要两道光罩制程。
为了减少制程中所使用光罩的数目,美国专利US 6,323,921已提出一种彩色滤光片及应用其制作的液晶显示装置(Color Filter Substrate andLiquid Crystal Display Device),其主要是利用光罩的设计,使得部分彩色滤光膜之间产生堆叠,以形成堆叠型态的间隙物,因此,可以减少一道光罩制程(意即,可省略另行制作间隙物的制程),进而可降低制程中所使用的光罩总数。然而,若能更进一步减少所使用的光罩数目,使制程步骤更为简化,将可进一步提升生产效率。
由此可见,上述现有的基板、彩色滤光片及其制作方法在结构、方法与使用上,显然仍存在有不便与缺陷,而亟待加以进一步改进。为了解决基板、彩色滤光片及其制作方法存在的问题,相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道,但长久以来一直未见适用的设计被发展完成,而一般产品又没有适切的结构能够解决上述问题,此显然是相关业者急欲解决的问题。
有鉴于上述现有的基板、彩色滤光片及其制作方法存在的缺陷,本发明人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识,并配合学理的运用,积极加以研究创新,以期创设一种新的主动元件阵列基板、彩色滤光片及其制作方法,能够改进一般现有的基板、彩色滤光片及其制作方法,使其更具有实用性。经过不断的研究、设计,并经反复试作样品及改进后,终于创设出确具实用价值的本发明。
发明内容
本发明的目的在于,克服现有的基板存在的缺陷,而提供一种新型结构的主动元件阵列基板,所要解决的技术问题是使其具有由彩色滤光膜堆叠形成的堆叠型间隙物以及堆叠型黑矩阵,而适于缩减制程中所使用的光罩数目,进而提升生产效率,从而更加适于实用。
本发明的另一目的在于,提供一种主动元件阵列基板的制作方法,所要解决的技术问题是使其利用彩色滤光膜的堆叠而形成堆叠型间隙物与堆叠型黑矩阵,其可以缩减制程中使用的光罩总数,进而提升生产效率,从而更加适于实用。
本发明的再一目的在于,克服现有的彩色滤光片存在的缺陷,而提供一种新型结构的彩色滤光片,所要解决的技术问题是使其具有由彩色滤光膜堆叠形成的堆叠型间隙物以及堆叠型黑矩阵,而适于缩减制程中所使用的光罩数目,进而提升生产效率,从而更加适于实用。
本发明的还一目的在于,克服现有的彩色滤光片的制作方法存在的缺陷,而提供一种新的彩色滤光片的制作方法,所要解决的技术问题是使其利用彩色滤光膜的堆叠而形成堆叠型间隙物与堆叠型黑矩阵,其可缩减制程中使用的光罩总数,进而提升生产效率,从而更加适于实用。
本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。由以上技术方案可知,为了达到前述发明目的,本发明的主要技术内容如下:
本发明提出一种主动元件阵列基板,包括一基板、一元件层、多个第一彩色滤光膜、多个第二彩色滤光膜、多个第三彩色滤光膜及一电极层。其中,元件层是配置在基板上。第一彩色滤光膜、第二彩色滤光膜与第三彩色滤光膜是配置在基板上,且第一彩色滤光膜、第二彩色滤光膜与第三彩色滤光膜是部分重叠,以分别形成一堆叠型黑矩阵以及多个堆叠型间隙物。电极层是配置于第一彩色滤光膜、第二彩色滤光膜与第三彩色滤光膜上,且电极层是与元件层电性连接。
在本发明的一实施例中,第一彩色滤光膜、第二彩色滤光膜与第三彩色滤光膜例如是排列为三角型态、马赛克型态、条纹型态或四画素型态。
在本发明的一实施例中,堆叠型黑矩阵例如是配置在元件层上。
