CN1707357A - 热显影感光材料和图像形成方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种形成热显影感光材料及使用该热显影感光材料的图像形成方法，该热显影感光材料包括在载体的至少一个面上，至少包含光敏卤化银、非光敏有机银盐、还原剂和粘合剂的图像形成层，并且被用荧光增强屏X射线曝光，其中(1)光敏卤化银包括平均纵横比为2至100和平均当量球直径为0.3μm至10μm的片状颗粒，(2)对于用单色光曝光所述的热显影感光材料和热显影所述的热显影感光材料后得到灰雾+0.5的图像密度所必须的曝光值为1×10－6瓦secm－2至1×10－3瓦secm－2，所述的单色光具有与荧光增强屏的主发射峰波长相同的波长和15nm±5nm的半宽度，和(3)热显影后热显影感光材料的混浊度低于热显影前的80％。

Description

热显影感光材料和图像形成方法
技术领域
本发明涉及一种热显影感光材料(photothermographic material)和图像形成方法。更具体而言，本发明涉及一种具有高敏感度和优选灰度的高图像质量热显影感光材料和使用该材料的图像形成方法。
背景技术
近年来，在医学和制图领域，考虑到环境保护和节约的空间，对于提供干法照相法的需求非常强烈。此外，在这些领域的数字化发展导致，这样的系统的快速发展，在该系统中，获得图像信息和储存在计算机中，然后必要是时加工，并且通过将其传送到需要的地方而输出。此处，在光敏材料上用激光图像定位器或激光成像器输出图像信息，并且显影，以在所述的位置处形成图像。对于光敏材料必须的是，可以用高强度的激光曝光而记录图像，以及可以形成具有高分辨率和锐度(sharpness)的清楚黑色色调图像。虽然各种各样类型的使用颜料和染料的硬拷贝系统，例如喷墨打印机或电子照相系统，已经作为使用这种数字图像记录材料的通用图像形成系统出售，但是，在进行诊断中使用的医学图像所需要的的图像质量(锐度、粒度、灰度和色调)和高记录速度(敏感度)方面，通过这种通用图像形成系统得到的数字图像记录材料上的图像是不够的。这些种类的数字图像记录材料没有达到它们能够取代用常规湿法显影加工的医用卤化银薄膜的水平。
使用有机银盐的热显影感光材料已经为人们所熟知。热显影感光材料具有图像形成层，其中可还原银盐(例如，有机银盐)、光敏卤化银和必要时的用于控制显影银图像色调的调色剂分散在粘合剂中。
热显影感光材料通过成影像曝光后，加热到高温(例如，80℃或以上)，以引起卤化银或可还原银盐(用作氧化剂)与还原剂之间的氧化-还原反应，来形成黑色银图像。由通过曝光产生的卤化银上的潜像的催化作用，促进了氧化/还原反应。结果，在曝光区域上形成了黑色银图像。热显影感光材料描述于“Thermally Processed Silver Systems”，发表在“Imaging Processesand Materials”，Neblette，第8版，由J.M.Sturge，V.Warlworth和A.Shepp编辑，第8章，第279至291页，1989中，并且Fuji Medical Dry ImagerFM-DPLj是已经可以商购的医学图像形成系统的实例。
由于这种使用有机银盐的图像形成系统没有定影步骤，所以未显影的卤化银在热显影后仍然保留在薄膜内。因此，在这种系统中实质上遇到了两个严重的问题。
问题之一涉及热显影处理后的图像储存性(instorability)，特别是当材料曝光时由于打印输出导致的成雾。作为改善打印输出的手段，使用碘化银的方法是已知的。与溴化银或碘化银含量为5mol％或以下的溴碘化银相比，碘化银具有引起更少打印输出的特性，且具有基本上解决这个问题的潜力。但是，目前已知碘化银颗粒的敏感度极低，且碘化银颗粒没有达到可以用于实际系统中的敏感度水平。当为提高敏感度而进行防止光电子和空穴重新结合的措施时，一个固有问题是将失去优异的打印特性。
作为提高碘化银的照相乳剂的敏感度的手段，该文献公开了加入卤素受体如亚硝酸钠、连苯三酚和氢醌，在硝酸银的水溶液浸渍中，或通过在7.5的pAg下硫敏化等，来提高其敏感度。但是，这些卤素受体的敏化效果非常小，且对于在热显影感光材料中使用是极不够的。
另一个问题是，由于残留卤化银导致的光散射可能引起模糊(cloudiness)，由此薄膜趋向于变得半透明或不透明，且降低了图像质量。为了解决这个问题，已经实际采用了这样的手段，其中使光敏卤化银颗粒的颗粒大小细小(达到0.08μm至0.15μm的实际使用的范围)，并且尽量减少加入量，以抑制由于卤化银引起的模糊。但是，这种折衷的方法导致敏感度被进一步降低，没有彻底解决模糊的问题，并且薄膜中混浊的云斑继续保留且产生混浊。
在常规湿法显影方法的情况下，显影过程后，通过用含有卤化银溶剂的定影液处理，来将残留的卤化银除去。至于卤化银溶剂，已知的是能够与银离子形成配位化合物的许多种有机和无机化合物。
即使在干法热显影方法的情况下，人们也已经进行了在材料中引入类似定影手段的许多尝试。例如，建议了这样一种方法，其中将可以与银离子形成配位化合物的化合物结合在薄膜层中，并且通过热显影而使卤化银增溶(通常称为定影)。但是，该建议仅使用溴化银或氯溴化银，且该方法还要求另外用于定影的热处理步骤，并且加热条件要求在155℃至160℃范围内的高温。因此，该系统是一种难以实现定影的系统。在另一个建议中，制备一种包括能与银离子形成配位化合物的化合物的单独薄片(称为定影薄片)，且在热显影热显影感光材料形成图像后，将定影薄片覆盖在显影后的热显影感光材料上，进行加热，并且溶解和除去残留的卤化银。但是，因为该建议需要两种薄片，考虑到实际，障碍在于处理步骤复杂，并难于保证操作稳定性，并且在于处理后定影薄片必须丢弃，导致废物的产生。
作为热显影中可以使用的另一种定影方法，提出了这样一种方法，其中将用于卤化银的定影剂封装在微胶囊中，并且热显影释放定影剂并且使用它产生作用。但是，难于实现有效释放定影剂的设计。还提出了在热显影后用定影液定影的方法，但是它需要湿法工艺，因此对于完全的干法工工艺是不适宜的。
如上所述，已知的用于改善薄膜的浊度的方法存在负作用，且在它们的实际应用中存在实质性困难。
另一方面，还在将前述的热显影感光材料用作照相用的光敏材料上进行了尝试。在此使用的术语“照相用的光敏材料”是指这样一种光敏材料，通过镜头一次性曝光在所述光敏材料上记录图像，而不是通过激光束等进行扫描曝光而写入图像信息。常规地，照相用的光敏材料在湿法显影光敏材料领域通常是已知的，并且包括医用薄膜，例如作为直接或间接放射照相薄膜和乳房X线照相薄膜等，各种用于打印的光学机械薄膜、工业记录薄膜、用于普通照相机照相的薄膜等。例如，下面的材料是已知的：使用蓝色荧光增强屏在双面上包覆的X射线热显影感光材料；日本专利申请公开(JP-A)59-142539中描述的含有片状碘溴化银片状颗粒的热显影感光材料；和JP-A 10-282606中描述的含有片状颗粒的医用光敏材料，所述的片状颗粒具有高含量的碘化银且具有(100)主面，并且被涂布在载体的双面上。但是，根据这些所公开的实例，使用的是颗粒大小为0.1μm或以下的微粒卤化银颗粒，而且敏感度非常低。因此，难以得到用于照相中所需要的敏感度。另一方面，在使用颗粒大小为0.5μm或以上的卤化银颗粒的情况下，因为残留的卤化银可以提高混浊度，并且恶化打印输出，图像质量的恶化严重，且颗粒不适于实际使用。
低敏感度的问题已经是基本问题和重大障碍，因此在很大程度上不清楚实际使用中存在什么其它问题。
发明内容
发明概述
本发明的第一个方面是提供一种在形成图像的方法中使用的热显影感光材料，所述形成图像的方法包含用荧光增强屏进行X射线成影像地曝光和热显影，其中该热显影感光材料包含：在载体的至少一个面上，至少包含光敏卤化银、非光敏有机银盐、还原剂和粘合剂的图像形成层，其中
(1)光敏卤化银包含平均纵横比为2至100和平均当量球直径为0.3μm至10μm的片状颗粒，
(2)对于用单色光曝光所述的热显影感光材料和热显影所述的热显影感光材料后得到灰雾+0.5的图像密度所必须的曝光值为1×10-6瓦·sec·m-2至1×10-3瓦·sec·m-2，所述的单色光具有与荧光增强屏的主发射峰波长相同的波长和15nm±5nm的半宽度，和
(3)热显影后热显影感光材料的混浊度低于热显影前的80％。
本发明的第二个方面是提供一种图像形成方法，该方法包含：对根据第一方面的热显影感光材料进行成影像曝光，通过具有加热装置的热显影装置热显影所述的材料，其中其中所述图像形成方法包含：在热显影温度下加热所述热显影感光材料之前，在40℃至105℃的温度下预热所述材料0.1秒至90秒的时间。
附图说明
图1是说明根据本发明热显影装置的第一个实施方案的结构图。
