CN1755446A - 显示器基底、制造该基底的方法和具有该基底的液晶显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种显示器基底，其包括：基础基底，所述基础基底被划分成显示区域和围绕所述显示区域的周围区域，其中图像显示在所述显示区域中；形成在所述基础基底的显示区域中的像素部分；第一彩色滤光层，所述第一彩色滤光层形成在包括所述像素部分的基础基底上，其中所述第一彩色滤光层形成在所述显示区域中；以及形成在所述基础基底的周围区域中的第二彩色滤光层。

Description

显示器基底、制造该基底的方法和具有该基底的液晶显示装置

技术领域

本发明涉及一种显示器基底、制造该显示器基底的方法和具有该显示器基底的液晶显示(LCD)装置，更特别地，本发明涉及一种能够提高图像显示质量的显示器基底、制造该显示器基底的方法和具有该显示器基底的液晶显示(LCD)装置。

背景技术

LCD装置包括LCD板和背光组件。该LCD板显示图像，而该背光组件向该LCD板提供光。

LCD板包括下基底、上基底和液晶层。下基底包括多个像素部分。上基底与下基底相结合。液晶层夹在下基底和上基底之间。

下基底还包括形成在像素部分上的多个像素电极。上基底包括公共电极和多个彩色滤光器。在该公共电极上施加公共电压。每个彩色滤光器利用从该背光组件接收的光来显示一种预定的颜色。彩色滤光器与像素部分相对应。当下基底与上基底相结合时，下基底可能与上基底未对准。

为防止下基底与上基底之间的未对准，彩色滤光器可形成在下基底上。当彩色滤光器形成在下基底上时，对应于显示区域的下基底具有与对应于周围区域的下基底不同的厚度，周围区域围绕该显示区域。从而，对应于显示区域的下基底具有与对应于周围区域的下基底不同的透光率。这样，沿着显示区域和周围区域之间的界面形成处条纹线。

发明内容

本发明的实施例提供了一种能够提高图像显示质量的显示器基底、制造上述显示器基底的方法和具有上述显示器基底的液晶显示(LCD)装置。

根据本发明实施例的显示器基底包括基础基底、像素部分、第一彩色滤光层和第二彩色滤光层。

该基础基底被划分成显示区域和围绕该显示区域的周围区域。图像显示在显示区域中。像素部分位于对应于显示区域的基础基底上。第一彩色滤光层位于具有像素部分的基础基底上。第一彩色滤光层位于显示区域中。第二彩色滤光层位于周围区域中的基础基底上。

根据本发明实施例的一种显示器基底包括基底、薄膜晶体管、第一彩色滤光层、第二彩色滤光层、有机层和像素电极。

该基底被划分成显示区域和围绕该显示区域的周围区域。图像显示在显示区域中。薄膜晶体管位于基底的显示区域中。第一彩色滤光层位于具有薄膜晶体管的基底的显示区域中。第二彩色滤光层位于基底的周围区域中。有机层位于显示区域和周围区域中，以覆盖第一和第二彩色滤光器。像素电极位于对应于第一彩色滤光层的区域中的有机层上。像素电极电连接到薄膜晶体管上。

一种制造根据本发明实施例的显示器基底的方法提供如下。像素部分形成在基础基底的显示区域中。彩色层形成在具有像素部分的基础基底上。彩色层被图案化，以在显示区域中形成第一彩色滤光层，且同时该彩色层被图案化，以在围绕该显示区域的周围区域中形成对应于第一彩色滤光层的第二彩色滤光层。

根据本发明实施例的一种液晶显示装置包括下基底、上基底和液晶层。

该下基底包括第一基础基底、第一彩色滤光层和第二彩色滤光层。第一基础基底被划分成显示区域和围绕该显示区域的周围区域。图像显示在显示区域中。该第一彩色滤光层位于第一基础基底的显示区域中。第二彩色滤光层位于第一基础基底的周围区域中。上基底包括对应于第一基础基底的第二基础基底和位于第二基础基底上的公共电极。该液晶层夹在上基底和下基底之间。

根据本发明的实施例，彩色滤光层形成在下基底的显示区域和周围区域上，以减小下基底的显示区域和周围区域之间的厚度差。其结果是，减小了显示区域和周围区域之间的透光率差异，从而防止了条纹线产生。因而，图像显示质量得以提高。

附图说明

从以下结合附图进行的描述中，可更详细地理解本发明的优选实施例，其中：

图1为示出了根据本发明一实施例的下基底的平面图；

图2为沿图1中线I-I’所取的横截面图；

图3为示出了如图2中所示的薄膜晶体管(TFT)的线路图；

图4为示出了根据本发明一实施例的第二彩色滤光器的平面图；

图5为示出了根据本发明一实施例的虚拟彩色滤光器的平面图，；

图6为示出了根据本发明一实施例的虚拟彩色滤光器的平面图，；

图7为示出了根据本发明一实施例的LCD装置的横截面图；

图8为示出了根据本发明一实施例的LCD装置的平面图；

图9为示出了图8中所示的下基底的平面图；

图10为示出了图9中所示的第一栅极驱动部分的方框图；

图11为沿图8中所示线II-II’所取的横截面图；

图12至14为示出了制造如图11中所示下基底的方法的横截面图；

图15为示出了图9中所示区域“A”的放大的平面图；

图16为沿图15中所示线III-III’所取的横截面图；

图17为沿图8中所示线IV-IV’所取的横截面图；且

图18为沿图8中所示线V-V’所取的横截面图。

具体实施方式

下面将参照附图更详细地描述本发明的优选实施例。本发明可以许多不同形式体现，而不应被解释为局限于在此提出的实施例。

图1为示出了根据本发明一实施例的下基底的平面图。图2为沿图1中线I-I’所取的横截面图。

参见图1和图2，下基底1100包括第一基础基底1110、栅极线GL、数据线DL、薄膜晶体管(TFT)1120、像素电极1130、第一彩色滤光层1150、第二彩色滤光层1155和有机层1160。

