CN1708710A - 具有优先撕裂部分的可剥离缓冲层及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

紧密缓冲的光纤及其制造方法包括光纤及紧密缓冲层。紧密缓冲层具有通常包围光纤的预定壁厚及至少一通常沿紧密缓冲层的纵轴形成的优先撕裂部分。在一实施例中，紧密缓冲的光纤在约1550nm基准波长、约－40℃温度时具有约0.300dB/km或更小的衰减量，从而使得紧密缓冲的光纤适于室外环境。其它实施例可包括包围一个或多个光纤带的缓冲层。在其它实施例中，缓冲层可由具有约500％或更小的扯断伸长率的材料制成。

Description

具有优先撕裂部分的可剥离缓冲层及其制造方法
技术领域
本发明总体上涉及光波导电缆。具体地，本发明涉及具有带有优先撕裂部分的可剥离缓冲层的光波导电缆及其制造方法。
背景技术
图1示出了传统的带缓冲的光波导7。传统的带缓冲光波导7包括光纤1和缓冲层5。光纤1通常包括纤芯1a、覆层1b、和涂层1c。纤芯1a的折射率大于覆层1b的折射率，从而促进内部反射以便传输光学信号。在制造时，覆层1b通常被涂覆以一或多层涂层1c，如可UV固化的丙烯酸酯聚合体。这些组成的典型外径为：约10微米用于单模纤芯(或50-62.5微米用于多模纤芯)、125微米用于覆层、及250微米用于涂层，但也可使用其它尺寸。有利地是，光纤能够以相当低的光学衰减传输光学信号。但是，由于它们相当敏感的特性，当经受拉力、弯曲、或扭曲应力和/或应变时，光纤的光学衰减可能有相当高的增长。
因此，在光纤周围可包括缓冲层5，从而保护光纤免受应力和/或应变。缓冲层5通常具有约900微米的外径以保护光纤；然而，也可使用其它适当的尺寸。缓冲层5通常以相当热的液体形式挤压在光纤1上并在水槽中淬火。此外，根据光纤1和缓冲层5之间的结合程度，缓冲层5可以是或紧密的或松散的。然而，无论哪种情况，在进行光学连接到光纤之前，缓冲层5均要求从光纤剥离。终端用户对缓冲层5从光纤1剥离的可剥离性有一般要求，使得可容易地进行光学连接。例如，GR-409标准要求最小及最大力，以将预定长度如15mm的缓冲层5从光纤1上剥离下来。为满足这些要求，一些带缓冲的光纤使用润滑剂3，其用作涂层和缓冲层5之间的滑动层，从而增加可剥离性。当然，提供润滑剂也增加了制造复杂性并增加了制造成本。此外，有些应用还希望从光纤1剥离较长长度如50cm或更长的缓冲层5。为了避免损坏光纤1，剥离长长度的缓冲层5通常通过剥离几个较短长度的缓冲层5实现，直到希望长度的缓冲层5被从光纤1剥离。剥离几个较短长度是费力的且耗时的过程。
另外，由于环境性能问题，传统带缓冲的光波导通常仅适于在室内使用。这是因为，相当低的温度导致缓冲层5的收缩率实质上不同于光纤1的收缩率，从而传递应力和/或应变给光纤1，使得光学性能降级。
发明内容
本发明致力于紧密缓冲的光纤，其包括光纤和紧密缓冲层。紧密缓冲层具有通常包围光纤的预定壁厚及至少一通常沿紧密缓冲层的纵轴形成的优先撕裂部分。
本发明还致力于光波导电缆，其包括至少一光波导和缓冲层。缓冲层包围至少一光波导并包括至少一优先撕裂部分。缓冲层由具有约500％或更小的扯断伸长率的材料形成，使得在施加预定的撕力时缓冲层的至少一优先撕裂部分能够被撕开。
