CN1767130A - 等离子体显示面板 - Google Patents

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Abstract

一种等离子体显示面板包括后基板、设置在后基板上并被下介电层覆盖的寻址电极、以及设置在下介电层上限定放电室的间隔壁。前基板设置成与后基板平行,成对维持电极设置在前基板上,上介电层覆盖维持电极,保护层覆盖上介电层。上介电层包括在放电室内的成对维持电极之间的间隙,荧光层设置在该间隙中。

Description

等离子体显示面板
相关申请的交叉参考
本申请要求在2004年10月26日申请的韩国专利申请No.10-2004-0085869的优先权,这里引证该文献仅供参考。
技术领域
本发明涉及一种等离子体显示面板,特别涉及通过在上板上包括荧光物质而可以防止永久余像形成的等离子体显示面板。
背景技术
一般情况下,等离子体显示面板(PDP)使用气体放电显示图像。PDP目前正日益流行,因为它们具有优异的显示特性,如亮度、视角等。在PDP中,通过给电极施加DC或AC电压而在电极之间发生气体放电,并且通过由气体放电产生的紫外线辐射来激励荧光物质,因此发射可见光线。
常规表面放电PDP的例子示于图1和图2中。在图2中,前基板旋转90度,以便更容易地显示PDP的内部结构。
参见图1和图2,常规表面放电PDP包括彼此面对的前基板10和后基板20。
多个条形寻址电极11设置在后基板10的上表面上,并且下介电层12覆盖寻址电极11。多个间隔壁13以预定间隔形成在下介电层12上,以便防止放电室之间的电和光学干扰。红(R)、绿(G)和蓝(B)荧光层15以预定厚度分别施加于被间隔壁13隔开的放电室的内表面上。将放电气体如Ne、Xe和其混合物注入到放电室中。
前基板20是透射可见光线的透明基板,一般可以由玻璃制成,并且它耦合到后基板10上。成对的条形维持电极21a和21b在垂直于寻址电极11的方向上设置在前基板10的下表面上。维持电极21a和21b可以由透明导电材料制成,如氧化铟锡(ITO),用于透射可见光线。由金属制成并比维持电极21a和21b更窄的汇流电极22a和22b设置在维持电极21a和21b的下表面上,以便减小维持电极的线电阻。透明上介电层23覆盖维持电极21a和21b和汇流电极22a和22b。保护层24覆盖上介电层23。
在这种结构中,脊型介电层可以形成在包括前基板20、维持电极21a和21b、上介电层23和保护层24的上板中,用于低电压驱动和改进效率。具体地说,在放电室内部的维持电极对21a和21b之间的空间中设置的一部分上介电层23可以通过刻蚀除去,由此在一个放电室中的维持电极21a和21b之间形成间隙30。因而,前基板20的下表面暴露于间隙30。
然而,在这种结构中,由于荧光层15形成在被间隔壁13围绕的放电室内部,就是说,在包括后基板10的下板上,因此在寻址或维持放电期间荧光层15可能由于离子撞击而退化。
此外,由于荧光层15形成在下板上,可能在PDP中形成永久余像。
发明内容
本发明提供了一种脊结构的等离子体显示面板,通过在上介电层中形成的间隙中设置荧光层,可以防止永久余像并提高亮度和效率。
本发明的附加特征将在下面说明中提及,并且部分地从说明中可以明显看出,或者可以通过实施本发明而获知。
本发明公开了一种PDP,其包括后基板、设置在后基板上并在第一方向延伸的寻址电极、覆盖寻址电极的下介电层、设置在下介电层上从而限定放电室的间隔壁、基本上与后基板平行设置的前基板、设置在前基板上并在与第一方向交叉的第二方向延伸的成对的维持电极、覆盖维持电极的上介电层、覆盖上介电层的保护层、以及放电室中的放电气体。上介电层包括在放电室内成对维持电极之间的间隙,并且荧光层设置在该间隙内。