第一基础基底1110被划分成显示区域DA和围绕该显示区域DA的周围区域PA。图像显示在显示区域DA中，而并不显示在周围区域PA中。第一基础基底1110包括透明材料。该透明材料的例子包括玻璃、石英和塑料。

栅极线GL形成在第一基础基底1110上。在图1中，下基底1100包括多条栅极线GL。栅极线GL沿第一方向D1延伸，并沿着与第一方向D1相交的第二方向D2排列。例如，当下基底1100的分辨率为约1024×768时，大约768个栅极线沿着第二方向D2排列。

数据线DL形成在第一基础基底1110上。在图1中，下基底1100包括多条数据线DL。数据线DL沿第二方向D2延伸，并沿着第一方向D1排列。例如，当下基底1100的分辨率为约1024×768时，大约1024×3个数据线沿着第一方向D1排列。

图3为示出了如图2所示的薄膜晶体管(TFT)的线路图。

参见图2和图3，薄膜晶体管1120形成在第一基础基底1110上，并电连接到一条栅极线GL和一条数据线DL上。

在图1至图3中，多个薄膜晶体管1120形成在显示区域DA中。例如，当下基底1100的分辨率为约1024×768时，大约1024×768×3个薄膜晶体管1120形成在第一基础基底1110上。

每个薄膜晶体管1120包括栅极1121、有源层1122、欧姆接触层1123、源极1124和漏极1125。

栅极1121电连接到栅极线GL上，并接收栅极信号。栅极1121由与栅极线GL相同的层形成。

栅绝缘层1140形成在其上形成有栅极1121的第一基础基底1110上。栅绝缘层1140保护着栅极1121和栅极线GL。

有源层1122和欧姆接触层1123依次形成在栅绝缘层1140的显示区域DA中，使得欧姆接触层1123形成在有源层1122上。有源层1122和欧姆接触层1123对应于栅极1121。欧姆接触层1123的中部被去除，以使有源层1122通过欧姆接触层1123的开口得以部分地暴露。该暴露的有源层1122在源极1124和漏极1125之间起到沟道的作用。

源极1124和漏极1125被布置在欧姆接触层1123上。源极1124和漏极1125关于该沟道区彼此相对地定位。源极1124电连接到一条数据线DL上，并接收数据信号。

像素电极1130电连接到每个薄膜晶体管1120，并形成在第一彩色滤光层1150上。像素电极1130包括透明导电材料。该透明导电材料的例子包括氧化锡铟(ITO)、氧化锡(TO)、氧化锌铟(IZO)、氧化锌(ZO)以及氧化锌锡铟(ITZO)。

第一彩色滤光层1150对应于每个薄膜晶体管1120的漏极1125。第一彩色滤光层1150包括传输红光的红色滤光器、传输绿光的绿色滤光器和传输蓝光的蓝色滤光器。

第一彩色滤光层1150仅形成在下基底1100的显示区域DA中，以使在显示区域DA和周围区域PA之间的界面上形成阶梯部分。

第二彩色滤光层1155位于周围区域PA中，以补偿显示区域DA和周围区域PA之间界面上的阶梯部分。根据本发明的实施例，第二彩色滤光层1155包括与第一彩色滤光层1150基本相同的材料。第二彩色滤光层1155通过与第一彩色滤光层1150基本上相同的工艺来形成。根据本发明的实施例，例如图1-3中所示，第二彩色滤光层1155与第一彩色滤光层1150同时形成。

第二彩色滤光层1155与第一彩色滤光层1150间隔开来，且例如包括杆形。

有机层1160形成在第一基础基底1110上，以覆盖第一和第二彩色滤光层1150和1155，并使下基底1100的上表面平坦。第一彩色滤光层1150和有机层1160被部分地去除，以形成接触孔CH，漏极1125通过该接触孔CH部分地暴露。该像素电极1130通过接触孔CH电连接到漏极1125。

有机层1160还包括通路孔(via holes)VH，栅极线GL和数据线DL的端部通过该通路孔VH被暴露。该通路孔VH通过部分地去除有机层1160来形成。

图4为一平面图，示出了根据本发明另一实施例的位于下基底1100上的第二彩色滤光器。

参见图4，第二彩色滤光层1170形成在周围区域PA中，并围绕着显示区域DA。第一彩色滤光层1150与第二彩色滤光层1170之间的距离被调整，以补偿位于显示区域DA和周围区域PA之间界面上的阶梯部分。根据本发明的实施例，第二彩色滤光层1170可以消除该阶梯部分。

图5为一平面图，示出了根据本发明一实施例的虚拟(dummy)彩色滤光器。

参见图5，第一彩色滤光层1180形成在显示区域DA和周围区域PA上。第一彩色滤光层1180形成在整个显示区域DA和整个周围区域PA上。作为选择，第一彩色滤光层1180可形成在整个显示区域DA和部分周围区域PA上。当第一彩色滤光层1180形成在整个周围区域PA上时，第二彩色滤光层1155(如图1中所示)可被省去。也就是说，第二彩色滤光层1155(如图1中所示)可与第一彩色滤光层1180一体形成。第一彩色滤光层1180包括有开口，栅极线GL和数据线DL的端部通过该开口被暴露。