本发明提出一种主动元件阵列基板的制作方法。首先,提供一基板,此基板上已形成有一元件层。接着,在基板上形成多个第一彩色滤光膜。接着,在基板上形成多数个第二彩色滤光膜。再来,在基板上形成多个第三彩色滤光膜,其中第一彩色滤光膜、第二彩色滤光膜与第三彩色滤光膜是部分重叠,以分别形成一堆叠型黑矩阵以及多个堆叠型间隙物。接着于第一彩色滤光膜、第二彩色滤光膜与第三彩色滤光膜上形成一电极层,其中电极层是与元件层电性连接。
在本发明一实施例中,第一彩色滤光膜的形成方法例如是先在基板上形成一第一彩色滤光材料层,接着再提供一具有多个开口的遮罩。继之,以此遮罩为罩幕,图案化第一彩色滤光材料层以形成第一彩色滤光膜。
在本发明一实施例中,第二彩色滤光膜的形成方法例如是先在基板上形成一第二彩色滤光材料层。接着,提供一具有多个开口的遮罩。继之,以此遮罩为罩幕,图案化第二彩色滤光材料层以形成第二彩色滤光膜。
在本发明一实施例中,第三彩色滤光膜的形成方法例如是先在基板上形成一第三彩色滤光材料层。接着,提供一具有多个开口的遮罩。继之,以此遮罩为罩幕,图案化第三彩色滤光材料层以形成第三彩色滤光膜。
本发明提出一种彩色滤光片,包括一基板、多个第一彩色滤光膜、多个第二彩色滤光膜、多个第三彩色滤光膜以及一共用电极。第一、第二与第三彩色滤光膜是配置在基板上,其中第一彩色滤光膜、第二彩色滤光膜与第三彩色滤光膜是部分重叠,以分别形成一堆叠型黑矩阵以及多个堆叠型间隙物。共用电极是配置于第一彩色滤光膜、第二彩色滤光膜与第三彩色滤光膜上。
在本发明的一实施例中,第一彩色滤光膜、第二彩色滤光膜与第三彩色滤光膜例如是排列为三角型态、马赛克型态、条纹型态或四画素型态。
本发明另又提出一种彩色滤光片的制作方法。首先,提供一基板。接着,在基板上形成多个第一彩色滤光膜。继之,在基板上形成多个第二彩色滤光膜。之后,在基板上形成多个第三彩色滤光膜,其中第一彩色滤光膜、第二彩色滤光膜与第三彩色滤光膜是部分重叠,以分别形成一堆叠型黑矩阵以及多数个堆叠型间隙物。接着,于第一彩色滤光膜、第二彩色滤光膜与第三彩色滤光膜上形成一共用电极层。
本发明将黑矩阵与间隙物的制作整合于彩色滤光膜的制程中,透过对于彩色滤光膜的图案化,并利用彩色滤光膜之间彼此的堆叠以形成堆叠型的黑矩阵以及堆叠型的间隙物结构,因此可以省略制程中制作黑矩阵与间隙物本身的两道光罩,并藉以节省制作成本与提升生产效率。
经由上述可知,本发明是关于一种主动元件阵列基板、彩色滤光片及其制作方法,该主动元件阵列基板,包括一基板、一元件层、多个第一彩色滤光膜、多个第二彩色滤光膜、多个第三彩色滤光膜以及一电极层。其中,元件层是配置在基板上。第一、第二与第三彩色滤光膜是配置在基板上,且第一彩色滤光膜、第二彩色滤光膜与第三彩色滤光膜是部分重叠,以分别形成一堆叠型黑矩阵以及多个堆叠型间隙物。电极层是配置于第一彩色滤光膜、第二彩色滤光膜与第三彩色滤光膜上,且电极层是与元件层电性连接。藉由彩色滤光膜的堆叠以同时制作黑矩阵与间隙物,可以简化制程步骤,并有助于提升生产效率。
借由上述技术方案,本发明主动元件阵列基板、彩色滤光片及其制作方法至少具有下列优点:
1、利用彩色滤光膜本身的堆叠以同时形成堆叠型黑矩阵以及堆叠型间隙物,可以省略制作黑矩阵与间隙物的两道光罩,因此可简化制程、降低成本并提升生产效率。
2、彩色滤光膜本身可作为平坦层,并可使电极层直接形成于其上,因此可省略平坦层的制作步骤,以简化制程。