本发明还公开了一种PDP,其包括后基板、与后基板耦合的前基板、以及在前基板和后基板之间的多个放电室。放电室包括寻址电极、维持电极对和荧光层。荧光层设置在前基板上。
应该理解,前面的一般性说明和下面的详细说明都是示意性的并趋于进一步解释所要求保护的发明。
附图说明
包括并提供本发明的进一步理解的附图结合并构成本说明书的一部分,表示本发明的实施例,并与文字说明一起用于解释本发明的原理。
图1是包括具有脊结构的上板的常规PDP的分解透视图。
图2是图1的PDP的分解剖面图。
图3是根据本发明的示意实施例,包括具有脊结构的上板的PDP的分解透视图。
图4是图3的PDP的分解剖面图。
图5是沿着图4的线I-I’的上板的透视图。
图6是根据本发明的另一示意实施例,包括具有脊结构的上板的PDP的分解透视图。
图7是沿着图6的线II-II’的上板的透视图。
具体实施方式
下面参照附图更详细地介绍本发明,其中本发明的实施例示于附图中。然而,本发明可以以很多形式来体现,不应该限于这里所述的实施例。此外,提供这些实施例,以便于使本公开更完整,并全面地将本发明的范围告之本领域技术人员。在附图中,为了清楚表示,放大了层和区域和尺寸和相关尺寸。
应该理解的是,当元件如层、膜、区域或基板被称为“在”另一元件“上”时,它可能直接位于另一元件上或者也可能存在插入的元件。相反,当元件被称为“直接”位于另一元件上时,则不存在插入的元件。
图3是根据本发明第一示意实施例的包括具有脊结构的上板的PDP的分解剖面图,图4是图3的PDP的分解剖面图。在图4中,示出了前基板旋转了90度,以便更好地表示PDP的内部结构。
根据本发明第一实施例的PDP包括后基板110、设置在后基板110上的多个寻址电极111、和覆盖寻址电极111的下介电层112。此外,间隔壁113设置在下介电层112上。间隔壁113将放电空间划分成放电室,并且可以它们可以防止放电室之间的电和光学干扰。
前基板120与后基板110耦合以形成放电空间,并且一对维持电极121a和121b设置在前基板120的下表面上。维持电极121a和121b形成在与寻址电极111交叉的方向上设置的条中。因此,一对维持电极121a和121b和寻址电极111设置在每个放电室中。
维持电极121a和121b可以由透明材料制成,如氧化铟锡(ITO),用于透射可见光线。但是,由于透明材料如ITO通常具有高电阻,因此在维持电极121a和121b的下表面上形成金属汇流电极122a和122b。汇流电极122a和122b比维持电极121a和121b窄。上透明介电层123覆盖维持电极121a和121b和汇流电极122a和122b。因此,维持电极121a和121b以及汇流电极122a和122b不直接暴露于放电空间。
由于可以通过刻蚀除去一部分上介电层123,因此最终表面具有脊结构。更具体地说,可以刻蚀维持电极对121a和121b之间的一部分上介电层123,以便形成间隙130。因而,可以露出前基板120的一部分下表面。无需垂直刻蚀上介电层123。换言之,该间隙无需露出前基板120。对于未刻蚀表面来说,比被刻蚀表面相对地伸出更远并形成脊形状就足够了。
R、G和B荧光层115可以独立地设置在其中除去了一部分上介电层123的前基板120的下表面上。特别是,暴露于间隙130的前基板120的下表面可以形成为沟槽132的形状。沟槽132可以形成为具有基本上矩形或正方形形状。
沟槽132可以比放电室小并位于放电室内。此外,沟槽132形成有预定深度,使得预定厚度的荧光层115可以施加于沟槽132的内表面。还优选,在荧光层115施加于沟槽132的下表面和侧表面的情况下,沟槽132的尺寸使得施加于沟槽132的侧表面的荧光层115具有预定高度。此外,优选形成在沟槽132的内部下表面上的荧光层115和形成在沟槽132的侧表面上的荧光层115彼此整体地形成。