第一彩色滤光层1180从显示区域DA向周围区域PA延伸，从而防止在显示区域DA和周围区域PA之间形成阶梯部分。

图6为示出了根据本发明另一实施例的虚拟彩色滤光器的平面图。

参见图6，第一彩色滤光层1190形成在整个显示区域DA和部分周围区域PA上。

第二彩色滤光层1195形成在周围区域PA中，并例如包括杆形。第二彩色滤光层1195可包括至少两个相互间隔开来的第二彩色滤光部分。该第二彩色滤光层1195形成在栅极线GL和数据线DL的端部上。

在图6中，相应于第二彩色滤光层1195的第一彩色滤光层1190的两个侧面形成在显示区域DA中。与第二彩色滤光层1195相对的第一彩色滤光层1190的其余两个侧面形成在周围区域PA中。也就是说，第一彩色滤光层1190的一部分从显示区域DA向周围区域PA延伸。

图7为示出了根据本发明另一实施例的LCD装置的横截面图。

参见图1和图7，该LCD装置1000包括下基底1100、上基底1200和液晶层1300。

下基底1100包括第一基础基底1110、多个薄膜晶体管(TFT)1120、多个像素电极1130、第一和第二彩色滤光层1150和1155、以及有机层1160。

图7的下基底1100与图1中的下基底1100相同。

在图7中，第一彩色滤光层1150形成在第一基础基底1110的显示区域DA中。作为选择，第一彩色滤光层1150可从显示区域DA向第一基础基底1110的周围区域PA延伸，如图5和图6中所示。

在图7中，第二彩色滤光层1155形成在第一基础基底1110的周围区域PA中，并例如包括杆形。作为选择，像图4中的第二彩色滤光层1170那样，第二彩色滤光层可具有闭环形状。

上基底1200面对着下基底1100。上基底1200包括面对着像素电极1130的公共电极。

密封剂1400夹在下基底1100和上基底1200之间，以使下基底1100与上基底1200相结合，以将液晶层1300密封在下基底1100和上基底1200之间。

图8为示出了根据本发明另一实施例的LCD装置的平面图。图9为示出了图8中所示的下基底的平面图。

参见图8和图9，LCD装置2000包括下基底2100、上基底2200和驱动芯片2300。上基底2200对应于下基底2100，以同下基底2100相结合。驱动芯片2300被安装在下基底2100上，以输出数据信号。

下基底2100包括第一基础基底1110和位于第一基础基底1110上的多个像素部分Px。

第一基础基底1110被划分成显示区域DA和围绕该显示区域DA的周围区域PA。图像显示在显示区域DA中，而并不显示在周围区域PA中。图8和图9中的第一基础基底1110与图1中的第一基础基底1110相同。像素部分Px包括多条栅极线GL1，......GLn和多条数据线DL1，......DLm。这里，n和m为自然数。

栅极线GL1，......GLn沿着第一方向D1延伸，并沿着基本上垂直于第一方向D1的第二方向D2排列。栅极线GL1，......GLn与数据线DL1，......DLm电绝缘，并在显示区域DA中与数据线DL1，......DLm交叉。栅极线GL1，......GLn传输栅极信号。

数据线DL1，......DLm沿着第二方向D2延伸，并沿着第一方向D1排列。数据线DL1，......DLm电连接到驱动芯片2300，以传输数据信号。

每个像素部分Px包括电连接到栅极线GL1，......GLn其中之一和数据线DL1，......DLm其中之一的薄膜晶体管1120，以及包括电连接到薄膜晶体管1120的像素电极1130。

下基底2100还可在第一基础基底1110的周围区域PA中包括第一栅极驱动部分2110，以输出栅极信号至栅极线GL1，......GLn。

第一栅极驱动部分2110依据外部提供的控制信号依次地将栅极信号输出至栅极线GL1，......GLn。第一栅极驱动部分2110通过与薄膜晶体管1120基本上相同的工艺来形成。根据本发明一实施例，第一栅极驱动部分2110与薄膜晶体管1120同时形成，且由与第一基础基底1110的周围区域PA中的像素部分Px相同的层来形成。

根据本发明一实施例，第一栅极驱动部分2110可与驱动芯片2300一体形成。第一栅极驱动部分2110可为安装在第一基础基底1110的周围区域PA中的芯片。当第一栅极驱动部分2110与驱动芯片2300一体形成时，驱动芯片2300输出栅极信号至栅极线GL1，......GLn。

图10为示出了图9中所示的第一栅极驱动部分2110的方框图。

参见图10，第一栅极驱动部分2110包括电路部分CS和与电路部分CS相邻的输入部分LS。

电路部分CS包括第1至第n+1个级SRC1，......SRCn+1，以依次地将第1至第n个栅极信号OUT1，......OUTn输出到第1至第n个栅极线GL1，......GLn。

第1至第n+1个级SRC1，......SRCn+1中的每个都包括第一时钟端子CK1、第二时钟端子CK2、第一输入端子IN1、第二输入端子IN2、接地电压端子V1、重置端子RE、进位端子(carry terminal)CR和输出端子OUT。

第一时钟CKV被施加到第1至第n+1个级SRC1，......SRCn+1中的奇数级SRC1，SRC3，......SRCn+1的第一时钟端子CK1。具有与第一时钟CKV不同相位的第二时钟CKVB被施加到第1至第n+1个级SRC1，......SRCn+1中的偶数级SRC2，SRC4，......SRCn的第一时钟端子CK1。第二时钟CKVB被施加到奇数级SRC1，SRC3，......SRCn+1的第二时钟端子CK2。第一时钟CKV被施加到偶数级SRC2，SRC4，......SRCn的第二时钟端子CK2。