综上所述,本发明特殊结构的主动元件阵列基板,具有由彩色滤光膜堆叠形成的堆叠型间隙物以及堆叠型黑矩阵,而适于缩减制程中所使用的光罩数目,进而提升生产效率。本发明特殊的主动元件阵列基板的制作方法,此方法利用彩色滤光膜的堆叠而形成堆叠型间隙物与堆叠型黑矩阵,其可缩减制程中使用的光罩总数,进而提升生产效率。本发明特殊的彩色滤光片,其具有由彩色滤光膜堆叠形成的堆叠型间隙物以及堆叠型黑矩阵,而适于缩减制程中所使用的光罩数目,进而提升生产效率。本发明特殊的彩色滤光片的制作方法,此方法利用彩色滤光膜的堆叠而形成堆叠型间隙物与堆叠型黑矩阵,其可缩减制程中使用的光罩总数,进而提升生产效率。其具有上述诸多的优点及实用价值,并在同类产品及制造方法中未见有类似的结构设计及方法公开发表或使用而确属创新,其不论在产品结构、制造方法或功能上皆有较大的改进,在技术上有较大的进步,并产生了好用及实用的效果,且较现有的基板、彩色滤光片及其制作方法具有增进的多项功效,从而更加适于实用,而具有产业的广泛利用价值,诚为一新颖、进步、实用的新设计。
上述说明仅是本发明技术方案的概述,为了能够更清楚了解本发明的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂,以下特举多个较佳实施例,并配合附图,详细说明如下。
附图说明
图1是本发明的第一实施例中一种主动元件阵列基板的示意图。
图2A到2D是彩色滤光膜的排列型态示意图。
图3A到图3H是本发明第一实施例中一种在主动元件阵列基板上制造彩色滤光膜的制造流程剖面图。
图4是利用本发明第一实施例中的主动元件阵列基板所制作的液晶显示面板的剖面示意图。
图5是本发明的第二实施例中一种彩色滤光片的剖面示意图。
图6A到图6H是本发明的第二实施例中一种彩色滤光片的制造流程剖面图。
图7是本发明较佳实施例中一种液晶显示面板的剖面示意图。
100:主动元件阵列基板            110:基板
120:元件层                      122:主动元件
124:资料配线                    130:第一彩色滤光材料层
130a:第一彩色滤光膜             132:第二彩色滤光材料层
132a:第二彩色滤光膜             134:第三彩色滤光材料层
134a:第三彩色滤光膜             140:电极层
150:堆叠型黑矩阵                160:堆叠型间隙物
170:对向基板                    170a:共用电极
180:液晶层                      190:胶框
200:三角型态                    220:马赛克型态
240:条纹型态                    260:四画素型态
300、302、304:光罩              300a、302a、304a:开口
400:液晶显示器                  500:彩色滤光片
510:基板                        520:第一彩色滤光材料层
520a:第一彩色滤光膜             522:第二彩色滤光材料层
522a:第二彩色滤光膜             524:第三彩色滤光材料层
524a:第三彩色滤光膜             530:堆叠型黑矩阵
540:堆叠型间隙物                550:共用电极
560:主动元件阵列基板                562:基板
564:元件层                          566:电极层
570:液晶层                          580:胶框
600、602、604:光罩                  600a、602a、604a:开口
700:液晶显示器