另外，本发明致力于紧密缓冲的光纤，其由光纤和紧密缓冲层组成。光纤包括纤芯、覆层和至少一涂层。紧密缓冲层具有至少一通常沿紧密缓冲层的纵轴形成的优先撕裂部分。紧密缓冲层与至少一光纤涂层至少部分接触。此外，紧密缓冲层由具有约300％或更小的扯断伸长率的材料形成，使得在施加预定撕力时缓冲层的至少一优先撕裂部分能够被撕开。
本发明还致力于光波导电缆，其具有至少一光波导及缓冲层。缓冲层通常包围至少一光波导并具有至少一通常沿缓冲层的纵轴形成的优先撕裂部分。至少一光波导在约-40℃温度时具有约0.300dB/km或更小的衰减量。
本发明还致力于制造带缓冲的光纤的方法。该方法包括步骤：使光波导松卷；将缓冲层挤压在光纤周围；及在缓冲层中形成至少一优先撕裂部分。
附图说明
图1为传统带缓冲光波导的截面图。
图2为根据本发明的紧密缓冲的光纤的立体图。
图3为图2的紧密缓冲的光纤沿线3-3的截面图。
图4为图1的现有技术带缓冲的光波导及图2的紧密缓冲的光纤在温度循环期间的衰减量示例图。
图5为根据本发明另一实施例的光波导电缆的截面图。
图6为根据本发明的另一实施例的立体图。
图7为根据本发明的另一实施例的截面图。
图8为根据本发明的另一实施例的截面图。
图9为根据本发明的另一实施例的截面图。
图10为根据本发明的另一实施例的截面图。
图11为用于制造本发明的实施例的示例性的生产线的示意图。
具体实施方式
图2和3示出了根据本发明的光波导电缆。更具体地，图2和3示出了紧密缓冲的光纤10，其包括光波导如光纤1，光波导具有紧密缓冲层15。然而，本发明的概念可使用松散缓冲的光纤实施。紧密缓冲层15具有预定的壁厚t且通常包围光纤1，从而保护光纤。根据本发明的一实施例，紧密缓冲层15具有至少一从紧密缓冲层15的外表面15c朝向内表面向内延伸的优先撕裂部分，且通常沿纵轴A-A递延，从而形成优先撕裂部分。在该实施例中，两个狭长切口17按分开约180度形成，从而在缓冲层15中产生优先撕裂部分。这些优先撕裂部分有利地允许技术人员开始部分15a、15b的分离，接着容易地抓住紧密缓冲层15的分开的部分15a、15b，并通过施加预定的撕力而继续进行部分15a、15b的分离。因而，技术人员可快速且容易地接近光纤1，且不会损坏光纤。此外，为了除去相当长长度如1米的紧密缓冲层15，紧密缓冲的光纤10并不要求润滑剂作为界面释放层。当然，本发明的实施例可包括润滑剂作为界面释放层，如基于Teflon或可UV固化的丙烯酸酯层，其用作缓冲层15和光纤1之间的滑动层。另外，本发明的带缓冲的光纤通常不包括强度元件，但可以使用强度元件。
紧密缓冲层15不应与缓冲管或电缆护套混淆。缓冲管通常包括布置在缓冲管内的一或多根光纤，光纤浮在阻水油脂即触变胶体中。此外，相比于其中的光纤的外径，缓冲管通常具有相当大的内径。此外，阻水油脂不应与界面释放层混淆。阻水油脂用于阻止水在缓冲管内移动并提供结合，而界面释放层用于改善从光纤剥离缓冲层的可剥离性。此外，缓冲层通常连接到光纤。
每一光纤1为具有基于硅石的纤芯1a的单模光纤，其可用于传输光并被基于硅石的覆层1b包围，覆层的折射率低于纤芯的折射率。另外，一或多个涂层1c可被施加到光纤1上，从而保护和/或识别光纤。例如，软的第一涂层包围覆层，相对较硬的第二涂层包围第一涂层。涂层还可包括识别手段如墨水或其它适于光纤的识别的标记。然而，涂层通常不包括在光纤的制造之后施加的润滑剂，该润滑剂意在改善通过传统剥离方法从光纤剥离紧密缓冲层的可剥离性。在该实施例中，紧密缓冲层15最好包围、且至少部分接触光纤1的至少一涂层1c。另外，其它适当的光波导也可被使用，如多模、造形光纤、掺铒的、保留偏振的、光子、特殊、或任何其它适当的光波导。