启动信号STV或前一级的栅极信号被施加到第1至第n+1个级SRC1，......SRCn+1中每个的第一输入端子IN1。启动信号STV被施加到第一级SRC1的第一输入端子IN1，以启动电路部分CS的工作。

下一级的进位信号被施加到第1至第n级SRC1，......SRCn中每一个的第二输入端子IN2。第n+1级SRCn+1为哑级(dummy stage)，以将进位信号施加到第n级SCRn的第二输入端子IN2。启动信号STV被施加到第n+1级SRCn+1的第二输入端子IN2。

断开电压Voff被施加到第1至第n+1级SRC1，......SRCn+1中每一个的断开电压端子V1。从第n+1级SRCn+1输出的第n+1个栅极信号被施加到第1至第n+1级SRC1，......SRCn+1的重置端子RE。

第一时钟CKV由奇数级SRC1，SRC3，......SRCn+1的进位端子CR和奇数级SRC1，SRC3，......SRCn+1的输出端子OUT输出。第二时钟CKVB由偶数级SRC2，SRC4，......SRCn的进位端子CR和偶数级SRC2，SRC4，......SRCn的输出端子OUT输出。由第1至第n级SRC1，......SRCn的输出端子OUT输出的第1至第n个栅极信号OUT1，......OUTn中的每一个都被施加到下一级的第一输入端子IN1。

输入部分LS包括第一信号线SL1、第二信号线SL2、第三信号线SL3、第四信号线SL4和第五信号线SL5。

断开电压Voff被施加到第一信号线SL1。第一时钟CKV被施加到第二信号线SL2。第二时钟CKVB被施加到第三信号线SL3。启动信号STV通过第四信号线SL4被施加到第1级SRC1的第一输入端子IN1和第n+1级SRCn+1的第二输入端子IN2。第n+1级SRCn+1的第n+1个栅极信号通过第五信号线SL5被施加到第1至第n+1级SRC1，......SRCn+1中每一个的重置端子RE。

在图10中，第五信号线SL5与电路部分CS相邻。第四信号线SL4沿着远离电路部分CS的方向与第五信号线SL5相邻。第三信号线SL3沿着远离第五信号线SL5的方向与第四信号线SL4相邻。第二信号线SL2沿着远离第四信号线SL4的方向与第三信号线SL3相邻。第一信号线SL1沿着远离第三信号线SL3的方向与第二信号线SL2相邻。第一信号线SL1比第二、第三、第四和第五信号线SL2、SL3、SL4和SL5距第一基础基底1110(如图2中所示)的侧面更近。

输入部分LS还可包括第一连接线CL1、第二连接线CL2和第三连接线CL3。

第一连接线CL1电连接在第一信号线SL1与第1至第n+1级SRC 1，......SRCn+1中每一个的断开电压端子V1之间。第二连接线CL2电连接在第二信号线SL2与电路部分CS的每个奇数级SRC1，SRC3，......SRCn+1的第一时钟端子CK1之间，并电连接在第二信号线SL2与电路部分CS的每个偶数级SRC2，SRC4，......SRCn的第二时钟端子CK2之间。第三连接线CL3电连接在第三信号线SL3与电路部分CS的偶数级SRC2，SRC4，......SRCn的第一时钟端子CK1之间，并电连接在第三信号线SL3与电路部分CS的奇数级SRC1，SRC3，......SRCn+1的第二时钟端子CK2之间。

再次参见图9，下基底2100还可在第一基础基底1110的周围区域PA中包括第二栅极驱动部分2120。第二栅极驱动部分2120对应于第一栅极驱动部分2110。也就是说，第一和第二栅极驱动部分2110和2120分别邻近显示区域DA的相对的侧面。

当第二栅极驱动部分2120位于下基底2100上与第一栅极驱动部分2110相对的侧面上时，周围区域PA中的液晶层的单元间隙(cell gap)是均匀的。此外，第二栅极驱动部分2120可分担第一栅极驱动部分2110的功能。

当第二栅极驱动部分2120执行与第一栅极驱动部分2110基本上相同的功能时，第二栅极驱动部分2120依据外部提供的控制信号将栅极信号输出到栅极线GL1，......GLn。

根据本发明的实施例，第二栅极驱动部分2120可仅控制单元间隙，而不输出栅极信号。

第二栅极驱动部分2120通过与第一栅极驱动部分2110基本上相同的工艺来形成。根据本发明的实施例，第二栅极驱动部分2120可与第一栅极驱动部分2110和薄膜晶体管1120同时形成，且在第一基础基底1110的周围区域PA中由与第一栅极驱动部分2110相同的层来形成。

参见图8，下基底2100还可包括第一彩色滤光层2130和第二彩色滤光层2140。第一彩色滤光层2130形成在第一基础基底1110的显示区域DA中。第二彩色滤光层2140形成在第一基础基底1110的周围区域PA中。

第一彩色滤光层2130对应于显示区域DA，并包括红色滤光器、绿色滤光器和蓝色滤光器，以分别显示红、绿和蓝光。

第二彩色滤光层2140对应于周围区域PA，并形成在第一和第二栅极驱动部分2110和2120上。根据本发明的实施例，第二彩色滤光层2140可由与红、绿和蓝色滤光器其中之一相同的层来形成。作为选择，第二彩色滤光层2140可由与红、绿和蓝色滤光器至少其中之二相同的层来形成。