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例对依据本发明提出的主动元件阵列基板、彩色滤光片及其制作方法其具体实施方式、结构、制造方法、步骤、特征及其功效,详细说明如后。
第一实施例
图1是本发明的第一实施例中一种主动元件阵列基板的示意图。本实施例的主动元件阵列基板100例如包括一基板110、一元件层120、多个第一彩色滤光膜130a、多个第二彩色滤光膜132a、多个第三彩色滤光膜134a以及一电极层140。其中,基板110例如为玻璃基板、石英基板或是其他软质、硬质的基板。
如图1所绘示,元件层120是配置在基板110上,在本实施例中,元件层120例如包括多个主动元件122、多条资料配线124以及多条扫描配线(未绘示),其中主动元件122是藉由资料配线124与扫描配线(未绘示)而驱动,而主动元件122例如是薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT)或二极体(diode)。
如图1所绘示,第一彩色滤光膜130a、第二彩色滤光膜132a与第三彩色滤光膜134a例如配置在基板110上,且第一彩色滤光膜130a、第二彩色滤光膜132a与第三彩色滤光膜134a是部分重叠,以分别形成一堆叠型黑矩阵150以及多个堆叠型间隙物160。在本实施例中,此堆叠型黑矩阵150例如是配置在元件层120上。
图2A到图2D所绘示为彩色滤光膜的排列型态示意图,请同时参阅图1所示与图2A到图2D,上述的第一彩色滤光膜130a、第二彩色滤光膜132a与第三彩色滤光膜134a例如是排列为三角型态200(绘示于图2A)、马赛克型态220(绘示于图2B)、条纹型态240(绘示于图2C)或四画素型态260(绘示于图2D),且这些第一彩色滤光膜130a、第二彩色滤光膜132a与第三彩色滤光膜134a例如为红、绿与蓝色的组合或是黄、洋红与青色的组合。
请继续参阅图1所示,电极层140例如配置于第一彩色滤光膜130a、第二彩色滤光膜132a与第三彩色滤光膜134a上,且电极层140是与元件层120电性连接。在本实施例中,电极层140例如是由多个与元件层120电性连接的画素电极(pixel electrode)所构成,而此画素电极例如包括铟锡氧化物(Indium Tin Oxide,ITO)电极、铟锌氧化物(Indium Zinc Oxide,IZO)电极或其他材质的电极。
值得注意的是,现有技术在制作电极层后,会先于电极层上制作一平坦层,之后再继续制作彩色滤光膜在此平坦层上。然而,在本发明中,是直接先行制作具有平坦表面的第一彩色滤光膜130a、第二彩色滤光膜132a与第三彩色滤光膜134a,并继续于第一彩色滤光膜130a、第二彩色滤光膜132a与第三彩色滤光膜134a上制作电极层140。故此,可省去现有技术中平坦层的制作步骤,并藉以简化制程。
图3A到图3H是本发明第一实施例中一种于主动元件阵列基板上制造彩色滤光膜的制造流程剖面图。首先,如图3A所示,提供一基板110,此基板110上例如是以五道光罩制程在其上形成具有多个主动元件122与多条资料配线124的一元件层120。然而,熟习该项技术者应知,当组成主动元件阵列基板的膜层结构不同时,所需的光罩制程的数量亦不同。
接着请参阅图3B与图3C所示,在基板110上形成一第一彩色滤光材料层130,并利用具有多个开口300a的光罩300图案化此第一彩色滤光材料层130,以形成如图3C所绘示的多个第一彩色滤光膜130a。在本实施例中,这些第一彩色滤光膜130a例如为红色滤光膜。
