CN1778765A - C波段用微波介质陶瓷及其制造方法 - Google Patents

C波段用微波介质陶瓷及其制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN1778765A
CN1778765A CN 200510032271 CN200510032271A CN1778765A CN 1778765 A CN1778765 A CN 1778765A CN 200510032271 CN200510032271 CN 200510032271 CN 200510032271 A CN200510032271 A CN 200510032271A CN 1778765 A CN1778765 A CN 1778765A
Authority
CN
China
Prior art keywords
microwave
zno
cuo
tio
dioxide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN 200510032271
Other languages
English (en)
Other versions
CN100389091C (zh
Inventor
陈功田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Gospell Digital Technology Co ltd
Original Assignee
GAOSIBEIER DIGITAL SCIENCE AND TECHNOLOGY Co Ltd BINZHOU
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by GAOSIBEIER DIGITAL SCIENCE AND TECHNOLOGY Co Ltd BINZHOU filed Critical GAOSIBEIER DIGITAL SCIENCE AND TECHNOLOGY Co Ltd BINZHOU
Priority to CNB2005100322716A priority Critical patent/CN100389091C/zh
Publication of CN1778765A publication Critical patent/CN1778765A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100389091C publication Critical patent/CN100389091C/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Inorganic Insulating Materials (AREA)

Abstract

本发明公开了一种C波段用微波介质陶瓷及其制造方法,具有(Zr,Sn)TiO4系统材料,其特征在于,外加添加剂为ZnO、La2O3、Pb2O3、CuO、SiO2,其制造方法是,采用ZrO2、SnO2和TiO2组分,外加ZnO、La2O3添加剂后,将原料经球磨机球磨,压滤后放入900-1300℃的高温炉煅烧时间为3-5小时;再将煅烧料粉碎,加入添加剂Pb2O3、CuO、SiO2,加PVA水溶液造粒;干压成型,于1250-1400℃下保温1~5小时,排胶烧结一次完成。本发明介电常数适中,品质因数Q值高,温度稳定性好,主要用于(300MHz-30000MHz)的微波范围的电缆电视、卫星通信等系统应用领域。