图4示出了图1的传统带缓冲的光波导7和图2及3的带缓冲的光纤10在1550nm基准波长时在温度循环期间单模光纤的衰减量dB/km。具体地，曲线40代表传统缓冲的光波导7，曲线42代表缓冲的光纤10。如在此所使用的，一般而言，衰减量为光纤性能损失的测量，其是由于在环境变化如自环境条件(约23℃)的温度变化期间光缆经受的应力和/或应变引起。衰减量通常不包括光波导、光纤连接器和/或接合中的插入损耗、固有衰减、及其它损耗，这些损耗通常在周围环境条件下测量。例如，光纤通常具有一定的衰减损耗，其由光纤中的固有特性引起，例如，光纤的散射或非理想性。同样，光纤连接器通常具有一定的插入损耗，其因配对光纤的纤芯未对准造成。为确定衰减量，来自光波导、光纤连接器和/或接合器的基线插入损耗在周围环境条件(即室温)下测量并从非环境条件下的插入损耗中减去。具体地，图4的温度循环根据Telcordia GR-409，Issuel进行，并在其基础上增加了-40℃、70℃、23℃循环。如图所示，在温度循环期间，本发明的带缓冲的光纤10具有令人惊奇的结果。具体地，在1550nm基准波长，缓冲的光纤10的衰减量在整个温度循环测试期间均低于0.050dB/km。例如，在0℃温度时，缓冲的光纤10的衰减量几乎为0。另一方面，如图所示，传统的带缓冲的光波导具有很高的衰减量。特别惊人的是在-40℃时，缓冲的光纤10的衰减量低于0.300dB/km。特别地，缓冲的光纤10在-40℃的衰减量为约0.050dB/km。将该光学性能与传统带缓冲的光波导7比较，传统光波导在-40℃具有接近0.600dB/km的衰减量，从而使其不适于室外应用。因而，本发明的低温光学性能使其有利地适于室外或其它低温应用。
光学性能和/或优先撕裂部分特征可被因素如几何形状和材料选择等影响。切口17具有相对于紧密缓冲层15的预定壁厚t的预定深度d，从而允许调整所要求的撕力以将缓冲层15分为部分15a、15b。例如，深度d最好在壁厚t的约10％到约90％之间，在壁厚t的约25％到约75％之间更好。当然，其它实施例可具有延伸穿过整个壁厚t的优先撕裂部分。同样，优先撕裂部分的宽度和/或形状可影响撕拉特征。优选地，切口17通常为V形；当然，其它适当的形状如U形也可用作优先撕裂部分。当然，所示出的优先撕裂部分的形状仅是示意性的表示，在放大情况下看到的实际形状可能稍微不规则。
经历温度循环的本发明的实施例具有切口17，其深度为缓冲层的厚度t的约40％。与类似尺寸的传统缓冲层5相比，切口17降低了缓冲层15的抗张强度(hoop strength)，因为本发明的环的半径被减少了切口17的深度d。此外，在淬火期间冷却时，切口17帮助“松弛”缓冲层15，从而降低光纤1上的应力和/或应变，且通常允许缓冲层15更一致的收缩。换言之，在淬火期间，缓冲层从外表面向内冷却。在冷却期间，外表面通过与冷却槽中的水接触而被“冷却”，接着缓冲层从外表面向内变硬。因而，在所有条件一样的情况下，在冷却过程期间，对于每单位长度较小的材料体积，切口17提供了更大的外表面面积。另外，切口17考虑了缓冲层15的收缩，而不是将应力和/或应变保留在具有同样厚度t的无切口缓冲层中。此外，更一致的收缩有助于在光纤和缓冲层之间提供相当一致的结合。