根据本发明的实施例，第二彩色滤光层2140通过与第一彩色滤光层2130基本上相同的工艺来形成，并与第一彩色滤光层2130同时形成。

第二彩色滤光层2140可形成在整个周围区域PA上。作为选择，第二彩色滤光层2140可形成在显示区域DA的相对的侧面上，第一和第二栅极驱动部分2110和2120形成在该相对的侧面上。

当第二彩色滤光层2140形成在显示区域DA的相对的侧面上时，第一彩色滤光层2130可从显示区域DA向周围区域PA延伸，以使第二彩色滤光层2140可被省去。

也就是说，第一彩色滤光层2130从显示区域DA向第一基础基底1110的相对的侧面延伸，驱动芯片2300形成在该第一基础基底1110上。驱动芯片2300形成在数据线DL的端部。从而，第一彩色滤光层2130覆盖着显示区域DA和部分周围区域PA。

图11为沿图8中所示线II-II’所取的横截面图。

参见图8和图11，薄膜晶体管1120形成在第一基础基底1110的显示区域DA中。图8和图11的薄膜晶体管1120与图2中的薄膜晶体管1120相同。

下基底2100还可包括保护层2150，以保护薄膜晶体管1120和第一栅极驱动部分2110。保护层2150形成在第一基础基底1110上，薄膜晶体管1120和第一栅极驱动部分2110形成在该第一基础基底1110上。

第一和第二彩色滤光层2130和2140在保护层2150上。第一彩色滤光层2130形成在显示区域DA中。

第二彩色滤光层2140形成在周围区域PA中，并具有与第一彩色滤光层2130基本上相同的材料。第二彩色滤光层2140形成在第一和第二栅极驱动部分2110和2120上，以使第一和第二栅极驱动部分2110和2120与上基底2200电绝缘，从而防止在周围区域PA中下基底2100和上基底2200之间的短路。

第一和第二彩色滤光层2130和2140具有基本上相同的厚度。从而，显示区域DA的单元间隙与周围区域PA的单元间隙之间的差异得以减小。此外，对应于周围区域PA的下基底2100的厚度可被增加，以防止周围区域PA中的光泄漏。

从而，防止了周围区域PA中的条纹线，因而图像显示质量得以提高。

保护层2150和第一彩色滤光层2130被部分地去除，以形成接触孔CH，薄膜晶体管1120的漏极1125通过该孔CH部分地暴露。

像素电极1130形成在第一彩色滤光层2130上。像素电极1130包括透明导电材料。该透明导电材料的例子包括氧化锡铟(ITO)、氧化锡(TO)、氧化锌铟(IZO)、氧化锌(ZO)、以及氧化锌锡铟(ITZO)。像素电极1130通过接触孔CH电连接到薄膜晶体管1120。

上基底2200对应于下基底2100。上基底2200包括第二基础基底2210、黑矩阵(black matrix)2220和公共电极2230。

第二基础基底2210包括透明材料，以传输入射到其上的光。第二基础基底2210对应于第一基础基底1110。黑矩阵2220形成在第二基础基底2210上以阻挡光。黑色矩阵层2220对应于薄膜晶体管1120和周围区域PA。公共电极2230形成在具有黑矩阵2220的第二基础基底2210上，以接收公共电压。公共电极2230包括透明导电材料。该透明导电材料的例子包括氧化锡铟(ITO)、氧化锡(TO)、氧化锌铟(IZO)、氧化锌(ZO)、以及氧化锌锡铟(ITZO)。液晶层1300夹在下基底2100和上基底2200之间。液晶层1300的液晶分子响应于施加到液晶层1300上的电场而改变它们的排列，从而改变液晶层1300的透光率。电场在像素电极1130和公共电极2230之间形成。从而，LCD装置2000显示图像。

图12至14为横截面图，示出了制造如图11中所示下基底2100的方法。

参见图12，薄膜晶体管1120形成在第一基础基底1110的显示区域DA中。第一栅极驱动部分2110在周围区域PA中形成在第一基础基底1110上。在图12中，根据本发明一实施例，薄膜晶体管1120与第一栅极驱动部分2110同时形成。

第二栅极驱动部分2120(如图8中所示)可与第一栅极驱动部分2110同时形成。栅极线GL1，......GLn(如图9中所示)和数据线DL1，......DLm(如图9中所示)可与薄膜晶体管1120同时形成。

保护层2150形成在第一基础基底1110上，以覆盖薄膜晶体管1120和第一栅极驱动部分2110。

参见图13，彩色层CP形成在保护层2150上。彩色层CP被图案化，以形成第一彩色滤光层2130和第二彩色滤光层2140中的红、绿和蓝色滤光器其中之一。

彩色层CP包括与红、绿和蓝色滤光器其中之一基本上相同的材料。重复形成和图案化彩色层CP，以形成包括红、绿和蓝色滤光器的第一彩色滤光层2130。

参见图14，第一彩色滤光层2130和保护层2150被部分地去除，以形成接触孔CH。再次参见图11，像素电极1130形成在第一彩色滤光层2130上。从而完成下基底2100。

图15为示出了图9中所示区域“A”的放大平面图。

参见图9和图15，下基底2100还可包括电连接到第一栅极驱动部分2110的第一输出部分。第一输出部分位于第一基础基底1110的周围区域PA中，并传输由第一栅极驱动部分2110产生的栅极信号。

第一输出部分包括分别电连接到栅极线GL1，......GLn的多条输出线OL1_1，......OL1_p。这里，p为自然数。

输出线OL1_1，......OL1_p具有基本上相同的结构，且相连的栅极线GL1，......GLn具有基本上相同的结构。下文中，第一输出线OL1_1被描述为输出线OL1_1，......OL1_p的一个例子。此外，第一输出线OL1_1与第一栅极线GL1之间的关系为输出线OL1_1，......OL1_p与栅极线GL1，......GLn之间关系的一个例子。