图2所示为热显影感光材料的剖视图。
图3所示为分别通过第一和第二加热装置加热的热显影感光材料的正面和背面温度和时间之间相互关系的说明图。
图4所示为控制装置的方块图。
图5所示为具有圆筒和压辊的热显影装置的基本部分的结构图。
图6所示为具有支架、环形带和压辊的热显影装置的基本部分的结构图。
图7所示为具有多对第一和第二加热装置的热显影装置的基本部分的结构图。
图8显示荧光增强屏A的发射光谱。
发明详述
本发明的一个目的涉及一种具有高敏感度和高图像质量的热显影感光材料以及形成图像的方法，具体而言，本发明的一个目的在于提供一种提供具有优选灰度的图像的改善热显影感光材料以及使用该材料形成图像的方法。
以下将详细描述本发明。
1.热显影感光材料
使用荧光增强屏对本发明的热显影感光材料进行X射线曝光。
在本发明中，通过照相特性曲线表示照相性能。照相特性曲线是表示曝光量值即曝光能量的常用对数(log E)和光密度(D)即散射光照相密度之间的关系的D-log E曲线，是通过将前者绘制于横坐标轴而将后者绘制于纵坐标轴而得到的。在本发明中，用单色光曝光热显影感光材料，所述的单色光具有与荧光增强屏的主发射峰波长相同的波长和15nm±5nm的半宽度，
在本发明中，敏感度表示为得到热显影后的图像密度为灰雾+0.5所必须的曝光值。将测量敏感度的图像是一种在载体的曝光面上形成的图像。在根据本发明的双面型热显影感光材料的情况下，在去除安置在从曝光面背面上的图像形成层后，进行测量。
根据本发明的热显影感光材料的敏感度为1×10-6瓦·sec·m-2至1×10-3瓦·sec·m-2，优选为6×10-6瓦·sec·m-2至6×10-4瓦·sec·m-2，更优选为1×10-5瓦·sec·m-2至4×10-4瓦·sec·m-2。
本发明的灰度表示为在照相特性曲线上连接灰雾+(0.25的图像密度)和灰雾+(2.0的图像密度)处的点的直线的斜率(即，当该直线和水平轴之间的角度为θ时，该值等于tanθ)。在本发明中，平均斜率优选为1.8至5.0，更优选为2.0至4.3。
本发明的热显影感光材料的特征在于，热显影后混浊度减少至低于热显影前的80％。优选地，热显影后的混浊度减少至低于热显影前的75％，更优选为低于70％。
本发明的热显影感光材料在载体的至少一个面上具有图像形成层，所述的图像形成层至少包含光敏卤化银、非光敏有机银盐、还原剂和粘合剂。图像形成层可以安置在载体的一个面上，或可以安置在载体的两个面上。此外，图像形成层可以在其上安置中间层或表面保护层，或可以在图像形成层的背面上安置背面层、背面保护层等。
本发明的热显影感光材料可以包含成核剂。
优选本发明的热显影感光材料包含铵离子(在本文中经常简称为NH4 +)，其量每个面为1mmol/m2或以下，更优选为0.3mmol/m2或以下。
在本发明的热显影感光材料中，不优选在薄膜中存在挥发性碱例如氨水，因为它们容易在涂布和热显影的过程中，甚至在储存期间挥发。使用由Tosoh Corporation制备的离子色谱装置Type 8000(基于电导率法)、TosohCorporation制备的TSK gel IC-Cation作为分离柱和Tosoh Corporation制备的TSK guard column IC-C作为保护柱，可以进行薄膜中的NH4 +的定量化。在1.2mL/min的流速下，使用2mM硝酸水溶液作为洗脱液进行测量。柱子的恒温器的温度设置为40℃。
使用乙酸∶离子交换水(1∶148)的混和溶液作为萃取液，通过在5mL的萃取液中浸渍尺寸为1cm×3.5cm的样品2小时，进行从热显影感光材料中萃取NH4 +。萃取后，使用孔径为0.45μm的过滤器过滤萃取物，然后测量得到的溶液。
以下将详细解释这些层的构成和优选组分。
(光敏卤化银)
本发明的光敏卤化银中的颗粒是平均纵横比为2至100和平均当量球直径为0.3μm至10μm的片状颗粒。
优选光敏卤化银的平均碘化银含量为40mol％或以上，更优选为80mol％或以上，再优选为90mol％或以上。
1)卤素组合物
对于本发明中使用的光敏卤化银，不特别限制卤素组合物，并且可以使用氯化银、氯溴化银、溴化银、碘溴化银、碘氯溴化银和碘化银。在这些当中，优选溴化银、碘溴化银和碘化银。
优选本发明的光敏卤化银的平均碘化银含量为40mol％或以上，更优选为80mol％或以上，最优选为90mol％或以上。
对其它组分不特别限制，可以选自：卤化银如氯化银和溴化银等，和有机银盐如硫氰酸银和磷酸银等。
卤素组合物在颗粒内的分布可以是均匀的，或者可以逐步改变卤素组合物，或连续改变它。另外，可以优选使用具有核/壳结构的卤化银颗粒。优选的结构是双重至五重结构，且更优选地，可以使用具有双重至四重结构的核/壳颗粒。还可以优选使用在核部分碘化银含量高的核碘化银高的结构，和在壳部分碘化银含量高的壳碘化银高的结构。此外，还可以优选使用将溴化银或碘化银局限于颗粒表面作为形成外延部分的技术。
本发明的具有高碘化银含量的卤化银可以采用任何含量的β相或γ相。上面描述的术语“β相”是指具有六角体系的纤锌矿结构的高碘化银结构，“γ相”是指具有立方晶体系的闪锌矿结构的高碘化银结构。本发明中的γ相含量通过C.R.Berry提供的方法测定。在该方法中，从粉末X射线衍射方法中归于γ相(111)的强度与归于β相(100)，(101)和(002)的强度的峰值比率，来计算γ相含量。详细说明例如描述于Physical Review，Volume 161，3，第848至851页(1967)。
2)颗粒大小
至于本发明中使用的光敏卤化银颗粒，可以选择任何足以达到需要高敏感度的颗粒大小。在本发明中，片状卤化银的平均当量球直径为0.3μm至10.0μm，优选为0.35μm至7.0μm，更优选为0.4μm至5.0μm。这里使用的术语“当量球直径”是指具有与一卤化银颗粒体积相同体积的球的直径。至于测量方法，从通过电子显微镜观察到单个颗粒的投射面积和厚度，来计算颗粒体积，其后，通过将该体积转化为具有与所得到的体积等量的体积的球，来确定当量球直径。
3)涂布量
在本发明中，优选卤化银的涂布量每面为0.04g/m2至0.4g/m2，更优选为0.1g/m2至0.3g/m2。
通常，在其中卤化银颗粒在热显影后仍然保留在层中的热显影感光材料的情况下，卤化银颗粒的涂布量的增加可以导致薄膜透明度下降和图像质量退化。因此，尽管需要增加敏感度，但卤化银的涂布量被限制在一个低的水平。但是，在本发明的情况下，通过热显影方法可以减少薄膜的混浊度，因此可以在材料上涂布更多的卤化银颗粒。
在本发明的实际应用中，基于1mol在非光敏有机银盐中包含的银，卤化银的涂布量优选为0.5mol％至100mol％，更优选为5mol％至50mol％。
4)颗粒形成的方法
形成光敏卤化银的方法在相关领域是公知的，例如，可以使用在Research Disclosure，17029，1978年6月和USP 3700458中描述的方法。具体而言，使用通过如下制备光敏卤化银的方法：将供银化合物和供卤素化合物加入到明胶或其它聚合物溶液中，然后将它们和有机银盐混合。此外，还优选使用JP-A 11-119374(第0217至0224段)中所述的方法，以及JP-A11-352627和2000-347335中描述的方法。
至于形成碘化银片状颗粒的方法，优选使用在JP-A 59-119350和59-119344中描述的方法。
5)颗粒形状
根据本发明的片状卤化银的颗粒形状可以通过本领域公知的纵横比来表示。根据本发明的片状卤化银颗粒的平均纵横比为2至100，更优选为5至80，再更优选为8至50。
根据本发明的片状卤化银颗粒的平均颗粒厚度优选0.3μm或以下，更优选为0.2μm或以下，再更优选为0.15μm或以下。
本发明具有高碘化银含量的卤化银可以采用复杂的形状，且作为优选的形状，列出的是例如，如在R.L.JENKINS等，J.of Phot.Sci.，vol.28(1980)，p164，图1中所示的连接颗粒。还可以优选使用如同一文献的图1中所示的片状颗粒。还可以优选使用使角部变圆的卤化银颗粒。不特别限制光敏卤化银颗粒的外表面的表面指数(米勒指数)，且优选[100]面占的比率大，因为当吸附光谱敏化染料时具有高的光谱敏化效率。优选该比率为50％或以上，更优选为65％或以上，再优选为80％或以上。[100]面的比率：米勒指数可以通过在T.Tani；J.Imaging Sci，29，165(1985)中描述的方法来确定，该方法利用在每化染料的吸附时[111]面和[100]面的吸附依赖性。
6)重金属