保护层124覆盖上介电层123。在这种情况下,保护层124覆盖上介电层123面对后基板110的表面,以及形成间隙130的上介电层123的表面。保护层124防止上介电层123由于等离子体颗粒的溅射而损伤,并通过发射二次电子而减小放电电压和维持电压。保护层124可以由氧化镁(MgO)制成。
被间隔壁113围绕并包括间隙130的空间变为放电室,向该放电室中注入放电气体,包括Xe、Ne或其混合物。
图5是沿着图4的线I-I’截取的透视图。这里,图5是只相对于一个放电室从上面看到的透视图。
参见图5,维持电极121a和121b彼此平行地延伸,并设置在被间隔壁113围绕的放电室中。汇流电极122a和122b在维持电极121a和121b的下表面上设置成平行的条。图4的间隙130形成在维持电极121a和121b之间。荧光层115施加于在前基板120的下表面上形成的沟槽132的内表面上,其暴露于间隙130。
荧光层115在受到紫外线辐射时辐射可见光线。形成在发射红光的子像素中的荧光层115由例如Y(V,P)O4:Eu等荧光物质制成,形成在发射绿光的子像素中的荧光层115可以由如Zn2SiO4:Mn、YBO3:Tb等荧光物质制成,并且形成在发射蓝光的子像素中的荧光层115可以由如BAM:Eu等荧光物质制成。
在根据本发明示意实施例的具有上述结构的显示面板中,地址电压施加于寻址电极111和Y电极之间,其是维持电极121a和121b其中之一,从而产生寻址放电。寻址放电在多个放电室当中选择在其中将要发生维持放电的放电室。
然后,维持电压施加于所选放电室的X电极和Y电极之间,从而在X电极和Y电极之间产生维持放电。维持放电激励放电气体,其随着其能级减小而发射紫外线。紫外线激励施加于在放电室的间隙130中形成的沟槽132的内表面上的荧光层115,并且荧光层115随着其能级减小而发射可见光线,由此在PDP上形成图像。
图6和图7表示根据本发明第二示意实施例的PDP,其中维持电极具有“T”形状,而不是条形。根据第二实施例的PDP的一般结构与图3、图4和图5的PDP的结构相类似。在图6中,示出了旋转了90度的前基板,以便更好地显示PDP的内部结构。
根据第二实施例的PDP包括后基板210、设置在后基板210上的多个寻址电极211、和覆盖寻址电极211的下介电层212。此外,间隔壁213设置在下介电层212上,从而将放电空间分隔成放电室。
前基板220与后基板210耦合形成放电空间,并且一对维持电极221a和221b设置在前基板220的下表面上。维持电极221a和221b形成为与寻址电极211交叉的“T”形状。
维持电极211a和211b可以由透明材料制成,如ITO,用于透射可见光线。金属汇流电极222a和222b形成在维持电极221a和221b的侧面上,其宽度比维持电极221a和221b的伸出长度窄。上透明介电层223覆盖维持电极221a和221b以及汇流电极222a和222b。
由于可以通过刻蚀除去一部分上介电层223,因此最终表面具有脊结构。更具体地说,维持电极对221a和221b之间的一部分上介电层223可以被刻蚀,由此形成其中除去了上介电层223的间隙230。因而,前基板220的下表面可以暴露于间隙230。
R、G和B荧光层215可以独立地设置在其中除去了上介电层223的前基板220的下表面上。特别是,暴露于间隙230的前基板220的下表面可以形成为沟槽232的形状。
沟槽232可以比放电室小并位于放电室内。此外,沟槽232形成有预定深度,使得预定厚度的荧光层215可以施加于沟槽232的内表面。此外,优选形成在沟槽232的内部下表面上的荧光层115和形成在沟槽232的内部侧表面上的荧光层115彼此整体地形成。
保护层224覆盖上介电层223。在这种情况下,保护层224覆盖上介电层223面对后基板210的表面,以及形成间隙230的上介电层223的表面。保护层224防止上介电层223由于等离子体颗粒溅射而损伤,并通过发射二次电子而减小放电电压和维持电压。保护层224可以由MgO制成。