紧密缓冲层15最好由适当的聚合材料构成；当然，其它适当的材料如可辐射固化的材料也可被使用。例如，经历温度循环的本发明的紧密缓冲层具有约900微米的外径并由聚氯乙烯(PVC)形成，其可从麻萨诸塞州Leominster的AlphaGary Corporation在商品名GW2052 Special下获得。优选地，紧密缓冲层15的材料具有相当低的扯断伸长率，例如，使用ASTM-412时约500％或更小的扯断伸长率，约400％或更小则更好，最好为约300％或更小。在向分开的部分15a、15b施加预定的力时，相当低的扯断伸长率允许材料撕开，而不是伸展。当然，任何适当的材料或外径均可与本发明的概念一起使用。例如，紧密缓冲层15还可包括用于改善阻燃性的添加剂，为了其它目的，也可添加其它适当的添加剂。
另外，本发明的实施例可具有用于帮助工人定位优先撕裂部分的位置的记号标记。例如，在共挤过程中，部分15a可被挤压为第一颜色，部分15b可被挤压为第二颜色，从而在颜色转换处清楚地识别优先撕裂部分的位置。此外，颜色组合在识别缓冲的光纤时也是有用的。另外，优先撕裂部分可具有彩色条纹，其形成于切口17中或其附近。当然，也可使用其它方法来定位优先撕裂部分。例如，跨缓冲层磨损的标记可定位优先撕裂部分。在其它实施例中，拔出薄片或细丝被挤压在每一部分15a、15b中并延伸到缓冲层的表面外面，从而允许工人抓住并拔出薄片以撕开紧密缓冲层15(图5)。此外，紧密缓冲的光纤10可具有其它适当的组成或特征，如光纤1和紧密缓冲层15之间的界面释放层、遇水膨胀组成、或任何其它适当的组成或特征。
图5示出了采用本发明概念的光波导电缆50。光波导电缆50包括至少一光纤带51，光纤带51被缓冲层55包围，缓冲层55具有至少一优先撕裂部分如切口57。更具体地，光波导电缆包括具有两个切口57的光纤带堆52，两个切口按分开约180度进行布置。当然，光波导可被布置在其它结构如束或松散光纤中，同时也采用本发明的概念。此外，本发明的缓冲层可在适当位置包括任何适当数量的优先撕裂部分。
另外，本发明的优先撕裂部分可具有其它结构。例如，图6示出了采用本发明概念的紧密缓冲的光纤60。紧密缓冲的光纤60具有光纤1和紧密缓冲层65，其具有关于紧密缓冲层65大致对称安排的三个优先撕裂部分。在该实施例中，优先撕裂部分67延纵轴A-A断续地且螺旋形地布置。此外，所示出的优先撕裂部分67具有三种不同的形状，以说明本发明的概念。当然，其它结构的优先撕裂部分可具有断续的或螺旋形的特征，而不是同时具备二者。同样，其它适当的形状也可用于优先撕裂部分。断续的优先撕裂部分允许沿优先撕裂部分撕开预定的剥离长度，并阻止越过优先撕裂部分撕开到连续处。例如，如果缓冲的光纤的特别应用要求剥离50cm长的紧密缓冲层65，断续的切口67可以为约50cm长，从而在不需要测量的情况下有利地确保适当的剥离长度。此外，本发明的优先撕裂部分可具有其它结构。例如，优先撕裂部分可具有不同于放射状的结构，如优先撕裂部分偏离中心，从而允许撕开缓冲层的侧部。
图7示出了采用本发明概念的紧密缓冲的光纤70。光波导电缆70包括至少一由紧密缓冲层75包围的光波导1，紧密缓冲层具有至少一优先撕裂部分。在该实施例中，优先撕裂部分为两个切口77或空隙，其从紧密缓冲层75的内表面径向向外延伸到紧密缓冲层75的预定位置。由于通过视觉检查定位切口77比较困难，该实施例最好在缓冲层75的外表面上包括记号标记78，从而标记切口77的位置。另外，至少一拔出薄片79或细丝可被嵌入在紧密缓冲层75内以帮助工人接近光波导1。