Description

C波段用微波介质陶瓷及其制造方法
技术领域
本发明是关于一种以钛酸盐为基料的C波段用微波介质陶瓷及其制造方法。
背景技术
微波介质陶瓷是应用于微波频段(300MHz-30000MHz)通信设备中发送和接受微波信号的重要电路元件。对于这种电路元件用于与微波共振进行发送接受,称之为微波电介质谐振器。
微波电介质谐振器要求具有下面所述的三种性质:
(1)介电常数(εr)大:当令真空中微波的波长为λ0时,在该电介质中的波长 λ = λ 0 / ϵr . 由于可以令谐振器的尺寸为 之一,所以如果采用εr大的电介质,能够使谐振器小型化。
(2)品质因数(Q)大:当微波通过电介质中时,能量会有损失,用tanδ表示电介质耗损。所谓Q值=1/tanδ,所以,电介质耗损小时,Q值大。该Q值依赖于共振频率f,Q·f=常数的关系式成立。将该Q·f称之为品质因数,由于Q·f值越大,品质因数越高,所以用于进行电介质耗损的评价。
(3)共振频率的温度特性(τf)接近于零:为了使共振频率不随温度变化,优选地使电路谐振器的共振频率的温度特性(τf)为零,或者接近于零。目前正在进行满足这些条件的材料的开发,但在实际上,具有全部这三个条件的材料的开发是相当困难的。
(Zr,Sn)TiO4材料是一种性能优异的钛酸盐微波陶瓷,自问世以来,基本解决了窄带谐振器的共振频率漂移问题,品质因数也较高,后来更是广泛用于制作各种介质谐振器和滤波器。但是,在现有技术中,(Zr,Sn)TiO4一般采用固相反应法制备,经过原料配方称量、球磨、煅烧、粉碎、造粒、成型和烧结以及金属化等工序,最后进行陶瓷性能的检测。该方法工艺简单,易于工业化生产,材料性能稳定,但是纯(Zr,Sn)TiO4陶瓷很难充分致密化,若无烧结助剂,烧结温度高达1700℃,而且制得的陶瓷晶粒大小通常在微米数量级,晶粒大小相差较大,还有气孔等缺陷,使得陶瓷烧结比较困难,性能难于进一步提高。随着移动通讯、电缆电视、卫星通信系统的迅速发展,特别是移动通信技术正朝着高频率、更大带宽和微型化方向发展,对谐振器等微波陶瓷器件的需求量日益增大,同时客观要求微波陶瓷及其元件具有更优异的性能和较低的成本。提高陶瓷用粉体的合成制备水平成为当务之急。
中国发明专利03105159.6公开了一种“高品质因数的微波陶瓷介质及其制造方法”其制造方法是,采用ZrO2、SnO2和TiO2组分与ZnO和MoO3或ZnO、MoO3和V2O5等外加添加烧结助剂,将原料经湿磨混合,烘干制成混合粉料,于1000-1200℃煅烧,再经球磨粉碎后加入PVA水溶液,压制成型,最后烧结为成品。该发明可以将高达1700℃的烧结温度降低为1250-1400℃。有效的降低了烧结温度。但采用ZrO2、SnO2和TiO2组分与ZnO和MoO3要在1340℃以上才能烧结出高性能的微波陶瓷,并且随着MoO3的增加在1300℃以内是欠烧结的。或ZnO、MoO3和V2O5外加添加烧结助剂虽然可以使烧结温度降到1250℃,但微波陶瓷的介电常数(εr)和Q值都会减小,并且随MoO3和V2O5的增加,微波陶瓷的介电常数(εr)和Q值都会进一步减小。并且MoO3,V2O5的价格高,不利于低成本生产。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术的不足,提供一种在降低烧结温度的同时,工艺简单,能耗成本较低,具有高品质因数,几乎不含气孔且温度稳定性好的C波段用微波介质陶瓷及其制造方法。
C波段用微波介质陶瓷由主成分:二氧化锆(ZrO2)、二氧化锡(SnO2)和二氧化钛(TiO2)以及微量添加物:氧化锌(ZnO)、三氧化二镧(La2O3)、三氧化二铅(Pb2O3)、氧化铜(CuO)和二氧化硅(SiO2)组成,各组分的含量(按重量百分比)为:
ZrO2     40-54%;
SnO2     30-40%;
TiO2     10-20%;
ZnO       0.5-2%;
La2O3   0.1-5%;
Pb2O3   0.5-1%;
CuO       1-5%;
SiO2     0.5-1.5%;
C波段用微波介质陶瓷的制造方法:
1)先将二氧化锆(ZrO2)、二氧化锡(SnO2)、二氧化钛(TiO2)、氧化锌(ZnO)、三氧化二镧(La2O3)按组分要求称重,放入球磨机的料筒中搅磨6-8小时;
2)将球磨好的浆料压滤后放入高温炉中,升炉温至900-1300℃煅烧时间为3-5小时;
3)将煅烧料粉碎,加入三氧化二铅(Pb2O3)、氧化铜(CuO)和二氧化硅(SiO2)混料,再加粉体重量的1%PVA水溶液造粒;
4)干压成型,压制成型的成型压力为200-300Mpa。并且装钵;
5)在1250-1400℃下保温1~5小时,排胶烧结一次完成即制得所说的C波段用微波介质陶瓷。
本发明采用固相反应法制备的(Zr,Sn)TiO4微晶粉体,并添加微量添加物制得的晶粒细小均匀、几乎不含气孔和性能优良的微波介质陶瓷。本发明在各添加济的添加范围内都可以获得很好的微波特性。且国内原料充足,成本低,可进一步加强和国外进口微波陶瓷的竞争力,加速国产微波陶瓷的大量应用,且烧结温度在1300℃以下。其有益的技术效果是在降低了瓷料烧结温度的同时,简化了工艺,降低了成本,提高了陶瓷介质的品质因数,并且增加了陶瓷介质的温度稳定性。它的介电常数适中,品质因数Q值高,温度稳定性好,主要用于(300MHz-30000MHz)的微波范围。