本发明的光敏卤化银颗粒可以包含属于周期表(具有第1至18族)的第3至14族的金属或金属配位化合物。优选地，光敏卤化银颗粒可以包括属于周期表第6至10族的金属或金属配位化合物。来自周期表第6至10族的金属或金属配位化合物的中心金属优选为铁、铑、钌或铱。这些金属配位化合物可以单独使用，或者可以一起使用包含相同或不同种类金属的两种或多种配位化合物。其含量优选为1×10-9至1×10-3mol/mol银。重金属、金属配位化合物以及其添加方法描述于在JP-A 7-225449，11-65021的第0018至0024段，和JP-A 11-119374的第0227至0240段中。
在本发明中，优选包含在颗粒的最外表面上存在的六氰化金属配位化合物的卤化银颗粒。六氰化金属配位化合物包括例如[Fe(CN)6]4-、[Fe(CN)6]3-、[Ru(CN)6]4-、[Os(CN)6]4-、[Co(CN6)]3-、[Rh(CN)6]3-、[Ir(CN)6]3-、[Cr(CN)6]3-和[Re(CN)6]3-。在本发明中，优选六氰化Fe配位化合物。
因为六氰化金属配位化合物在水溶液中以离子形式存在，配对阳离子不重要，且优选使用碱金属离子例如钠离子、钾离子、铷离子、铯离子和锂离子，铵离子和烷基铵离子(例如，四甲基铵离子、四乙基铵离子、四丙基铵离子和四(正丁基)铵离子)，其容易与水混溶，且适宜于卤化银乳剂的沉积操作。
六氰化金属配位化合物可以通过在与水，以及水和适宜的与水混溶的有机溶剂(例如醇、醚、二元醇、酮、酯、酰胺等)的混合溶剂或明胶混合的同时而加入。
在每种情况下，基于1mol银，六氰化金属配位化合物的加入量优选为1×10-5mol至1×10-2mol，更优选1×10-4至1×10-3mol。
为了使六氰化金属配位化合物存在于卤化银颗粒的最外表面，六氰化金属配位化合物在以下任何阶段直接加入：在加入用于颗粒成形的硝酸银水溶液完成之后，在硫族元素敏化如硫敏化、硒敏化和碲敏化或贵金属敏化如金敏化的化学敏化步骤之前的乳剂形成步骤完成之前，在水洗步骤期间，在分散步骤期间或化学敏化步骤之前。为了不生长卤化银微粒，优选在颗粒形成后迅速加入六氰化金属配位化合物，和优选在乳剂形成步骤完成之前将其加入。
在用于颗粒形成中加入全部量的硝酸银的96重量％后，开始加入六氰化金属配位化合物，更优选加入98重量％后，开始加入，特别优选加入99重量％后，开始加入。
当刚好在颗粒形成完成之前、硝酸银水溶液加入之后，加入任何六氰化金属配位化合物时，它可以被吸收到卤化银颗粒的最外表面，且它们中的大多数与颗粒表面的银离子形成不溶性盐。因为六氰化铁(II)的银盐是比AgI更不溶的盐，因此可以防止微粒的再溶解，并且可以制备具有更小颗粒大小的卤化银微粒。
本发明中使用的卤化银颗粒中可以含有的金属原子(例如，[Fe(CN)6]4-)，卤化银乳剂的脱盐方法和化学敏化方法描述于JP-A 11-84574的第0046至0050段，JP-A 11-65021的第0025至0031和JP-A 11-119374的第0242至0250段。
7)明胶
至于包含于本发明中使用的光敏卤化银乳剂中的明胶，可以使用各种明胶。必须保持光敏卤化银乳剂在含有机银盐的涂布溶液中的优异分散状态，且优选使用分子量为500至60,000的低分子量明胶。这些低分子量明胶可以形成颗粒时或者在脱盐处理后分散时使用，且优选它在脱盐处理后分散时使用。
8)化学敏化
本发明中的光敏卤化银可以在没有化学敏化的条件下使用，但是优选由至少一种如下的方法进行化学敏化：硫属元素敏化方法，金敏化方法和还原敏化方法。硫属元素敏化方法包括硫敏化方法，硒敏化方法和碲敏化方法。
在硫敏化中，可以使用不稳定的硫化合物，这种不稳定的硫化合物描述于P.Grafkides所著的Chemie et Pysique Photographique(Paul Momtel，第五版，1987)和Research Disclosure(307卷，Item 307105)等中。至于硫化合物的典型实例，可以使用已知的硫化合物，如硫代硫酸盐(例如海波)，硫脲(例如二苯基硫脲，三乙基硫脲，N-乙基-N’-(4-甲基-2-噻唑基)硫脲，或羧甲基三甲基硫脲)，硫代酰胺(例如硫代乙酰胺)，绕丹宁(例如二乙基绕丹宁和5-亚苄基(benzylydene)-N-乙基绕丹宁)，硫化膦(例如三甲基硫化膦)，乙内酰硫脲，4-氧代-噁唑烷-2-硫酮；二硫化物或多硫化物(例如二硫化二吗啉，胱氨酸，蘑菇香精(1，2，3，5，6-五噻吩烷(pentathiepane))；连多硫酸盐和硫元素，以及活性明胶。特别优选硫代硫酸盐，硫脲和绕丹宁。
在硒敏化中，可以使用不稳定的硒化合物。这些不稳定的硒化合物描述于日本专利申请公开(JP-B)43-13489和44-15748、JP-A 4-25832、4-109340、4-271341、5-40324、5-11385、6-51415、6-175258、6-180478、6-208186、6-208184、6-317867、7-92599、7-98483和7-140579等中。
至于硒敏化剂的典型实例，可以使用胶态金属硒化物；硒脲(例如N，N-二甲基硒脲，三氟甲基羰基-三甲基硒脲，或乙酰基三甲基硒脲)，硒代酰胺(例如硒代酰胺或N，N-二乙基苯基硒代酰胺)，硒化膦(例如三苯基硒化膦，五氟苯基-三苯基硒化膦)，硒代磷酸盐(例如三-对甲苯基硒代磷酸盐，或三-正丁基硒代磷酸盐)，硒代酮(例如硒代二苯甲酮)，异硒代氰酸盐，硒代羧酸，硒酯，二酰基硒化物等。此外，也可以使用在JP-B 46-4553和52-34492中描述的非不稳定的硒化合物，例如亚硒酸，硒代氰酸盐，硒唑和硒化物。特别优选硒化膦，硒脲和硒代氰酸盐。
在碲敏化中，使用不稳定的碲化合物，可以将描述于JP-A 4-224595、4-271341、4-333043、5-303157、6-27573、6-175258、6-180478、6-208186、6-208184、6-317867、7-140579、7-301879和7-301880等中的不稳定的碲化合物，用作碲敏化剂。
至于碲敏化剂的典型实例，可以使用碲化膦(例如丁基-二异丙基碲化膦，三丁基碲化膦，三丁氧基碲化膦或乙氧基-二苯基碲化膦)，二酰基(二)碲化物(例如双(二苯基氨基甲酰基)二碲化物，双(N-苯基-N-甲基氨基甲酰基)二碲化物，双(N-苯基-N-甲基氨基甲酰基)碲化物，双(N-苯基N-苄基氨基甲酰基)碲化物，双-(乙氧基羰基)碲化物)，碲脲(例如N，N’-二甲基亚乙基碲脲或N，N’-二苯基亚乙基碲脲)，碲代酰胺和碲酯。特别优选二酰基(二)碲化物和碲化膦。尤其优选在JP-A 11-65021的第0030段中描述的化合物和由JP-A5-313284中的式(II)，(III)或(IV)所表示的化合物。
具体地，至于硫属元素敏化，优选硒敏化和碲敏化，特别优选碲敏化。
在金敏化中，可以使用在P.Grafkides所著的Chemie et PysiquePhotographique(Paul Momtel，第五版，1987)和Research Disclosure(307卷，Item 307105)中描述的金敏化剂。具体而言，它们是氯金酸，氯金酸钾，硫氰金酸钾(potassium aurithiocyanate)，硫化金，硒化金等。除了这些之外，还可以使用描述于USP 2642361、5049484、5049485、5169751和5252455，比利时专利691857等的金化合物。还可以使用除了金以外的其它贵金属的盐，如铂、钯、铱等的盐，其描述于P.Grafkides所著的Chemie et PysiquePhotographique(Paul Momtel，第五版，1987)和Research Disclosure(307卷，Item 307105)。
可以独立使用金敏化，但优选与上面的硫属元素敏化结合使用。具体而言，这些敏化是金-硫敏化(金加硫敏化)，金-硒敏化，金-碲敏化，金-硫硒-敏化，金-硫-碲敏化，金-硒-碲敏化和金-硫-硒-碲敏化。
在本发明中，可以在任何时刻进行化学敏化，只要它是在颗粒形成之后和涂布之前，且它优选在脱盐之后，(1)光谱敏化前，(2)与光谱敏化同时，(3)在光谱敏化后，和(4)刚好在涂布前进行。
用于本发明的硫属元素敏化剂的加入量可以根据所用卤化银颗粒，化学熟化条件等而变化，且它优选为约10-8至10-1mol/mol卤化银，更优选约10-7至约10-2mol/mol卤化银。
类似地，用于本发明的金敏化剂的加入量可以根据各种条件而变化，并它优选为10-7至10-2mol/mol卤化银，更优选10-6至5×10-3mol/mol卤化银。不特别限制化学敏化条件，且适当地，pAg为8或以下，优选7.0或以下，更优选6.5或以下，特别优选6.0或以下，且pAg优选为1.5或以上，优选2.0或以上，特别优选2.5或以上；pH优选为3至10，更优选为4至9；且温度优选为20℃至95℃，更优选为25℃至80℃。