图8示出了形成光波导电缆80的一部分的紧密缓冲的光纤10。光波导电缆80包括强度元件81如芳族聚酰胺或玻璃纤维，及包围强度元件的护套82。图9示出了双芯光缆形式的另一光波导电缆90。光波导电缆90具有第一分支92和第二分支94。每一分支92、94形成公共护套95的一部分。每一分支92、94包围紧密缓冲的光纤及强度元件91。图10示出了根据本发明的另一光波导电缆100。在该实施例中，在管102内布置有多根紧密缓冲的光纤10。另外，本发明的光波导电缆也可用作多芯软电缆的一部分。例如，多个光波导电缆80可关于中央强度元件绞合并在其周围挤压有护套。当然，多芯软电缆可包括其它组成如装订线、强度元件或开伞索。
根据本发明制造缓冲的光纤10的示例性生产线如图11中所示。光纤1在适当的张力下从开卷机112松卷。如果想要界面释放层，其可由涂布机114施加在光纤1上，其可如图所示那样在线完成，也可离线进行。接着，缓冲层15由十字头挤压机116进行施加，其具有适于在其中形成优先撕裂部分17的硬模，从而得到带缓冲的光纤10。在挤压后，水槽118冷却相当热的缓冲层15。在从水槽50出来后，带缓冲的光纤10通过一牵引设备118并被卷在卷带盘120上。
另外，其它方法也可用于制造根据本发明的带缓冲的光纤。例如，缓冲层可被挤压为具有统一的直径，接着，在淬火之前，缓冲层与刀口接触以在缓冲层中形成优先撕裂部分。此外，刀口可被加热或是凉的。另一方法是将冷却的带缓冲的光纤通过一连串加热的硬模以逐渐除去材料，直到得到想要的优先撕裂部分。形成优先撕裂部分的另一方法是通过使用激光。优选方法是在缓冲层冷却之前在缓冲层中形成优先撕裂部分，从而允许缓冲层的应力消除。
在所附权利要求的范围内，本发明的许多修改和其它实施例对于本领域技术人员而言将是显而易见的。例如，本发明的带缓冲的光纤适于与其它多芯软电缆、或合成电缆、结构一起使用。另外，尽管本发明的概念是结合紧密缓冲层进行描述，这些概念也可用松散缓冲的光纤实施。因此，应该理解的是，本发明并不限于在此公开的具体实施例，所进行的修改及其它实施例均在所附权利要求的范围之内。尽管在此使用了具体的术语，但它们仅以一般的及描述性的意义使用，并不用于限制的目的。本发明已参考基于硅石的光纤进行描述，但本发明的概念可应用于其它适当的光波导及其它光缆结构。

Claims (65)

1、紧密缓冲的光纤，包括：
光纤；及
紧密缓冲层，紧密缓冲层具有通常包围光纤的预定壁厚及至少一通常沿紧密缓冲层的纵轴形成的优先撕裂部分。
2、根据权利要求1所述的紧密缓冲的光纤，在约1550nm基准波长、约-40℃温度时，光纤具有约0.300dB/km或更小的衰减量。
3、根据权利要求1所述的紧密缓冲的光纤，在约1550nm基准波长、约-40℃温度时，光纤具有约0.050dB/km或更小的衰减量。
4、根据权利要求1所述的紧密缓冲的光纤，紧密缓冲层由具有约500％或更小的扯断伸长率的材料制成。
5、根据权利要求1所述的紧密缓冲的光纤，紧密缓冲层由具有约300％或更小的扯断伸长率的材料制成。
6、根据权利要求1所述的紧密缓冲的光纤，至少一优先撕裂部分具有预定的深度，预定的深度在预定壁厚的约10％到约90％之间。
7、根据权利要求1所述的紧密缓冲的光纤，紧密缓冲层具有两个优先撕裂部分，两个优先撕裂部分按分开约180度进行设置。
8、根据权利要求1所述的紧密缓冲的光纤，至少一优先撕裂部分沿纵轴断续地形成。