本发明所得的样品具有明显优越的微波性能。参见以下具体实施例。
具体实施方式
根据上述C波段用微波介质陶瓷的主成分和微量添加物的配比以及制造方法,表1给出各实施例的数据,表2给出各实施例的性能。本发明通过下列方案予以实现。
表1
  实施例样编号        各组分含量的重量百分比(wt%)   搅磨时间(h)   煅烧温度(℃)   煅烧时间(h)   排胶烧结温度(℃)   排胶烧结时间(h)
  ZrO2   SnO2   TiO4   ZnO   La2O3   Pb2O3   CuO   SiO2
  1   41   39   10   0.6   3.7   0.6   4.5   0.6   5   1050   3.5   1260   2
  2   47   30   15   1.5   2   0.8   2.5   1.2   5   1270   4   1290   4.5
  3   44   35   13   2   2   0.7   2.3   1   4   1300   4.5   1300   4
  4   40   38   12   0.8   4   0.7   3.5   1   4   1240   3   1330   1.5
  5   42   38   11   0.8   3   0.5   4   0.7   6   1130   3.5   1350   2.5
  6   45   36   12   1   1   0.7   3   1.3   6   1150   4   1270   3
  7   43   35   11   1.3   5   0.7   3.1   0.9   5   1380   4.5   1250   3.5
  8   46   32   12   1.2   2   0.7   5   1.1   5   900   3.5   1340   3
  9   41   39   12   1.3   1.5   0.7   4   0.5   4   990   4   1400   4
  10   45   33   14   1.4   2   0.8   2.3   1.5   4   1170   4.5   1360   5
  11   41   40   11   1   3   0.7   2.2   1.1   6   1000   3.5   1270   4
  12   50   31   12   1.2   2   1   1.5   1.3   6   1320   4   1310   3
  13   41   31   20   1.2   3   0.9   1.5   1.4   5   1010   4.5   1250   4
  14   52   31   11   0.5   2   0.9   1   1.6   4   1350   4.5   1280   3
  15   54   31   11   0.6   1   0.6   1.2   0.6   6   1110   5   1220   4.5
表2
  实施例样编号   高斯贝尔公司型号 外径(mm) 内径(mm) 厚度(mm) 介电常数εr 谐振频率(MHz)  品质因数Q值(GHz)   温度特性τf(ppm/℃)
  1   DRT150   11.41   4.10   4.38   37.80   5333   9740   1
  2   DRT150   11.41   4.11   4.00   37.81   5352   9011   -18
  3   DRT150   11.40   4.09   4.01   37.80   5325   9340   10
  4   DRT150   11.43   4.09   4.00   37.80   5348   9200   -4
  5   DRT150   11.40   4.12   4.01   37.80   5337   8970   -10
  6   DRT150   11.38   4.10   4.00   37.79   5345   9400   -2
  7   DRT150   11.39   4.08   4.39   37.80   5347   9308   -3
  8   DRT150   11.39   4.10   4.01   37.80   5355   9406   5
  9   DRT150   11.42   4.10   4.02   37.80   5350   9100   -7
  10   DRT150   11.37   4.09   4.01   37.80   5342   9500   -1
  12   DRT150   11.40   4.09   4.39   37.80   5329   8700   3
  13   DRT150   11.42   4.11   4.00   37.80   5331   9380   2
  14   DRT150   11.38   4.11   4.00   37.80   5327   9800   8
  15   DRT150   11.40   4.11   4.39   37.80   5340   9660   0