之后,请参阅图3D与图3E所示,在基板110上继续形成一第二彩色滤光材料层132,并利用具有多个开口302a的光罩302图案化此第二彩色滤光材料层132,以形成如图3E所绘示的多个第二彩色滤光膜132a。在本实施例中,这些彩色滤光膜132a例如为绿色滤光膜。
继之,请参阅图3F与图3G所示,在基板110上继续形成一第三彩色滤光材料层134,并利用具有多个开口304a的光罩304图案化此第三彩色滤光材料层134,以形成如图3G绘示的多个第三彩色滤光膜134a,在一实施例中,这些第三彩色滤光膜134a例如为蓝色滤光膜。当然,第一彩色滤光膜130a、第二彩色滤光膜132a与第三彩色滤光膜134a也可以是黄色滤光膜、青绿色滤光膜与洋红色滤光膜的组合。
值得注意的是,如图3G所绘示,第一彩色滤光膜130a、第二彩色滤光膜132a与第三彩色滤光膜134a是部分重叠,以分别形成堆叠型黑矩阵150以及堆叠型间隙物160。换言之,在制作第一彩色滤光膜130a、第二彩色滤光膜132a与第三彩色滤光膜134a的同时,堆叠型黑矩阵150与堆叠型间隙物160以藉由堆叠的方式自然形成,故可省略制程中制作间隙物与黑矩阵的两道光罩。
接着请参阅图3H所示,于第一彩色滤光膜130a、第二彩色滤光膜132a与第三彩色滤光膜134a上形成一电极层140。其中,电极层140是与元件层120电性连。在本发明的一实施例中,电极层140的形成方法包括溅镀或是其他物理气相沈积、化学气相沈积等方式,而其材料例如为铟锡氧化物、铟锌氧化物或其他导电材料。
图4是为利用本发明第一实施例中的主动元件阵列基板所制作的液晶显示面板的剖面示意图。此液晶显示面板400包括一上述的主动元件阵列基板100、一对向基板170以及一液晶层180。其中,对向基板170是配置在主动元件阵列基板100上方,且对向基板170具有一共用电极170a。此外,液晶层180是位于主动元件阵列基板100与对向基板170之间。
如图4所绘示,对向基板170上的共用电极170a是用以和主动元件基板100上的电极层140(例如为画素电极)相互作用,以使得位于位于主动元件阵列基板100与对向基板170之间的液晶层180中的液晶分子进行偏转,进而改变局部区域内液晶层180的光学特性。另外,此液晶显示面板300例如更包括一胶框190,配置于主动元件阵列基板100与对向基板170之间,用以封存液晶层180于主动元件阵列基板100与对向基板170之间。
上述的主动元件阵列基板、使用此主动元件阵列基板制作的液晶显示面板以及主动元件阵列基板的制造流程中,在制作彩色滤光膜的同时,利用了彩色滤光膜本身的堆叠以形成堆叠型黑矩阵与堆叠型间隙物,因此可省略两道光罩制程(即制作黑矩阵与间隙物的光罩制程),进而简化制程并提升生产效率。
第二实施例
图5所示为本发明的第二实施例中一种彩色滤光片的剖面示意图。请参阅图5所示,本实施例的彩色滤光片500包括一基板510、多个第一彩色滤光膜520a、第二彩色滤光膜522a与第三彩色滤光膜524a以及一共用电极550。其中,第一彩色滤光膜520a、第二彩色滤光膜522a与第三彩色滤光膜524a是配置在基板510上,在本实施例中,第一彩色滤光膜520a、第二彩色滤光膜522a与第三彩色滤光膜524a例如排列为三角型态、马赛克型态、条纹型态或四画素型态(类似图2A~2D所绘示),且第一彩色滤光膜520a、第二彩色滤光膜522a与第三彩色滤光膜524a是部分重叠,以分别形成一堆叠型黑矩阵530以及多个堆叠型间隙物540。而共用电极550是配置于第一彩色滤光膜520a、第二彩色滤光膜522a与第三彩色滤光膜524a上,在本实施例中,共用电极550例如包括铟锡氧化物电极或铟锌氧化物电极。