在本发明中，还原敏化还可以与硫属元素敏化或金敏化组合使用。特别优选与硫属元素敏化组合使用。
至于还原敏化用的具体化合物，抗坏血酸，二氧化硫脲或二甲胺硼烷是优选的，也优选使用氯化亚锡，氨基亚氨基甲烷亚磺酸，肼衍生物，硼烷化合物，硅烷化合物，多胺化合物等。还原敏化剂可以在光敏乳剂生产方法中从晶体生长至刚好涂布前的制备步骤的任何阶段加入。此外，优选将乳剂的pH保持在8或以上且将pAg保持在4或以下的同时通过熟化来进行还原敏化，并且还优选在颗粒形成期间通过引入单次加入部分银离子来进行还原敏化。
还原敏化剂的加入量根据各种条件而变化，且它通常为10-7mol至10-1mol/mol卤化银，更优选10-6至5×10-2mol/mol卤化银。
在本发明中使用的卤化银乳剂中，可以采用EP-A 293917中所述方法来加入硫代磺酸盐化合物。
为了设计高敏感度的热显影感光材料，优选通过金敏化方法和硫属元素敏化方法中的至少一种来对本发明中的光敏卤化银颗粒进行化学敏化。9)可以被单电子氧化生成释放一个电子或多个电子的单电子氧化产物的化合物
本发明的热显影感光材料优选包含可以被单电子氧化生成释放一个电子或多个电子的单电子氧化产物的化合物。该化合物可以独立使用，或者和上述各种化学敏化剂组合使用，以提高卤化银的敏感度。
至于由可以被单电子氧化生成释放一个电子或多个电子的单电子氧化产物的化合物，优选选自下面的第1组和2的化合物。
(第1组)
可以被单电子氧化提供单电子氧化产物的化合物，所述的氧化产物由于随后的键断裂反应而进一步释放一个电子或多个电子
(第2组)
可以被单电子氧化提供单电子氧化产物的化合物，所述的氧化产物由于随后的键形成反应而进一步释放一个电子或多个电子
下面描述将第1组的化合物。
在第1组的化合物中，至于可以被单电子氧化提供单电子氧化产物的化合物，所述的氧化产物由于随后的键断裂反应而进一步释放一个电子或多个电子，具体实例包括：称为“一光子二电子敏化剂”或“去质子化供电子敏化剂”的那些化合物，其描述于JP-A 9-211769(在第28至32页的表E和表F中描述的化合物PMT-1至S-37)；JP-A 9-211774；JP-A 11-95355(化合物INV 1至36)；JP-W 2001-500996(化合物1至74、80至87和92至122)；USP 5747235和5747236；EP 786692A1(化合物INV 1至35)；EP 893732 A1；USP 6054260和5994051等中。对于化合物的优选范围与引用的专利说明书中描述的优选范围相同。
在第1组的化合物中，至于可以被单电子氧化提供单电子氧化产物的化合物，所述的氧化产物由于随后的键断裂反应而进一步释放一个电子或多个电子，具体实例包括由下面的式表示的那些化合物：式(1)(与JP-A2003-114487中描述的式(1)相同)、式(2)(与JP-A 2003-114487中描述的式(2)相同)、式(3)(与JP-A 2003-114488中描述的式(1)相同)、式(4)(与JP-A2003-114488中描述的式(2)相同)、式(5)(与JP-A 2003-114488中描述的式(3)相同)、式(6)(与JP-A 2003-75950中描述的式(1)相同)、式(7)(与JP-A2003-75950中描述的式(2)相同)和式(8)，以及由式(9)表示的化合物，在这些化合物中可以进行由反应式(1)表示的化学反应。并且这些化合物的优选范围与引用的专利说明书中描述的优选范围相同。
式(1)                           式(2)
在式(1)和(2)中，RED1和RED2各自独立表示还原基团。R1表示非金属原子团，它可以与碳原子(C)和RED1一起形成对应于四氢衍生物或八氢衍生物的5元或6元芳族环(包括杂芳环)的环状结构，R2、R3和R4各自独立表示氢原子或取代基。Lv1和Lv2各自独立表示离去基团，ED表示给电子基团。
式(3)                           式(4)
式(5)
Figure A20051007800300195
在式(3)，(4)和(5)中，Z1表示能够与氮原子和苯环上的2个碳原子一起形成6元环的原子团，R5、R6、R7、R9、R10、R11、R13、R14、R15、R16、R17、R18和R19各自独立表示氢原子或取代基。R20表示氢原子或取代基，但是，在R20表示除芳基外的基团的情况下，R16和R17彼此连接形成芳族环或杂芳环，R8和R12表示能够取代苯环上的氢原子的取代基，m1表示0至3的整数，m2表示0至4的整数，Lv3、Lv4和Lv5各自独立表示离去基团。
式(6)                          式(7)
Figure A20051007800300201
在式(6)和(7)中，RED3和RED4各自独立表示还原基团，R21到R30各自独立表示氢原子或取代基。Z2表示选自-CR111R112-、-NR113-或-O-中的一种。R111和R112各自独立表示氢原子或取代基。R113表示选自氢原子、烷基、芳基或杂环基中的一种。
式(8)
在式(8)中，RED5是还原基且表示芳氨基或杂环氨基。R31表示氢原子或取代基。X表示选自烷氧基、芳氧基，杂环氧基，烷硫基，芳硫基，杂环硫基，烷氨基，芳氨基，或杂环氨基中的一种。Lv6是离去基团且表示羧基或其盐，或氢原子。
反应式(1)
Figure A20051007800300204
式(9)
由式(9)表示的化合物是这样一种化合物，其通过在两电子氧化，接着脱碳和进一步氧化后，进行由反应式(1)表示的成键反应。在反应式(1)中，R32和R33表示氢原子或取代基。Z3表示与C＝C形成5元或6元杂环的基团。Z4表示与C＝C形成5元或6元芳基或杂环基的基团。M表示选自自由基、自由基阳离子或阳离子中的一种。在式(9)中，R32、R33和Z3具有与反应式(1)中的那些相同的含义。Z5表示与C-C形成5元或6元环脂烃基或杂环基的基团。
接着，将描述第2组的化合物。
在第2组的化合物中，至于可以被单电子氧化提供单电子氧化产物的化合物，所述的氧化产物由于随后的键形成反应而进一步释放一个电子或多个电子，具体实例可以包括：由式(10)(与JP-A 2003-140287表示的式(1)相同)表示的化合物，和由式(11)表示的化合物，其可以进行由反应式(1)表示的反应。对于化合物的优选范围与引用的专利说明书中描述的优选范围相同。
式(10)
RED6-O-Y
在式(10)中，RED6表示可以被单电子氧化的还原基团。Y表示包括碳碳双键部分、碳-碳三键部分、芳基部分、或苯并-稠合的非杂芳环部分的反应基团，所述的基团是通过能够与由RED6单电子氧化而形成的单电子氧化产物反应，以形成新键。Q表示连接RED6和Y的连接基团。
反应式(1)
Figure A20051007800300221
式(11)
由式(11)表示的化合物是一种被氧化而进行由反应式(1)表示的键形成反应的化合物。在反应式(1)中，R32和R33各自独立地表示氢原子或取代基。Z3表示与C＝C形成5元或6元杂环的基团。Z4表示与C＝C形成5元或6元芳基或杂环基的基团。Z5表示与C-C形成5元或6元脂环烃基或杂环基的基团。M表示选自自由基、自由基阳离子或阳离子中的一种。在式(11)中，R32、R33，Z3和Z4与反应式(1)中的那些含义相同。
在第1组或第2组的化合物中，优选的是“在分子中具有对卤化银具有吸附性的基团的化合物”或“在分子中具有光谱敏化染料部分结构的化合物”。对卤化银具有吸附性的代表性基团是JP-A 2003-156823第16页右栏第1行至第17页右栏第12行中描述的基团。光谱敏化染料的部分结构是在JP-A 2003-156823第17页右栏第34行到第18页左栏第6行中描述的结构。
至于第1组或第2组的化合物，更优选“分子中至少具有一个对卤化银具有吸附性的基团的化合物”，且进一步优选“在分子中具有两个或多个对卤化银具有吸附性的基团的化合物”。在单个分子中存在两个或多个吸附基团的情况下，吸附基团可以彼此相同或不同。
至于优选的吸附基团，描述了巯基取代的含氮杂环基(例如，2-巯基噻二唑基，3-巯基-1，2，4-三唑基，5-巯基四唑基，2-巯基-1，3，4-噁二唑基，2-巯基苯并噁唑基，2-巯基苯并噻唑基，1，5-二甲基-1，2，4-三唑鎓(triazorium)-3-硫醇盐基，等)或者是，具有作为结构能形成亚氨基银(＞NAg)的杂环部分的-NH-基的含氮杂环基(例如，苯并三唑基、苯并咪唑基、吲哚基，等)。特别优选5-巯基四唑基，3-巯基-1，2，4-三唑基和苯并三唑基，且最优选3-巯基-1，2，4-三唑基和5-巯基四唑基。