图16为沿图15中所示线III-III’所取的横截面图。

参见图15和图16，第一输出线OL1_1形成在栅绝缘层1140上。保护层2150形成在第一输出线OL1_1上，以覆盖第一输出线OL1_1上。第一输出线OL1_1形成在第一输出垫(output pad)OL1_OP的端部上。

第一输入垫(input pad)GL1_IP形成在第一栅极线GL1的端部上。第一输入垫GL1_IP形成在周围区域PA中。第一栅极线GL1形成在栅绝缘层1140之下。因而，第一输出线OL1_1与第一栅极线GL1形成在互不相同的层上。

栅绝缘层1140和保护层2150被部分地去除，以形成第一通路孔VH1，第一栅极线GL1的第一输入垫GL1_IP经由该通路孔VH1部分地暴露。

保护层2150还可包括第二通路孔VH2，第一输出线OL1_1的第一输出垫OL1_OP通过该第二通路孔VH2部分地暴露。

下基底2100还可包括第一电极层2170，该第一电极层2170电连接在第一栅极线GL1与第一输出线OL1_1之间。在图15中，多个第一电极层2170电连接在第1至第n个栅极线GL1，......GLn与第1至第p个输出线OL1_1，......OL1_p之间。

第一电极层2170形成在保护层2150上，且包括透明导电材料。第一电极层2170通过与像素电极1130(如图9中所示)基本上相同的工艺来形成。第一电极层2170可与像素电极1130同时形成。

第一电极层2170通过第一通路孔VH1电连接到第一栅极线GL1，并通过第二通路孔VH2电连接到第一输出线OL1_1。从而，第一输出线OL1_1通过第一电极层2170电连接到第一栅极线GL1，因而第一栅极信号通过第一输出线OL1_1和第一电极层2170被施加到第一栅极线GL1上。

对应于第一电极层2170的第二彩色滤光层2140被部分地去除。也就是说，第二彩色滤光层2140形成在除对应于第一电极层2170的部分之外的区域上。当第二彩色滤光层2140形成在第一输出垫OL1_OP和第一输入垫GL1_IP上时，第一和第二通路孔VH1和VH2具有陡峭的轮廓。在图16中，对应于第一电极层2170的第二彩色滤光层2140被部分地去除，从而使第一和第二通路孔VH1和VH2的深度被减小。

因而，第一电极层2170与第一输出垫OL1_OP之间以及第一电极层2170与第一输入垫GL1_IP之间的接触特性被提高，从而使第一栅极线GL1被牢固地连接到第一输出线OL1_1上。在图16中，位于第1至第n个栅极线GL1，......GLn的栅极垫(gate pad)与第1至第p个输出线OL1_1，......OL1_p的输出垫之间的第二彩色滤光层2140被部分地去除。第二彩色滤光层2140形成在除介于第1至第n个栅极线GL1，......GLn的栅极垫与第1至第p个输出线OL1_1，......OL1_p的输出垫之间的部分之外的区域上。

再次参见图8和图9，下基底2100还可包括电连接到第二栅极驱动部分2120的第二输出部分。第二输出部分形成在第一基础基底1110的周围区域PA中，并传输由第二栅极驱动部分2120产生的栅极信号。

第二输出部分包括分别电连接到栅极线GL1，......GLn的多条栅极输出线OL2_1，......OL2_q。这里，q为自然数。

在图8和图9中，栅极输出线OL2-1，......OL2_q具有与输出线OL1_1，......OL1_p基本上相同的结构，此外，相连的栅极输出线OL2-1，......OL2_q具有与相连的输出线OL1_1，......OL1_p基本上相同的结构。

图17为沿图8中所示线IV-IV’所取的横截面图。

参见图8和图17，下基底2100还可包括多条位于第一基础基底1110上的公共电极线CL1，......CLn，以及位于第一基础基底1110上的第三输出部分OL3。第三输出部分OL3将公共电压施加到公共电极线CL1，......CLn。

公共电极线CL1，......CLn沿着第一方向D1延伸，并沿着第二方向D2排列。公共电极线CL1，......CLn形成在显示区域DA和周围区域PA中。公共电极线CL1，......CLn的端部电连接到第三输出部分OL3，以接收公共电压。

公共电极线CL1，......CLn电连接到上基底2200的公共电极2230(如图17中所示)。该公共电压通过公共电极线CL1，......CLn被施加到公共电极2230。

第三输出部分OL3形成在第一基础基底1110的周围区域PA中，并与显示区域DA相邻。第三输出部分OL3电连接到驱动芯片2300，以接收来自驱动芯片2300的公共电压。

公共电极线CL1，......CLn具有基本上相同的结构，且第三输出部分OL3与公共电极线CL1，......CLn之间的连接结构基本上相同。下文中，第一公共电极线CL1与第三输出部分OL3之间的连接结构被描述为公共电极线CL1，......CLn与第三输出部分OL3之间的连接结构的一个例子。

参见图8和图17，第一公共电极线CL1形成在第一基础基底1110上，且由与栅极线GL1，......GLn相同的层形成。第一公共电极线CL1的端部位于周围区域PA中。

栅绝缘层1140形成在包括第一公共电极线CL1的第一基础基底1110上。

第三输出部分OL3形成在栅绝缘层1140上，且保护层2150形成在包括第三输出部分OL3的栅绝缘层1140上。第三输出部分OL3与第一公共电极线CL1形成在互不相同的层上。