图6A到图6H绘示为本发明的第二实施例中一种彩色滤光片的制造流程剖面图。首先,如图6A所示,提供一基板510,此基板510例如为一玻璃基板、石英基板或是其他软质或硬质的基板。。
接着,请参阅图6B与图6C所示,在基板510上形成一第一彩色滤光材料层520,并利用具有多个开口600a的光罩600图案化此第一彩色滤光材料层520,以形成如图6C所绘示的多个第一彩色滤光膜520a。在本实施例中,这些第一彩色滤光膜520a例如为红色滤光膜。
继之,请参阅图6D与图6E所示,在基板510上继续形成一第二彩色滤光材料层522,并利用具有多个开口602a的光罩602图案化此第二彩色滤光材料层522,以形成如图6E所绘示的多个第二彩色滤光膜522a,在本实施例中,这些彩色滤光膜522a例如为绿色滤光膜。
接着,请参阅图6F与图6G所示,在基板510上继续形成一第三彩色滤光材料层524,并利用具有多个开口604a的光罩604图案化此第三彩色滤光材料层524,以形成如图6G所绘示的多个第三彩色滤光膜524a,在本实施例中,这些第三彩色滤光膜524a例如为蓝色滤光膜。当然,第一彩色滤光膜520a、第二彩色滤光膜522a与第三彩色滤光膜524a也可以是黄色滤光膜、青绿色滤光膜与洋红色滤光膜的组合。
值得注意的是,如图6G所绘示,第一彩色滤光膜520a、第二彩色滤光膜522a与第三彩色滤光膜524a是部分重叠,以分别形成堆叠型黑矩阵530以及堆叠型间隙物540,换言之,在制作第一彩色滤光膜520a、第二彩色滤光膜522a与第三彩色滤光膜524a的同时,堆叠型黑矩阵530与堆叠型间隙物540以藉由堆叠的方式自然形成,故可省略制程中制作间隙物与黑矩阵的两道光罩。
如图6H所绘示,接着于第一彩色滤光膜520a、第二彩色滤光膜522a与第三彩色滤光膜524a上形成一共用电极550。在一实施例中,共用电极550的形成方法例如为溅镀,且其材料例如为金属、铟锡氧化物或铟锌氧化物。
图7是本发明较佳实施例中一种液晶显示面板的剖面示意图。请参阅图7所示,液晶显示面板700例如包括一主动元件阵列基板560、一上述的彩色滤光片500与一液晶层570。其中,主动元件阵列基板560是配置在彩色滤光片500的上方,且主动元件阵列基板560例如更包括一基板562、一元件层564与一电极层566,其中元件层564是配置在基板562上,电极层566是配置在元件层564上,且此电极层566是与元件层564电性连接。此外,液晶层570是位于主动元件阵列基板560与彩色滤光片500之间。
在本实施例中,元件层564例如更包括多个主动元件、多条扫描配线以及多条资料配线,其中主动元件是藉由扫描配线与资料配线驱动,而主动元件例如包括薄膜晶体管或二极体。
如图7所绘示,液晶层570是位于主动元件阵列基板560与彩色滤光片500之间,而主动元件阵列基板560上的电极层566是用以和彩色滤光片500上的共用电极550相互作用,以使得位于位于主动元件阵列基板560与彩色滤光片500上的共用电极550之间的液晶分子进行偏转,进而改变局部区域内液晶层180的光学特性。此外,液晶显示面板700例如更包括一胶框580,可将液晶层570封存并密闭于主动元件阵列基板560与彩色滤光片500之间。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,虽然本发明已以较佳实施例揭露如上,然而并非用以限定本发明,任何熟悉本专业的技术人员,在不脱离本发明技术方案范围内,当可利用上述揭示的方法及技术内容作出些许的更动或修饰为等同变化的等效实施例,但是凡是未脱离本发明技术方案的内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (10)