至于吸附基团，也特别优选分子中具有作为部分结构的两个或多个巯基的吸附基团。这里，巯基(-SH)在它是可互变异构的情况下，可以形成硫羰基。具有作为部分结构的两个或多个巯基的吸附基团(例如二巯基取代的含氮杂环基等)的优选实例可以包括2，4-二巯基嘧啶基，2，4-二甲基三嗪基和3，5-二巯基-1，2，4-三唑基。
此外，氮或磷的季盐结构也可以优选用作吸附基团。至于氮的季盐结构，可以使用铵(ammonio)基(三烷基铵基，二烷基芳基铵基，二烷基杂芳基铵基，烷基二芳基铵基，烷基二杂芳基铵基等)和含有季氮原子的含氮杂环基。至于磷的季盐结构，描述鏻基(三烷基鏻基，二烷基芳基鏻基，二烷基杂芳基鏻基，烷基二芳基鏻基，烷基二杂芳基鏻基，三芳基鏻基，三杂芳基鏻基等)。更优选使用氮的季盐结构，且进一步优选使用含有季氮原子的5-元或6-元芳族杂环基。特别优选使用吡啶并(pyrydinio)基、喹啉并(quinolinio)基和异喹啉并(isoquinolinio)基。含有季氮原子的含氮杂环基还可以含有任何取代基。
季盐的抗衡阴离子的实例可以包括例如卤素离子、羧酸根离子、磺酸根离子、硫酸根离子、高氯酸根离子、碳酸根离子、硝酸根离子、BF4 -，PF6 -、Ph4B-等。在分子中存在带负电荷的基团如羧基的情况下，可以与之形成内盐。至于分子外的抗衡阴离子，特别优选氯离子、溴离子或甲烷磺酸根离子。
具有氮或磷的季盐作为吸附基团的由第1组或第2组表示的化合物的优选结构由式(X)表示：
式(X)
(P-Q1-)i-R(-Q2-S)j
在式(X)中，P和R各自独立表示氮或磷的季盐结构，其不是敏化染料的部分结构。Q1和Q2各自独立表示连接基团，且典型地表示单键、亚烷基、亚芳基、杂环基、-O-、-S-、-NRN、-C(＝O)-、-SO2-、-SO-、-P(＝O)-或这些基团的组合。这里，RN表示选自氢原子、烷基、芳基或杂环基中的一种。S表示从第1组或第2组表示的化合物中去除一个原子后而得到的残基，i和j是1或更大的整数，且在i+j＝2至6的范围内选择。优选i是1至3且j为1至2的情况，更优选i是1或2和j为1的情况，特别优选i是1且j为1的情况。式(X)表示的化合物优选总共具有为10至100个碳原子，更优选10至70个碳原子，进一步优选为11至60个碳原子，特别优选为12至50个碳原子。
根据本发明的第1组或第2组表示的化合物的具体实例如下所示，但不是用来限制本发明的范围：
Figure A20051007800300251
Figure A20051007800300261
Figure A20051007800300281
Figure A20051007800300291
第1组或第2组的化合物可以在光敏卤化银乳剂制备处理中和在热显影感光材料生产过程中的任何时间使用。例如，该化合物可以在光敏卤化银颗粒形成步骤、在脱盐步骤、在化学敏化步骤、涂布之前等使用。该化合物可以在这些步骤中分多次加入。该化合物优选在光敏卤化银颗粒形成步骤之后和脱盐步骤之前；在化学敏化步骤(化学敏化刚开始到化学敏化刚完后立即)；或涂布之前加入。该化合物更优选在化学敏化步骤或涂布之前加入。
优选将根据本发明的第1组或第2组的化合物溶解于水、水溶性溶剂如甲醇和乙醇或它们的混合溶剂中。在将化合物溶解于水中且通过提高或降低溶剂的pH值来增加提高化合物的溶解度的情况下，可以提高或降低pH值，以溶解和加入化合物。
根据本发明的第1组或第2组的化合物优选用于图像形成层。可以将该化合物加入到表面保护层或中间层，以及图像形成层中，以在涂布步骤中扩散到图像形成层中。该化合物可以在敏化染料加入之前或之后加入。优选图像形成层中包含的每种化合物的量为1×10-9mol至5×10-2mol/mol卤化银，更优选1×10-8mol至2×10-3mol/mol卤化银。
10)含有吸附基团和还原基团的化合物
本发明的热显影感光材料优选包含分子中含有对卤化银具有吸附性的基团和还原基团的化合物。优选该化合物由下式(I)表示：
式(I)
A-(W)n-B
在式(I)中，A表示能够吸附卤化银的基团(下面称作吸附基团)；W表示二价连接基团；n表示0或1；且B表示还原基团。
在式(I)中，由A表示的吸附基团是直接吸附卤化银的基团或促进吸附卤化银的基团。至于典型实例，描述了巯基(或其盐)，硫羰基(-C(＝S)-)，氮原子，至少含一个选自氮原子、硫原子、硒原子或碲原子中的原子的杂环基，硫基，二硫基，阳离子基团，乙炔基等。
作为吸附基团的巯基是指巯基(及其盐)本身，同时更优选表示被至少一个巯基(或其盐)取代的杂环基，或芳基或烷基。这里，至于杂环基，描述了具有至少5元至7元单环或稠合的芳族或非杂族芳环基，例如咪唑环基，噻唑环基，噁唑环基，苯并咪唑环基，苯并噻唑环基，苯并噁唑环基，三唑环基，噻二唑环基，噁二唑环基，四唑环基，嘌呤环基，吡啶环基，喹啉环基，异喹啉环基，嘧啶环基团，三嗪环基等。还可以采用含季氮原子的杂环基，其中作为取代基的巯基可以离解以形成内消旋离子(mesoion)。当巯基形成盐时，该盐的抗衡离子可以是碱金属、碱土金属、重金属等的阳离子，例如Li+、Na+、K+、Mg2+、Ag+和Zn2+)；铵离子；含有季氮原子的杂环基；鏻离子；等。
此外，作为吸附基团的巯基可以通过互变异构成为硫羰基。
用作吸附基团的硫羰基还包括直链或环状硫代酰胺基，硫脲(thiouredide)基，硫代氨基甲酸酯基，和二硫代氨基甲酸酯基。作为吸附基团的、至少含一个选自氮原子、硫原子、硒原子或碲原子的原子的杂环基表示：含有作为杂环部分结构的能够形成亚氨基银(＞NAg)的-NH-基团的含氮杂环基，或含有作为杂环部分结构且能够通过配位键与银离子配位的“-S-”基，“-Se-”基，“-Te-”基，或“＝N-”基的杂环基。至于前一种杂环基的实例，描述了苯并三唑基，三唑基，吲唑基，吡唑基，四唑基，苯并咪唑基，咪唑基、嘌呤基等。至于后一种杂环基的实例，描述了噻吩基，噻唑基，噁唑基，苯并噻吩基(benzophthiophene)，苯并噻唑基，苯并噁唑基，噻二唑基，噁二唑基，三嗪基，硒唑基，苯并硒唑基，碲唑基，苯并碲唑基等。
作为吸附基团的硫基基或二硫基包含：所有含有作为部分结构的“-S-”或“-S-S-”的基团。
作为吸附基团的阳离子基团是指包含季氮原子的基团如含铵基，或包括季氮原子的含氮杂环基。至于含季氮原子的含氮杂环，描述了吡啶并(pyridinio)基、喹啉并基、异喹啉并基、咪唑并(imidazolio)基。
作为吸附基团的乙炔基是指-C≡CH基，且所述的氢原子可以被取代。
上述的吸附基团可以含任何取代基。
此外，至于吸附基团的典型实例，描述了在JP-A 11-95355的说明书第4至7页中所述的基团。
至于在式(I)中由A所示的吸附基团，优选巯基取代的杂环基(例如2-巯基噻二唑基，2-巯基-5-氨基噻二唑基，3-巯基-1，2，4-三唑基，5-巯基四唑基，2-巯基-1，3，4-噁二唑基，2-巯基苯并咪唑基，1，5-二甲基-1，2，4-三唑鎓-3-硫醇盐基，2，4-二巯基嘧啶基，2，4-二巯基三嗪基，3，5-二巯基-1，2，4-三唑基，2，5-二巯基-1，3-噻唑基等)，和具有作为杂环部分结构的能够形成亚氨基银(＞NAg)的-NH-基团的含氮原子的杂环基(例如苯并三唑基，苯并咪唑基和吲唑基等)，作为吸附基团更优选2-巯基苯并咪唑基和3，5-二巯基-1，2，4-三唑基。
在式(I)中，W表示二价连接基。所述的二价连接基团可以是任何二价连接基团，只要其对照相性能无不利影响即可。例如，可以使用包括碳原子，氢原子，氧原子，氮原子或硫原子的二价连接基。至于典型实例，描述了含1至20个碳原子的亚烷基(例如，亚甲基，1，2-亚乙基，三亚甲基，四亚甲基，六亚甲基等)，含2至20个碳原子的亚烯基，含2至20个碳原子的亚炔基，含6至20个碳原子的亚芳基(例如亚苯基、亚萘基等)，-CO-，-SO2-，-O-，-S-，-NR1-以及这些连接基团的组合。这里，R1表示氢原子，烷基，杂环基或芳基。
由W表示的连接基团可以含有任选取代基。
在式(I)中，由B表示的还原基团表示能够还原银离子的基团。至于实例，可以描述甲酰基，氨基，诸如乙炔基或丙炔基的三键基团，巯基，通过从下面的化合物去除一个氢原子而获得的残基：羟胺，异羟肟酸，羟基脲，羟基氨基甲酸酯，羟基氨基脲，还原酮类(包括还原酮衍生物)，苯胺，酚类(包括苯并二氢呋喃-6-醇，2，3-二氢苯并呋喃-5-醇，氨基苯酚，亚磺酰胺苯酚，和多酚如氢醌，儿茶酚，间苯二酚，苯三酚，和双酚)，酰肼，氨基甲酰肼，3-吡唑烷酮等。它们可以含有任何取代基。