第三输出部分OL3通过第三通路孔VH3和第四通路孔VH4电连接到第一公共电极线CL1上。

第三和第四通路孔VH3和VH4形成在周围区域PA中，且彼此相邻。栅绝缘层1140和保护层2150被部分地去除，以形成第三通路孔VH3，第一公共电极线CL1的端部通过该孔VH3被暴露。保护层2150被部分地去除，以形成第四通路孔VH4，第三输出部分OL3通过该孔VH4部分地暴露。

下基底2100还可包括第二电极层2180。第三输出部分OL3通过第二电极层2180电连接到第一公共电极线CL1上。

第二电极层2180形成在保护层2150的周围区域PA中。第二电极层2180具有与第一电极层2170(如图15中所示)基本上相同的材料。第二电极层2180通过与第一电极层2170基本上相同的工艺来形成。第二电极层2180通过第三通路孔VH3电连接到第一公共电极线CL1上。第二电极层2180通过第四通路孔VH4电连接到第三输出部分OL3上。第二电极层2180从第三通路孔VH3向第四通路孔VH4延伸。从而，第一公共电极线CL1通过第二电极层2180电连接到第三输出部分OL3上。

对应于介于第一公共电极线CL1与第三输出部分OL3之间的第二电极层2180的第二彩色滤光层2140被去除，以使第一公共电极线CL1通过第二电极层2180牢固地连接到第三输出部分OL3上。也就是说，第二彩色滤光层2140形成在除对应于介于第一公共电极线CL1和第三输出部分OL3之间的第二电极层2180的部分之外的区域上。

再次参见图8和图9，下基底2100还可包括短路棒2160，以防止向数据线DL1，......DLm施加静电荷。

短路棒2160形成在第一基础基底1110的周围区域PA中。短路棒2160位于驱动芯片2300与显示区域DA之间。也就是说，短路棒2160邻近第一基础基底1110的源侧1114。源侧1114对应于数据线DL1，......DLm的端部。

图18为沿图8中所示线V-V’所取的横截面图。

参见图8和图18，该LCD装置还可包括将下基底2100和上基底2200结合到一起的密封剂1400，以使液晶层1300夹在下基底2100和上基底2200之间。

短路棒2160形成在布置有液晶层1300的区域中。向周围区域PA延伸的第一和第二彩色滤光层2130和2140与短路棒2160间隔开来。

短路棒2160还可包括第一电极(未示出)和第二电极(未示出)。该第一电极位于栅绝缘层1140之下，而该第二电极位于栅绝缘层1140上。该第一和第二电极通过第三电极(未示出)相互电连接到一起。第一、第二和第三电极形成与栅极线GL1，......GLn和第一输出部分基本上相同的连接结构。对应于介于第一和第二电极之间的第三电极的第一和第二彩色滤光层2130和2140被去除，以使第一电极通过第三电极牢固地连接到第二电极上。也就是说，第一和第二彩色滤光层2130和2140形成在除对应于介于第一和第二电极之间的第三电极的部分之外的区域上。

该LCD装置2000还可包括各向异性导电膜(ACF)2400。驱动芯片2300通过各向异性导电膜2400安装在下基底2100上。各向异性导电膜2400夹在下基底2100和驱动芯片2300之间，以使下基底2100电连接到驱动芯片2300。

根据本发明的实施例，LCD装置包括下基底，该下基底在显示区域中具有第一彩色滤光层，在周围区域中具有第二彩色滤光层。该下基底在显示区域和周围区域中包括第一和第二彩色滤光层，以减小显示区域与周围区域之间的高度差以及显示区域与周围区域之间的单元间隙差。从而，该LCD装置具有均匀的透光率，以防止条纹线，因而提高了图像显示质量。

此外，根据本发明的实施例，第二彩色滤光层形成在第一和第二栅极驱动部分上，以使第一和第二栅极驱动部分与公共电极电绝缘。因而防止了在周围区域中下基底和上基底之间的短路。

尽管已经在此参照附图描述了本发明的实施例，但应理解本发明并不局限于这些确切的实施例，而是可由本领域技术人员进行各种变化和修改，而不脱离本发明的精神和范围。由权利要求规定的本发明的范围旨在将所有这些变化和修改包括在内。

Claims (27)

1.一种显示器基底，包括：

基础基底，所述基础基底被划分成显示区域和围绕所述显示区域的周围区域，其中图像显示在所述显示区域中；

形成于所述基础基底的显示区域中的像素部分；

形成在包括所述像素部分的所述基础基底上的第一彩色滤光层，其中所述第一彩色滤光层形成在所述显示区域中；以及

形成在所述基础基底的周围区域中的第二彩色滤光层。

2.如权利要求1的显示器基底，还包括电连接到所述像素部分的第一栅极驱动部分，以输出栅极信号至所述像素部分，其中所述第一栅极驱动部分由与所述像素部分相同的层形成在所述基础基底的所述周围区域中。