9、根据权利要求1所述的紧密缓冲的光纤，还包括用于定位优先撕裂部分的记号标记。
10、根据权利要求1所述的紧密缓冲的光纤，紧密缓冲层由两种不同颜色的材料形成。
11、根据权利要求1所述的紧密缓冲的光纤，至少一优先撕裂部分具有预定的深度，预定的深度在预定壁厚的约25％到约75％之间。
12、根据权利要求1所述的紧密缓冲的光纤，光纤上具有界面释放层。
13、根据权利要求1所述的紧密缓冲的光纤，优先撕裂部分朝向紧密缓冲层的内表面延伸。
14、根据权利要求1所述的紧密缓冲的光纤，优先撕裂部分朝向紧密缓冲层的外表面延伸。
15、根据权利要求1所述的紧密缓冲的光纤，紧密缓冲层具有多个优先撕裂部分，多个优先撕裂部分以约180度或更小的间隔隔开。
16、根据权利要求1所述的紧密缓冲的光纤，紧密缓冲的光纤是光波导电缆的一部分。
17、根据权利要求1所述的紧密缓冲的光纤，紧密缓冲的光纤是双芯电缆的一部分。
18、根据权利要求1所述的紧密缓冲的光纤，优先撕裂部分是狭长的切口。
19、根据权利要求1所述的紧密缓冲的光纤，光纤选自单模光纤和多模光纤的组。
20、根据权利要求1所述的紧密缓冲的光纤，缓冲层具有约900微米或更小的外径。
21、光波导电缆，包括：
至少一光波导；及
缓冲层，缓冲层包围至少一光波导并包括至少一优先撕裂部分，其中缓冲层由具有约500％或更小的扯断伸长率的材料形成，使得在施加预定的撕力时缓冲层的至少一优先撕裂部分能够被撕开。
22、根据权利要求21所述的光波导电缆，至少一光波导在约1550nm基准波长、约-40℃温度时具有约0.300dB/km或更小的衰减量。
23、根据权利要求21所述的光波导电缆，至少一光波导在约1550nm基准波长、约-40℃温度时具有约0.050dB/km或更小的衰减量。
24、根据权利要求21所述的光波导电缆，至少一光波导是光纤带的一部分。
25、根据权利要求21所述的光波导电缆，缓冲层由具有约300％或更小的扯断伸长率的材料制成。
26、根据权利要求21所述的光波导电缆，至少一优先撕裂部分具有预定的深度，预定的深度在缓冲层的预定壁厚的约10％到约90％之间。
27、根据权利要求21所述的光波导电缆，缓冲层具有两个优先撕裂部分，优先撕裂部分按分开约180度进行设置。
28、根据权利要求21所述的光波导电缆，至少一优先撕裂部分沿纵轴断续地形成。
29、根据权利要求21所述的光波导电缆，还包括用于定位优先撕裂部分的记号标记。
30、根据权利要求21所述的光波导电缆，缓冲层由两种不同颜色的材料形成。
31、根据权利要求21所述的光波导电缆，至少一优先撕裂部分具有预定的深度，预定的深度在缓冲层的预定壁厚的约10％到约90％之间。
32、根据权利要求21所述的光波导电缆，至少一光波导在其上具有界面释放层。
33、根据权利要求21所述的光波导电缆，优先撕裂部分朝向缓冲层的内表面延伸。
34、根据权利要求21所述的光波导电缆，优先撕裂部分朝向缓冲层的外表面延伸。
35、根据权利要求21所述的光波导电缆，至少一光波导选自单模光纤和多模光纤的组。
36、根据权利要求21所述的光波导电缆，缓冲层具有约900微米或更小的外径。
37、紧密缓冲的光纤，包括：
光纤，光纤具有纤芯、覆层和至少一涂层；及
紧密缓冲层，紧密缓冲层具有至少一通常沿紧密缓冲层的纵轴形成的优先撕裂部分，其中紧密缓冲层与至少一涂层至少部分接触，紧密缓冲层由具有约300％或更小的扯断伸长率的材料形成，使得在施加预定撕力时缓冲层的至少一优先撕裂部分能够被撕开。