式(I)中B表示的还原剂的氧化电势可以通过如下测量：使用在AkiraFujishima，“DENKIKAGAKU SOKUTEIHO”，第150至208页，GIHODOSHUPPAN，和The Chemical Society of Japan，“ZIKKEN KAGAKUKOZA”第4版，Vol.9，第282至344页，MARUZEN中描述的测量方法。例如，可以使用转盘伏安法的方法，即将样品溶解于溶液(甲醇∶pH 6.5的Britton-Robinson缓冲液＝10％∶90％(体积％))中，通氮气10分钟后，使用玻璃碳制成的转盘电极(RDE)作为工作电极，使用铂是极作为对电极，使用饱和甘汞电极作为参比电极，在1000转/分钟、20mV/s扫描速率、25℃的条件下可以测量伏安图。由所获得的伏安图，可以计算半波电势(E1/2)。
当本发明中由B表示的还原基团通过上述测量方法测量时，优选氧化电势为约-0.3V至约1.0V，更优选为约-0.1V至约0.8V，特别优选为约0V至约0.7V。
式(I)中，由B表示的还原基团优选是从以下化合物去除一个氢原子获得的残基：羟胺，异羟肟酸，羟基脲，羟基氨基脲，还原酮，酚，酰肼，氨基甲酰肼或3-吡唑烷酮。
本发明的式(1)的化合物可以具有通常用作非移动照相的添加剂如偶联剂的稳定基(ballasted group)或聚合物链。至于聚合物，可以选择例如在JP-A 1-100530中所述的聚合物。
本发明中的式(I)化合物可以是二型(bis)或三型(tris type)化合物。本发明中由式(I)表示的化合物的分子量优选为100至10000，更优选120至1000，且特别优选150至500。
本发明中由式(1)表示的化合物的实例如下所示，但本发明并不限于这些：
Figure A20051007800300331
此外，还描述了在EP 1308776A2的第73至87页所示的实例化合物1至30，1“-1至1”-77作为根据本发明具有吸附基团和还原基团的化合物的优选实例。
可以容易地通过任何已知的方法合成这些化合物。本发明中式(1)的化合物可以单独使用，但是优选两种或多种化合物组合使用。当组合使用两种或多种化合物的情况时，它们可以加入到同一层中或不同层中，由此加入方法可以各不相同。
本发明中由式(1)表示的化合物优选加入到图像形成层，且优选在制备乳剂的过程中加入。在将这些化合物在制备乳剂的过程中加入的情况下，这些化合物可以在该过程中的任何步骤加入。例如，该化合物可以在下面步骤的期间加入：卤化银颗粒形成步骤，开始脱盐步骤之前的步骤，脱盐步骤，开始化学熟化之前的步骤，化学熟化步骤，制备最终乳剂之前的步骤。该化合物可以在这些步骤期间分多次加入。优选加入至在图像形成层中。但是，该化合物可以加入到表面保护层或中间层，结合将其加入至图像形成层中，以在涂布步骤扩散至图像形成层中。
优选的加入量很大程度上依赖于上述的加入方法或该化合物的种类，但是对于每mol光敏卤化银而言，通常为1×10-6mol至1mol，优选为1×10-5mol至5×10-1mol，且更优选为1×10-4mol至1×10-1mol。
本发明中由式(1)表示的化合物可以通过溶解在水或水溶性溶剂如甲醇、乙醇等或它们的混合溶剂中而加入。此时，可以适当地用酸或碱控制pH，且表面活性剂可以共存。此外，这些化合物可以通过溶解在高沸点有机溶剂中作为乳液分散体加入，也可以作为固体分散体加入。
(在热显影后通过光敏卤化银基本上降低混浊度的化合物)
在本发明中，优选热显影感光材料包含这样一种化合物，其与热显影之前相比，热显影后通过光敏卤化银基本上降低了混浊度。
在本发明中，特别优选使用碘化银配位化合物形成剂作为热显影后通过光敏卤化银基本上降低混浊度的化合物。
<碘化银配位化合物形成剂>
至于根据本发明的碘化银配位化合物形成剂，化合物中至少一个氮原子或硫原子可以有利于给出电子到作为配位原子(电子给体：路易斯碱)的银离子上的路易斯酸碱反应。配位化合物的稳定性由连续稳定常数或总的稳定常数定义，但是它取决于银离子、碘离子和银配位化合物形成剂的组合。作为通用指导，大的稳定常数可以通过提高酸-碱离解常数等，由来自于分子内螯合环的螯合作用而获得。
在本发明中，可以通过商购的浊度仪(tubidimeter)或混浊度测量装置来测量光敏卤化银的混浊度。当源自添加到热显影感光材料的其它化合物的吸收与光敏卤化银的吸收重叠时，可以通过单独或组合使用不同光谱或通过溶剂去除其它化合物等方法，来观察光敏卤化银的混浊度。
至于根据本发明的碘化银配位化合物形成剂，优选为含至少一个氮原子的5至7元杂环化合物。在该化合物不含有作为取代基的巯基、硫基或硫羰基的情况下，所述的含氮5至7元杂环可以是饱和或不饱和的，且可以含有其它取代基。杂环上的取代基可以彼此连接形成环。
至于5至7元杂环化合物的优选实例，可以描述吡咯、吡啶、噁唑、异噁唑、噻唑、异噻唑、咪唑、吡唑、吡嗪、嘧啶、哒嗪、吲哚、异吲哚、中氮茚、喹啉、异喹啉、苯并咪唑、1H-咪唑、喹喔啉、喹唑啉、肉啉、2，3-二氮杂萘、1，5-二氮杂萘(naphthylizine)、嘌呤、喋啶、咔唑、吖啶、菲啶、菲咯啉、吩嗪、吩噁嗪、吩噻嗪、苯并噻唑、苯并噁唑、苯并咪唑、1，2，4-三嗪、1，3，5-三嗪、吡咯烷、咪唑烷、吡唑烷、哌啶、哌嗪、吗啉、二氢吲哚、异二氢吲哚等。更优选地，可以描述吡啶、咪唑、吡唑、吡啶、吡嗪、嘧啶、哒嗪、吲哚、异吲哚、中氮茚、喹啉、异喹啉、苯并咪唑、1H-咪唑、喹喔啉、喹唑啉、肉啉、2，3-二氮杂萘、1，8-二氮杂萘，1，10-菲咯啉、苯并三唑、1，2，4-三嗪、1，3，5-三嗪等。特别优选地，可以描述吡啶、咪唑、吡嗪、嘧啶、哒嗪、2，3-二氮杂萘、三嗪、1，8-二氮杂萘、1，10-菲咯啉等。
这些环可以含有取代基，且可以使用任何取代基，只要取代基对照相性能没有不良影响即可。至于优选实例，描述了卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子或碘原子)、烷基(直链、支链、包括双环烷基的环烷基和活性次甲基)、链烯基、炔基、芳基、杂环基(取代位置无关)、酰基、烷氧羰基、芳氧羰基、杂环氧羰基、氨基甲酰基、N-酰氨基甲酰基、N-磺酰氨基甲酰基、N-氨基甲酰氨基甲酰基、N-氨磺酰氨基甲酰基、咔唑基、羧基及其盐、乙二酰基、氨基乙二酰基、氰基、碳脒基(carbonimidoyl group)、甲酰基、羟基、烷氧基(包括其中乙烯氧基单元或丙烯氧基重复的基团)、芳氧基、杂环氧基、酰氧基、烷氧羰氧基、芳氧羰氧基、氨基甲酰氧基、磺酰氧基、氨基、烷基氨基、芳基氨基、杂环氨基、酰氨基、砜酰胺基、脲基、硫脲基、亚氨基、烷氧羰基氨基、芳氧基羰基氨基、氨磺酰氨基、氨基脲基、铵基、氨基乙二酰氨基、N-烷基磺酰基脲基、N-芳基磺酰基脲基、N-酰基脲基、N-酰基氨磺酰氨基、硝基、含季氮原子的杂环基(例如，吡啶并基、喹啉并基、异喹啉并基、咪唑并基)、异氰基、亚氨基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、磺基及其盐、氨磺酰基、N-酰基氨磺酰基、N-磺酰基氨磺酰基及其盐、膦基、氧膦基、氧膦基氧基、氧膦基氨基、甲硅烷基等。这里，活性次甲基表示被两个吸电子的基团团取代的次甲基，其中吸电子基是指酰基、烷氧羰基、芳氧羰基、氨基甲酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、氨磺酰基、三氟甲基、氰基、硝基、碳脒基。这里，两个吸电子的基团可以互相连接形成环状结构。而且，盐是指与阳离子如碱金属、碱土金属、重金属等的阳离子，或有机阳离子如铵离子、鏻离子等形成的盐。这些取代基可以进一步被这些取代基取代。
这些杂环可进一步由另一种环稠合。在取代基是阴离子(如-CO2 -、SO3 -、-S-等)的情况下，在本发明中的含氮原子的杂环可以成为阳离子(如吡啶鎓、1，2，4-三唑鎓等)，并且可以形成分子内盐。
在杂环化合物是吡啶、吡嗪、嘧啶、哒嗪、2，3-二氮杂萘、三嗪、1，5-二氮杂萘(naththilidine)或菲咯啉衍生物的情况下，所述的化合物酸离解平衡时，含氮杂环部分的共轭酸的酸离解常数(pKa)在25℃的四氢呋喃/水(3/2)的混合溶液中优选为3至8，且更优选pKa为4至7。
至于杂环化合物，优选吡啶、哒嗪或2，3-二氮杂萘衍生物，特别优选吡啶和2，3-二氮杂萘衍生物。
在这些杂环化合物含有作为取代基的巯基、硫基或硫羰基的情况下，优选吡啶、噻唑、异噻唑、噁唑、异噁唑、咪唑、吡唑、吡嗪、嘧啶、哒嗪、三嗪、三唑、噻二唑、噁二唑衍生物，且特别优选噻唑、咪唑、吡唑、吡嗪、嘧啶、哒嗪、三嗪和三唑衍生物。
例如，可以将下面式(1)或式(2)表示的化合物用作所述碘化银配位化合物形成剂：
式(1)                           式(2)
R11-S-R12
Figure A20051007800300371