3.如权利要求2的显示器基底，其中所述第二彩色滤光层形成在所述第一栅极驱动部分上。

4.如权利要求2的显示器基底，其中所述第二彩色滤光层没有形成在介于所述像素部分与所述第一栅极驱动部分之间的部分上。

5.如权利要求4的显示器基底，还包括：

形成在所述基础基底的周围区域中的第一输出线，其中所述第一输出线电连接到所述第一栅极驱动部分；以及

形成在所述基础基底的显示区域中的栅极线，其中所述栅极线电连接到所述第一输出线，并且其中

所述像素部分通过所述第一输出线和所述栅极线电连接到所述第一栅极驱动部分。

6.如权利要求5的显示器基底，还包括：

绝缘层，所述绝缘层形成在包括所述栅极线的基础基底上，并在所述第一输出线之下，其中所述绝缘层包括第一通路孔，所述栅极线通过所述第一通路孔被部分地暴露；

保护层，所述保护层形成在包括所述第一输出线的所述绝缘层上，其中所述保护层包括第二通路孔，所述第一输出线通过所述第二通路孔被部分地暴露；以及

形成在所述保护层上的电极层，其中所述电极层分别通过所述第一通路孔和第二通路孔电连接到所述栅极线和所述第一输出线上。

7.如权利要求2的显示器基底，还包括第二栅极驱动部分，所述第二栅极驱动部分由与第一栅极驱动部分相同的层形成在所述基础基底的周围区域中，其中所述第二栅极驱动部分关于所述像素部分与所述第一栅极驱动部分相对应。

8.如权利要求7的显示器基底，其中所述第二彩色滤光层没有形成在介于所述像素部分与所述第二栅极驱动部分之间的部分上。

9.如权利要求7的显示器基底，还包括：

形成在所述基础基底的所述显示区域中的栅极线；以及

形成在所述基础基底中与所述栅极线不同的层上的第二输出线，其中所述第二输出线电连接到所述第二栅极驱动部分和所述栅极线，以传输由所述第二栅极驱动部分产生的栅极信号至所述栅极线；并且

其中所述像素部分通过所述栅极线和所述第二输出线电连接到所述第二栅极驱动部分。

10.如权利要求9的显示器基底，其中所述第二彩色滤光层形成在所述第二栅极驱动部分上。

11.如权利要求1的显示器基底，还包括形成在所述基础基底的所述周围区域中的短路棒，以防止向所述显示区域施加静电荷，其中所述短路棒形成在所述基础基底的源侧。

12.如权利要求11的显示器基底，其中所述第二彩色滤光器不形成在对应于所述短路棒的部分上。

13.如权利要求1的显示器基底，其中所述第一彩色滤光层朝向邻近所述基础基底的源侧的所述周围区域延伸，并朝向远离所述源侧的所述基础基底的相反侧延伸。

14.一种显示器基底，包括：

基底，所述基底被划分成显示区域和围绕所述显示区域的周围区域，其中图像显示在所述显示区域中；

形成在所述基底的显示区域中的薄膜晶体管；

形成在包括所述薄膜晶体管的基底上的第一彩色滤光层，其中所述第一彩色滤光层形成在所述显示区域中；

形成在所述基底的周围区域中的第二彩色滤光层；

形成在所述显示区域和所述周围区域中的有机层，以覆盖所述第一和第二彩色滤光层；以及

像素电极，所述像素电极形成在所述有机层上对应于所述第一彩色滤光层的区域中，其中所述像素电极电连接到所述薄膜晶体管上。

15.如权利要求14的显示器基底，其中所述第一彩色滤光层与所述第二彩色滤光层间隔开来。

16.如权利要求15的显示器基底，其中所述第二彩色滤光层包括杆形。

17.如权利要求16的显示器基底，其中所述第二彩色滤光层围绕着所述显示区域。

18.如权利要求17的显示器基底，其中所述第二彩色滤光层包括至少两个相互间隔开来的第二彩色滤光部分。

19.如权利要求14的显示器基底，其中所述第一彩色滤光层的端部从所述显示区域向所述周围区域延伸。

20.如权利要求19的显示器基底，其中所述第一彩色滤光层的所述延伸端部朝向所述周围区域的部分延伸，以对应于所述第二彩色滤光层，所述第二彩色滤光层形成在所述周围区域关于所述显示区域相对的侧上。

21.如权利要求14的显示器基底，其中所述第二彩色滤光层与所述第一彩色滤光层一体形成。

22.一种制造显示器基底的方法，包括：

在基础基底的显示区域中形成像素部分；

在包括所述像素部分的基础基底上形成彩色层；并

将所述彩色层图案化，以在所述显示区域中形成第一彩色滤光层，且在围绕所述显示区域的周围区域中形成第二彩色滤光层。

23.如权利要求22的方法，其中所述像素部分的形成还包括在所述基础基底的周围区域中形成第一栅极驱动部分，其中所述第一栅极驱动部分将栅极信号施加到所述像素部分上。

24.一种液晶显示装置，包括：

下基底，所述下基底包括：

第一基础基底，所述第一基础基底被划分成显示区域和围绕所述显

示区域的周围区域，其中图像显示在所述显示区域中；

第一彩色滤光层，所述第一彩色滤光层形成在所述第一基础基底的显示区域中；和

第二彩色滤光层，所述第二彩色滤光层形成在所述第一基础基底的周围区域中；

上基底，所述上基底包括第二基础基底和形成在所述第二基础基底上的公共电极；以及

液晶层，所述液晶层夹在所述上基底和所述下基底之间。

25.如权利要求24的液晶显示装置，其中所述下基底还包括：

形成在所述第一基础基底的显示区域中的公共电极线，其中所述公共电极线电连接到所述公共电极上；以及

第三输出线，所述第三输出线形成与所述公共电极线不同的层上，其中所述第三输出线电连接到所述公共电极线上。

26.如权利要求25的液晶显示装置，其中所述第二彩色滤光层没有形成在介于所述第三输出线与所述公共电极线之间的部分上。

27.如权利要求25的液晶显示装置，其中所述下基底还包括覆盖着所述第一和第二彩色滤光层的有机层。

Images