图7是沿着图6的线II-II’的透视图。这里,图7是只相对于一个放电室从上部看到的透视图。
参见图7,汇流电极222a和222b彼此平行延伸,并设置在被间隔壁213围绕的放电室中。在汇流电极222a和222b的侧面上,“T”形维持电极221a和221b彼此面对地设置在汇流电极222a和222b之间。图6的间隙230形成在维持电极221a和221b之间。荧光层215施加于在前基板220的下表面上形成的沟槽232的内表面,其暴露于间隙230。
利用这种结构,可以在通过间隙230彼此面对的维持电极221a和221b之间平稳地发生维持放电,从而激励荧光层215,其随着其能级减小而发射可见光线。
根据本发明示意实施例的具有上述结构的PDP具有以下优点。
由于荧光层不形成在下板上,可以在寻址期间以及维持放电期间防止离子撞击。而且,由于可以防止离子撞击,因此可以防止荧光层退化。此外,可以防止形成永久余像。
本领域技术人员很容易理解在不脱离本发明的精神或范围的情况下可以对本发明做出各种修改和改变。因此,本发明趋于覆盖落入所附权利要求书及其等效形式范围内的本发明的修改和改变。

Claims (18)

1、一种等离子体显示面板(PDP),包括:
后基板;
设置在后基板上并在第一方向上延伸的寻址电极;
覆盖寻址电极的下介电层;
设置在下介电层上从而限定放电室的间隔壁;
基本上平行于后基板设置的前基板;
设置在前基板上并在第二方向上延伸的维持电极对,第二方向与第一方向交叉;
覆盖维持电极的上介电层;
覆盖上介电层的保护层;和
放电室中的放电气体,
其中上介电层包括在放电室内的维持电极对之间的间隙,并且荧光层设置在该间隙中。
2、根据权利要求1的PDP,其中荧光层设置在被该间隙暴露的前基板的下表面上。
3、根据权利要求2的PDP,其中前基板的暴露下表面形成为沟槽形状。
4、根据权利要求3的PDP,其中该沟槽形成在放电室中。
5、根据权利要求4的PDP,其中荧光层设置在该沟槽的内表面上。
6、根据权利要求5的PDP,其中保护层覆盖形成该间隙的上介电层的侧表面。
7、根据权利要求1的PDP,其中保护层包括氧化镁。
8、一种等离子体显示面板(PDP),包括:
后基板;
与后基板耦合的前基板;和
在前基板和后基板之间的多个放电室,
其中放电室包括寻址电极、维持电极对和荧光层,该荧光层设置在前基板上。
9、根据权利要求8的PDP,其中该荧光层设置在前基板中的沟槽中。
10、根据权利要求9的PDP,还包括:
包括间隙的第一介电层;
其中维持电极对设置在前基板上,并且第一介电层覆盖维持电极,该间隙设置在维持电极对之间,并且该沟槽被该间隙所暴露。
11、根据权利要求8的PDP,还包括:
包括间隙的第一介电层,
其中维持电极对设置在前基板上,第一介电层覆盖维持电极对,该间隙设置在维持电极对之间,荧光层对应于该间隙。
12、根据权利要求11的PDP,其中荧光层设置在前基板中的沟槽中。
13、根据权利要求8的PDP,还包括:
第一介电层;和
第二介电层,
其中寻址电极设置在后基板上并由第一介电层覆盖,维持电极对在与寻址电极交叉的方向上设置在前基板上,并且被第二介电层覆盖,第二介电层包括对应于荧光层的间隙。
14、根据权利要求13的PDP,其中该间隙和荧光层整体地包含在放电室内。
15、根据权利要求14的PDP,其中荧光层设置在前基板中的沟槽中。
16、根据权利要求15的PDP,其中该沟槽具有基本上矩形的形状。
17、根据权利要求15的PDP,其中荧光层包括设置在沟槽下表面和侧表面上的荧光材料。
18、根据权利要求8的PDP,其中荧光层包括荧光层岛。
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