在式(1)中，R11和R12各自独立表示氢原子或取代基。在式(2)中，R21和R22各自独立表示氢原子或取代基。但是，R11和R12不都是氢原子，且R21和R22也不都是氢原子。至于其中的取代基，可以描述作为上述含氮5至7元杂环型碘化银配位化合物形成剂的取代基所解释的取代基。
此外，还可以优选使用由式(3)表示的化合物：
式(3)
Figure A20051007800300372
在式(3)中，R31至R35各自独立表示氢原子或取代基。至于由R31至R35表示的取代基，可以使用上述的含氮5至7元杂环型碘化银配位化合物形成剂的取代基。在式(3)表示的化合物有取代基的情况下，优选的取代位置是R32至R34。R31至R35可以彼此连接形成饱和或不饱和的环。优选的取代基是卤素原子、烷基、芳基、氨基甲酰基、羟基、烷氧基、芳氧基、氨基甲酰氧基、氨基、酰氨基、脲基、烷氧羰基氧基、芳氧羰基氨基等。
在由式(3)表示的化合物中，吡啶环部分的共轭酸的酸离解常数(pKa)在25℃的四氢呋喃/水的混合溶液(3/2)中优选为3至8，且特别优选为4至7。
此外，还优选式(4)表示的化合物：
式(4)
Figure A20051007800300381
在式(4)中，R41至R44各自独立表示氢原子或取代基。R41至R44可以彼此连接形成饱和或不饱和的环。至于由R41至R44表示的取代基，可以描述上述含氮5至7元杂环型碘化银配位化合物形成剂的取代基。至于优选的基团，描述了烷基、链烯基、炔基、芳基、羟基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基和由苯并稠合形成2，3-二氮杂萘环的基团。在与式(4)表示化合物的氮原子相邻的碳原子上存在羟基的情况下，在哒嗪酮之间存在平衡。由式(4)表示的化合物更优选形成由下式(5)表示的2，3-邻二氮杂萘环，且特别优选该2，3-邻二氮杂萘环具有至少一个取代基。至于式(5)中的R51至R56的实例，可以描述上述含氮5至7元杂环型碘化银配位化合物形成剂的取代基。而且作为取代基的更优选实例，描述了烷基、链烯基、炔基、芳基、羟基、烷氧基、芳氧基等。优选烷基、链烯基、芳基、烷氧基或芳氧基，且更优选烷基、烷氧基和芳氧基。
式(5)
Figure A20051007800300382
此外，由下面所述的式(6)表示的化合物也是可以优选的实施方案：
式(6)
在式(6)中，R61至R63各自独立表示氢原子或取代基。至于R62表示的取代基的实例，可以描述上述含氮5至7元杂环型碘化银配位化合物形成剂的取代基。
至于优选使用的化合物，描述由下式(7)表示的化合物：
式(7)
Figure A20051007800300392
在式(7)中，R71至R72各自独立表示氢原子或取代基。L表示二价连接基团。n表示0或1。至于R71至R72表示的取代基，作为实例描述了烷基(包括环烷基)、链烯基(包括环烯基)、炔基、芳基、杂环基、酰基、芳氧羰基、烷氧羰基、氨基甲酰基、酰亚胺基和含有这些基团的复合取代基。L表示的二价连接基团优选长度为1至6个碳原子，更优选长度为1至3个碳原子，此外，可以含有取代基。
优选使用的再一种化合物是式(8)表示的化合物：
式(8)
在式(8)中，R81至R84各自独立表示氢原子或取代基。至于由R81至R84表示的取代基，作为实例描述烷基(包括环烷基)、链烯基(包括环烯基)、炔基、芳基、杂环基、酰基、芳氧羰基、烷氧羰基、氨基甲酰基、酰亚胺基等。
在上述的碘化银配位化合物形成剂中，更优选由式(3)，(4)，(5)，(6)或(7)表示的化合物，特别优选由式(3)或(5)表示的化合物。
以下所述为本发明中的碘化银配位化合物形成剂的优选实例，但本发明并不仅限于这些。
Figure A20051007800300411
C5H11SC5H11      C4H9SCH2CH2SC4H9
Figure A20051007800300412
          (5)                             (6)                                 (7)
Figure A20051007800300413
Figure A20051007800300421
HO(CH2)3S(CH2)2S(CH2)3OH
Figure A20051007800300422
         (36)                             (37)                    (38)
根据本发明的碘化银配位化合物形成剂在该形成剂实际起着常规公知的调色剂的功能的情况下，还可以是与调色剂相同的化合物。本发明的碘化银配位化合物形成剂也可以与调色剂结合使用。此外，也可以结合使用两种或多种碘化银配位化合物形成剂。
根据本发明的碘化银配位化合物形成剂优选存在于薄膜中，其状态为与光敏卤化银中相分离的状态，如固态等。还优选将其加入到与图像形成层相邻的层中。至于根据本发明的碘化银配位化合物形成剂，优选将该化合物的熔点调节在适宜的范围内，以便它在热显影温度加热时可以溶解。
本发明的碘化银配位化合物形成剂可以以例如溶液方式、乳液分散体方式、固体微粒分散体方式等加入到涂布溶液中而结合在热显影感光材料中。
公知的乳化分散方法包括这样一种方法，该方法包含：使用助溶剂在油中溶解碘化银配位化合物形成剂，接着机械形成乳液分散体，所述的油如邻苯二甲酸二丁酯、磷酸三甲酯、三乙酸甘油酯、邻苯二甲酸二乙酯等，所述的助溶剂如乙酸乙酯、环己酮等。
固体微粒分散方法包括：这样一种方法，该方法包含通过球磨机、胶体磨、振动球磨机、砂磨机、喷射磨机、辊磨机或超声波，将本发明的碘化银配位化合物形成剂的粉末分散在合适溶剂如水等中，由此得到固体分散体。
在这种情况下，还可以使用保护胶体(例如聚乙烯醇)或表面活性剂(例如，阴离子表面活性剂如三异丙基萘磺酸钠(三异丙基在不同取代位置的混合物))。在上面所列举的磨机中，作为分散介质通常使用的是氧化锆等制成的珠粒，并且从珠粒中洗脱出的Zr等有时可以结合在分散体中。根据分散条件，通常结合在分散体中的Zr量为1ppm至1000ppm。只要光敏材料中结合的Zr为0.5mg或以下/1g银时，实践上是可以接受的。
优选在水分散体中加入防腐剂(例如，苯并异噻唑啉酮钠盐)。
将本发明的碘化银配位化合物形成剂优选以固体分散体的形式使用。
优选本发明的碘化银配位化合物形成剂的使用量为1mol％至5000mol％，更优选10mol％至1000mol％，进一步优选50mol％至300mol％，在每种情况下均是基于光敏卤化银。
(有机银盐)
本发明中使用的有机银盐对光是相对稳定，但是在已曝光的光敏卤化银和还原剂的存在下，被加热至80℃或更高的温度时，用来提供银离子和形成银图像。有机银盐可以是包括能够还原银离子的源的任何有机物质。这种非光敏有机银描述于例如：JP-A 10-62899(第0048至0049段)，EP 0803764A1(第18页第24行至19页第37行)，EP 0962812A1，JP-A11-349591，2000-7683和2000-72711等。优选为有机酸的银盐，更优选长链脂肪酸羧酸(具有10至30个碳原子，优选为15至28个碳原子)的银盐。有机银盐的优选实例可以包括例如山嵛酸银，花生四烯酸银，硬脂酸银，油酸银，月桂酸银，己酸银，肉豆蔻酸银，棕榈酸银，及它们的混合物。本发明中，在有机银盐中，优选使用山嵛酸银含量为50mol％或以上，特别优选为75mol％至98mol％的有机酸银。
对可用于本发明的有机银盐的形状没有特别限制，其形状可以是针状，棒状，片状或薄片状。
在本发明中，优选薄片状的有机银盐。本说明书中，薄片状有机银盐的定义如下。当在电子显微镜下观察有机银盐时，进行计算：在有机银盐颗粒形状近似为长方形固体，且假定长方体的各条边从较短的边开始为a、b和c(c可以等于b)且基于较短的边的数值a，b)，如下计算x：
x＝b/a
如上所述，x由约200个颗粒来确定，且将作为平均x满足关系：x(平均)≥1.5的颗粒被定义为薄片状颗粒。关系优选：30≥x(平均)≥1.5，更优选15≥x(平均)≥1.5。顺便提及，将针状颗粒表示为：1≤x(平均)＜1.5。
在薄片状颗粒中，a可以被认为是片状颗粒的厚度，该片状颗粒具有b和c作为边的主平面，a的平均值优选为0.01μm至0.3μm，更优选0.1μm至0.23μm。c/b的平均值优选为1至6，更优选1至4，进一步优选1至3，最优选1至2。