Claims (2)

1、一种C波段用微波介质陶瓷,其特征在于:所述微波介质陶瓷是由主成分:二氧化锆(ZrO2)、二氧化锡(SnO2)和二氧化钛(TiO2)以及微量添加物:氧化锌(ZnO)、三氧化二镧(La2O3)、三氧化二铅(Pb2O3)、氧化铜(CuO)和二氧化硅(SiO2)组成,各组分的含量(按重量百分比)为:
ZrO2   40-54%;
SnO2   30-40%;
TiO2   10-20%;
ZnO     0.5-2%;
La2O3 0.1-5%;
Pb2O3 0.5-1%;
CuO     1-5%;
SiO2    0.5-1.5%;
2、一种C波段用微波介质陶瓷的制造方法:其特征在于,在给出各组分的含量(按重量百分比)的条件下:
1)先将二氧化锆(ZrO2)、二氧化锡(SnO2)、二氧化钛(TiO2)、氧化锌(ZnO)、三氧化二镧(La2O3)按组分要求称重,放入球磨机的料筒中搅磨6-8小时;
2)将球磨好的浆料压滤后放入高温炉中,升炉温至900-1300℃煅烧时间为3-5小时;
3)将煅烧料粉碎,加入三氧化二铅(Pb2O3)、氧化铜(CuO)和二氧化硅(SiO2)混料,再加粉体重量的1%PVA水溶液造粒;
4)干压成型,压制成型的成型压力为200-300Mpa。并且装钵;
5)在1250-1400℃下保温1~5小时,排胶烧结一次完成即制得所说的C波段用微波介质陶瓷。
CNB2005100322716A 2005-10-17 2005-10-17 C波段用微波介质陶瓷及其制造方法 Expired - Fee Related CN100389091C (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNB2005100322716A CN100389091C (zh) 2005-10-17 2005-10-17 C波段用微波介质陶瓷及其制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNB2005100322716A CN100389091C (zh) 2005-10-17 2005-10-17 C波段用微波介质陶瓷及其制造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1778765A true CN1778765A (zh) 2006-05-31
CN100389091C CN100389091C (zh) 2008-05-21

Family

ID=36769232

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2005100322716A Expired - Fee Related CN100389091C (zh) 2005-10-17 2005-10-17 C波段用微波介质陶瓷及其制造方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN100389091C (zh)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100408507C (zh) * 2006-12-10 2008-08-06 郴州高斯贝尔数码科技有限公司 Ku波段用环保微波介质陶瓷
CN100436371C (zh) * 2006-07-14 2008-11-26 镇江蓝宝石电子实业有限公司 一种降低(Zr0.8Sn0.2)TiO4陶瓷烧结温度的方法
CN100471819C (zh) * 2007-05-16 2009-03-25 中材高新材料股份有限公司 激光吸收陶瓷粉体材料及其制备方法
CN101265088B (zh) * 2008-04-21 2010-06-16 天津大学 低温烧结氧化锆透明陶瓷材料及其制备方法
CN102237196A (zh) * 2010-04-23 2011-11-09 赤壁市鸿儒科技实业有限公司 一种陶瓷电容器用改性二氧化锡电极浆料的配方及生产工艺
CN101549993B (zh) * 2009-04-30 2012-05-23 深圳市华扬通信技术有限公司 一种应用于c波段移相器的锂铁氧体材料及其制备方法
CN112250434A (zh) * 2020-10-23 2021-01-22 厦门松元电子有限公司 一种zmat系微波陶瓷材料及其制备方法与应用

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60176968A (ja) * 1984-02-23 1985-09-11 日揮株式会社 SnO↓2−ΖrO↓2−TiO↓2系誘電体磁器の製造法
JPS62271301A (ja) * 1986-05-19 1987-11-25 平野 眞一 高周波用セラミツク誘電体の製造方法
JPH0524918A (ja) * 1991-07-15 1993-02-02 Murata Mfg Co Ltd 誘電体磁器組成物の製造方法
IN190005B (zh) * 1997-01-23 2003-05-31 Amotron Co Ltd
JP2001220230A (ja) * 2000-02-09 2001-08-14 Murata Mfg Co Ltd 誘電体磁器組成物
CN1202042C (zh) * 2003-03-06 2005-05-18 天津大学 高品质因数的微波陶瓷介质及其制造方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100436371C (zh) * 2006-07-14 2008-11-26 镇江蓝宝石电子实业有限公司 一种降低(Zr0.8Sn0.2)TiO4陶瓷烧结温度的方法
CN100408507C (zh) * 2006-12-10 2008-08-06 郴州高斯贝尔数码科技有限公司 Ku波段用环保微波介质陶瓷
CN100471819C (zh) * 2007-05-16 2009-03-25 中材高新材料股份有限公司 激光吸收陶瓷粉体材料及其制备方法
CN101265088B (zh) * 2008-04-21 2010-06-16 天津大学 低温烧结氧化锆透明陶瓷材料及其制备方法
CN101549993B (zh) * 2009-04-30 2012-05-23 深圳市华扬通信技术有限公司 一种应用于c波段移相器的锂铁氧体材料及其制备方法
CN102237196A (zh) * 2010-04-23 2011-11-09 赤壁市鸿儒科技实业有限公司 一种陶瓷电容器用改性二氧化锡电极浆料的配方及生产工艺
CN102237196B (zh) * 2010-04-23 2015-07-15 赤壁市鸿儒科技实业有限公司 一种陶瓷电容器用改性二氧化锡电极浆料的配方及生产工艺
CN112250434A (zh) * 2020-10-23 2021-01-22 厦门松元电子有限公司 一种zmat系微波陶瓷材料及其制备方法与应用
CN112250434B (zh) * 2020-10-23 2022-06-07 厦门松元电子股份有限公司 一种zmat系微波陶瓷材料及其制备方法与应用