1、一种主动元件阵列基板,其特征在于其包括:
一基板;
一元件层,配置在该基板上;
多数个第一彩色滤光膜,配置在该基板上;
多数个第二彩色滤光膜,配置在该基板上;
多数个第三彩色滤光膜,配置在该基板上,其中该些第一彩色滤光膜、该些第二彩色滤光膜与该些第三彩色滤光膜是部分重叠,以分别形成一堆叠型黑矩阵以及多数个堆叠型间隙物;以及
一电极层,配置于该些第一彩色滤光膜、该些第二彩色滤光膜与该些第三彩色滤光膜上,且该电极层是与该元件层电性连接。
2、根据权利要求1所述的主动元件阵列基板,其特征在于其中所述的该些第一彩色滤光膜、该些第二彩色滤光膜与该些第三彩色滤光膜是排列为三角型态、马赛克型态、条纹型态或四画素型态。
3、根据权利要求1所述的主动元件阵列基板,其特征在于其中所述的黑矩阵是配置在该元件层上。
4、一种主动元件阵列基板的制作方法,其特征在于其包括以下步骤:
提供一基板,该基板上已形成有一元件层;
在该基板上形成多数个第一彩色滤光膜;
在该基板上形成多数个第二彩色滤光膜;
在该基板上形成多数个第三彩色滤光膜,其中该些第一彩色滤光膜、该些第二彩色滤光膜与该些第三彩色滤光膜是部分重叠,以分别形成一堆叠型黑矩阵以及多数个堆叠型间隙物;以及
于该些第一彩色滤光膜、该些第二彩色滤光膜与该些第三彩色滤光膜上形成一电极层,其中该电极层是与该元件层电性连接。
5、根据权利要求4所述的主动元件阵列基板的制作方法,其特征在于其中所述的该些第一彩色滤光膜的形成方法包括以下步骤:
在该基板上形成一第一彩色滤光材料层;
提供一遮罩,该遮罩具有多数个开口;以及
以该遮罩为罩幕,图案化该第一彩色滤光材料层以形成该些第一彩色滤光膜。
6、根据权利要求4所述的主动元件阵列基板的制作方法,其特征在于其中所述的该些第二彩色滤光膜的形成方法包括以下步骤:
在该基板上形成一第二彩色滤光材料层;
提供一遮罩,该遮罩具有多数个开口;以及
以该遮罩为罩幕,图案化该第二彩色滤光材料层以形成该些第二彩色滤光膜。
7、根据权利要求4所述的主动元件阵列基板的制作方法,其特征在于其中所述的该些第三彩色滤光膜的形成方法包括以下步骤:
在该基板上形成一第三彩色滤光材料层;
提供一遮罩,该遮罩具有多数个开口;以及
以该遮罩为罩幕,图案化该第三彩色滤光材料层以形成该些第三彩色滤光膜。
8、一种彩色滤光片,其特征在于其包括:
一基板;
多数个第一彩色滤光膜,配置在该基板上;
多数个第二彩色滤光膜,配置在该基板上;
多数个第三彩色滤光膜,配置在该基板上,其中该些第一彩色滤光膜、该些第二彩色滤光膜与该些第三彩色滤光膜是部分重叠,以分别形成一堆叠型黑矩阵以及多数个堆叠型间隙物;以及
一共用电极,配置于该些第一彩色滤光膜、该些第二彩色滤光膜与该些第三彩色滤光膜上。
9、根据权利要求8所述的彩色滤光片,其特征在于其中所述的该些第一彩色滤光膜、该些第二彩色滤光膜与该些第三彩色滤光膜是排列为三角型态、马赛克型态、条纹型态或四画素型态。
10、一种彩色滤光片的制作方法,其特征在于其包括以下步骤:
提供一基板;
在该基板上形成多数个第一彩色滤光膜;
在该基板上形成多数个第二彩色滤光膜;
在该基板上形成多数个第三彩色滤光膜,其中该些第一彩色滤光膜、该些第二彩色滤光膜与该些第三彩色滤光膜是部分重叠,以分别形成一堆叠型黑矩阵以及多数个堆叠型间隙物;以及
于该些第一彩色滤光膜、该些第二彩色滤光膜与该些第三彩色滤光膜上形成一共用电极层。
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