38、光波导电缆，包括：
至少一光波导；及
缓冲层，缓冲层通常包围至少一光波导并具有至少一通常沿缓冲层的纵轴形成的优先撕裂部分，其中至少一光波导在约1550nm基准波长、约-40℃温度时具有约0.300dB/km或更小的衰减量。
39、根据权利要求38所述的光波导电缆，至少一光波导在约1550nm基准波长、约-40℃温度时具有约0.050dB/km或更小的衰减量。
40、根据权利要求38所述的光波导电缆，至少一光波导是光纤带的一部分。
41、根据权利要求38所述的光波导电缆，缓冲层由具有约500％或更小的扯断伸长率的材料制成。
42、根据权利要求38所述的光波导电缆，至少一优先撕裂部分具有预定的深度，预定的深度在缓冲层的预定壁厚的约10％到约90％之间。
43、根据权利要求38所述的光波导电缆，缓冲层具有两个优先撕裂部分，优先撕裂部分按分开约180度进行设置。
44、根据权利要求38所述的光波导电缆，至少一优先撕裂部分沿纵轴断续地形成。
45、根据权利要求38所述的光波导电缆，还包括用于定位优先撕裂部分的记号标记。
46、根据权利要求38所述的光波导电缆，缓冲层由两种不同颜色的材料形成。
47、根据权利要求38所述的光波导电缆，至少一优先撕裂部分具有预定的深度，预定的深度在缓冲层的预定壁厚的约25％到约75％之间。
48、根据权利要求38所述的光波导电缆，至少一光波导在其上具有界面释放层。
49、根据权利要求38所述的光波导电缆，优先撕裂部分朝向缓冲层的内表面延伸。
50、根据权利要求38所述的光波导电缆，优先撕裂部分朝向缓冲层的外表面延伸。
51、根据权利要求38所述的光波导电缆，至少一光波导选自单模光纤和多模光纤的组。
52、根据权利要求38所述的光波导电缆，缓冲层具有约900微米或更小的外径。
53、制造带缓冲的光纤的方法，该方法包括步骤：
使光波导松卷；
将缓冲层挤压在光纤周围；及
在缓冲层中形成至少一优先撕裂部分。
54、根据权利要求53所述的方法，至少一优先撕裂部分通过挤压缓冲层而形成。
55、根据权利要求53所述的方法，至少一优先撕裂部分在挤压缓冲层之后形成。
56、根据权利要求53所述的方法，缓冲层由具有约500％或更小的扯断伸长率的材料制成。
57、根据权利要求53所述的方法，带缓冲的光纤是紧密缓冲的光纤。
58、根据权利要求53所述的方法，其中光波导在约1550nm基准波长、约-40℃温度时具有约0.300dB/km或更小的衰减量。
59、根据权利要求53所述的方法，其中光波导在约1550nm基准波长、约-40℃温度时具有约0.050dB/km或更小的衰减量。
60、根据权利要求53所述的方法，缓冲层由具有约300％或更小的扯断伸长率的材料制成。
61、根据权利要求53所述的方法，至少一优先撕裂部分具有预定的深度，预定的深度在缓冲层的预定壁厚的约10％到约90％之间。
62、根据权利要求53所述的方法，缓冲层具有两个优先撕裂部分，两个优先撕裂部分按分开约180度进行设置。
63、根据权利要求53所述的方法，还包括在光波导上形成界面释放层的步骤。
64、根据权利要求53所述的方法，光波导选自单模光纤和多模光纤的组。
65、根据权利要求53所述的方法，挤压步骤形成具有约900微米或更小的外径的缓冲层。
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