Also Published As

Publication number Publication date
CN100389091C (zh) 2008-05-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100389091C (zh) C波段用微波介质陶瓷及其制造方法
CN111423225A (zh) 一种堇青石微波介质陶瓷材料及其制备方法
CN100463878C (zh) 近零谐振频率温度系数的铌基微波介质陶瓷及其制备方法
CN101492293B (zh) 钛酸钡基y5p陶瓷介电材料及其制备方法
CN102584218A (zh) L波段用环保型微波介质陶瓷
CN105000877A (zh) 一种高品质因数温度稳定型微波介质材料及其制备方法
CN101913858B (zh) Li2O-ZnO-TiO2微波介质陶瓷材料及其制备方法
CN102503405A (zh) 一种复合bzt微波陶瓷介质材料及其制备方法
CN113336539A (zh) 微波介质陶瓷材料、制备方法及应用
CN108002836B (zh) 中介电常数微波介电陶瓷材料及其制备方法
CN113896530A (zh) 一种温度稳定的改性NiO-Ta2O5基微波介质陶瓷材料及其制备方法
CN104987071A (zh) 一种低温烧结中介电常数微波介质陶瓷材料
CN108285344A (zh) 一种低损耗锰钽矿结构微波介质陶瓷材料
CN112408977A (zh) 一种高品质的陶瓷介质材料及其制备方法
CN104710175B (zh) 一种低介电常数锆酸镁锂微波介质陶瓷材料及其制备方法
CN100408507C (zh) Ku波段用环保微波介质陶瓷
CN105060887A (zh) 一种低温烧结低损耗微波介质陶瓷材料
CN1887791A (zh) 用于高频陶瓷电容器的微波陶瓷介质及其制备方法
CN1179913C (zh) 准纳米级二钡九钛氧化物微波陶瓷及其制造方法
CN1202042C (zh) 高品质因数的微波陶瓷介质及其制造方法
CN104961458A (zh) 一种温度稳定型钙钛矿结构微波介质陶瓷
CN105314976A (zh) Ti基低损耗中K值微波介质陶瓷及其制备方法
CN1282625C (zh) 一种近零频率温度系数的微波介质陶瓷及其制备方法
CN1569730A (zh) 近零频率温度系数的类钙钛矿微波介质陶瓷及其制备方法
CN104402430A (zh) 一种温度稳定型中k值微波介质陶瓷及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: GOSPELL DIGITAL TECHNOLOGY CO., LTD.

Free format text: FORMER OWNER: GAOSIBEIER DIGITAL SCIENCE AND TECHNOLOGY CO., LTD., BINZHOU

Effective date: 20110510

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
COR Change of bibliographic data

Free format text: CORRECT: ADDRESS; FROM: 423000 GAOSIBEIER INDUSTRIAL PARK, SHIGAITANG, CHENZHOU CITY, HU'NAN PROVINCE TO: 423038 GAOSIBEIER INDUSTRIAL PARK, BAILUTANG TOWN, SUXIAN DISTRICT, CHENZHOU CITY, HU'NAN PROVINCE

TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20110510

Address after: 423038 Chenzhou province Hunan city Suxian District Bailu town Gauss Baer Industrial Park

Patentee after: GOSPELL DIGITAL TECHNOLOGY Co.,Ltd.

Address before: Baer Industrial Park, Chenzhou City, Hunan province 423000 Shi Gai Tang Gauss

Patentee before: Binzhou GOSPELL Digital Technology Co.,Ltd.

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20080521