至于有机银盐的颗粒大小分布，优选单分散体。在单分散体中，短轴和长轴长度的标准偏差分别除以短轴和长轴长度而获得的值百分比优选为100％或以下，更优选80％或以下，还更优选50％或以下。有机银盐的形状可以通过分析有机银盐分散体的透射电子显微镜图像来测量。另一测量单分散体的方法是一种确定有机银盐体积加权平均直径的标准偏差的方法，其中通过除以体积加权平均直径限定的百分比(变异系数)优选为100％或以下，更优选80％或以下，还更优选50％或以下。可以通过例如如下一种测量方法获得的颗粒大小(体积加权平均直径)来确定单分散体：该方法用激光照射在液体中分散的有机银盐，并确定散射光波动相对于时间变化的自相关函数。
可以将本领域已知的方法用于制备本发明中使用的有机酸银方法及其分散方法。例如，可以参考如下文献：JP-A 10-62899、EP-A 0803763A1和0962812A1、JP-A 11-349591、2000-7683、2000-72711、2001-163827、2001-163889、2001-163890、11-203413、2001-188313、2001-83652、2002-6442、2002-31870、2000-214155、2002-6442等。
在本发明中，可以通过混合有机银盐水分散体和光敏银盐水分散体来制备光敏材料。优选将通过混合的两种或多种有机银盐水分散体和两种或多种光敏银盐水分散体混合的方法用于控制调节照相性能。
虽然可以使用需要量的本发明中的有机银盐，但是，相对银量，优选为0.1g/m2至5g/m2，更优选1g/m2至3g/m2，特别优选1.2g/m2至2.5g/m2。
(成核剂)
本发明热显影感光材料优选包含成核剂。根据本发明的成核剂是指可以生成这样一种化合物的化合物，所生成的化合物能够通过与作为初始显影的结果的显影产物反应而新诱导显影。常规已知的是，使用用于在适合用于制图领域中的超高灰度光敏材料的成核剂。超高灰度光敏材料的平均灰度为10或以上，且不适合和于常规照相材料，特别是不适合于要求高诊断能力的医用。而且，因为超高灰度光敏材料具有粗糙的粒度并且不具有足够锐度，因而没有用于医疗诊费应用的潜力。本发明中的成核剂在作用方面完全不同于常规的超高灰度光敏材料。本发明中的成核剂不产生高灰度。本发明中的成核剂是即使当光敏卤化银颗粒相对于有机酸的非光敏银盐的数量极小少时，能够产生充分显影的化合物。虽然机理不清楚，但是当通过使用根据本发明的成核剂进行热显影时，清楚的是比光敏卤化银颗粒的数量更大量的显影银颗粒存在于最大密度部分，并且认为根据本发明的成核剂在不存在卤化银颗粒的点形成新的显影点(显影核)。
至于成核剂，优选由下式(V)表示的肼衍生物化合物、由下式(VI)表示的乙烯基化合物和下式(P)表示的季鎓盐化合物。具体地，在乙烯基化合物中，优选由式(A)、(B)或(C)表示的环状烯烃化合物。
式(V)
Figure A20051007800300461
式(VI)
式(P)
Figure A20051007800300463
式(A)
Figure A20051007800300464
式(B)
式(C)
Figure A20051007800300472
在式(V)中，A0表示选自脂族基、芳族基、杂环基或-G0-D0基中的一种，其每一个可以具有取代基。B0表示封端基。A1和A2都表示氢原子，或一个表示氢原子，另一个表示酰基、磺酰基和乙二酰基中的一种。其中，G0表示选自-CO-基、-COCO-基、-CS-基、-C(＝NG1D1)基、-SO-基、-SO2-基或-P(O)(G1D1)-基中的一种。G1表示选自单连接键(mere bonding hand)、-O-基、-S-或-N(D1)-基中的一种，且D1表示选自脂族基、芳族基、杂环基或氢原子中的一种。在分子中存在多个D1的情况下，它们可以相同或不同。D0表示选自氢原子、脂族基、芳族基、杂环基、氨基、烷氧基、芳氧基、烷硫基或芳硫基中的一种。至于优选的D0，可以描述氢原子、烷基、烷氧基、氨基等。
在式(V)中，由A0表示的脂族基优选具有1至30个碳原子，特别优选具有1至20个碳原子的直链(normal)、支链(blanched)或环烷基。例如，描述甲基、叔-丁基、辛基、环己基和苄基。这些还可以由适当的取代基(例如，芳基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、硫氧基(sulfoxy)、磺酰胺、氨磺酰基、酰氨基、脲基基等)取代。
在式(V)中，由A0表示的芳族基优选为单环或稠环的芳基。例如，描述苯环或萘环。至于由A0表示的杂环，优选包含选自氮原子、硫原子或氧原子中的至少一个杂原子的单环或稠环的芳基。例如，描述吡咯烷环、咪唑环、四氢呋喃环、吗啉环、吡啶环、嘧啶环、喹啉环、噻唑环、苯并噻唑环、噻吩环和呋喃环。作为A0的芳族基、杂环基或-G0-D0基可以具有取代基。至于A0，特别优选芳基或-G0-D0基。
而且，在式(V)中，优选A0包含至少一个对卤化银的扩散抑制基团或吸附基团。至于扩散抑制基团，优选通常用作非移动照相的添加剂的稳定基。至于稳定基，描述光化学惰性的烷基、链烯基、炔基、烷氧基、苯基、苯氧基、烷基苯氧基等，且优选取代基部分总共具有8个或以上个的碳原子。
在式(V)中，至于对卤化银的吸附促进基团，描述硫脲基、硫代氨基甲酸酯基、巯基、硫醚基、硫酮基、杂环基、硫代酰胺基、巯基杂环基和在JP-A 64-90439中所述的吸附基团。
在式(V)中，B0表示封端基，且优选为-G0-D0基。G0表示选自-CO-基、-COCO-基、-CS-基、-C(＝NG1D1)基、-SO-基、-SO2-基或-P(O)(G1D1)-基中的一种。至于优选的G0，描述-CO-基、-COCO-基。G1表示选自单连接键、-O-基、-S-或-N(D1)-基中的一种，且D1表示选自脂族基、芳族基、杂环基或氢原子中的一种。在分子中存在多个D1的情况下，它们可以相同或不同。D0表示选自氢原子、脂族基、芳族基、杂环基、氨基、烷氧基、芳氧基、烷硫基或芳硫基中的一种。至于优选的D0，描述氢原子、烷基、烷氧基、氨基等。A1和A2都表示氢原子，或一个表示氢原子，另一个表示选自酰基(乙酰基、三氟乙酰基、苯甲酰基等)、磺酰基(甲烷磺酰基、甲苯磺酰基等)或乙二酰基(乙草酰基等)中的一种。
至于由式(V)表示的化合物的具体实例，描述了在JP-ANo.2002-131864中所述的化学式12至18的化合物H-1至H-35和化学式20至26的化合物H-1-1至H-4-5，但是具体实例不受这些限制。
可以通过已知的方法容易合成由式(V)表示的化合物。这些可以例如通过参考USP 5464738和5496695合成。
此外，优选使用的肼衍生物为描述于USP 5545505，第11至20栏中的化合物H-1至H-29和描述于USP 5464738的第9至11栏中的化合物1至12。这些肼衍生物可以通过已知的方法合成。
接着，解释式(VI)。在式(VI)中，虽然X和R以顺式显示，但在(Vi)中还包括X和R反式。这也类似于具体化合物所示的结构。
在式(VI)中，X表示吸电子基团，且W表示选自下列中的一种：氢原子、烷基、链烯基、炔基、芳基、杂环基、卤素原子、酰基、硫代酰基、乙二酰基、氧基乙二酰基、硫代乙二酰基、氨基乙二酰基、氧基羰基、硫代羰基、氨基甲酰基、硫代氨基甲酰基、磺酰基、亚磺酰基、氧亚磺酰基、硫代亚磺酰基、氨磺酰基、氧亚磺酰基、硫代亚磺酰基、氨亚磺酰基(sulfinamoyl group)、磷酰基、硝基、亚氨基、N-羰基亚氨基、N-磺酰亚氨基、二氰亚乙基、铵基、锍基、鏻基、吡喃鎓基或immonium基。
R表示选自下列中的一种：卤素原子、羟基、烷氧基、杂环氧基、链烯氧基、酰氧基、烷氧羰氧基、氨基羰氧基、巯基、烷硫基、芳硫基、杂环硫基、链烯硫基、酰基硫基、烷氧羰基硫基、氨基羰基硫基、羟基或巯基的有机或无机盐(例如，钠盐、钾盐、银盐等)、氨基、烷基氨基、环氨基(例如，吡咯烷并(pyrrolidino))、酰氨基、氧基羰基氨基、杂环基(含氮5或6元杂环，例如苯三唑基、咪唑基、三唑基、四唑基等)、脲基或氨磺酰基。X和W，和X和R可以相互结合形成环结构。至于由X和W形成的环，描述例如吡咯啉酮、吡唑烷酮、环戊二酮、β-酮内酯、β-酮内酰胺等。
进一步解释(VI)，由X表示的吸电子基团是这样一种取代基，其可以具有正值的取代基常数σp。具体而言，描述了取代的烷基(卤素取代的烷基等)、取代的链烯基(氰基乙烯基等)、取代的或未取代的炔基(三氟甲基乙炔基、氰基乙炔基等)、取代的芳基(氰基苯基等)、取代的或未取代的杂环基(吡啶基、三嗪基、苯并噁唑等)、卤素原子、氰基、酰基(乙酰基、三氟乙酰基、甲酰基等)、硫代乙酰基(硫代乙酰、硫醛基等)、乙二酰基(甲基乙二酰基等)、氧乙二酰基(乙草酰基等)、硫代乙二酰基(乙基硫代乙二酰基等)、氨基乙二酰基(甲基氨基乙二酰等)、氧羰基(乙氧基羰基等)、羧基、硫代羧基(乙基硫代羧基等)、氨基甲酰基、硫代氨基甲酰基、磺酰基、亚磺酰基、氧磺酰基(乙氧基磺酰基等)、硫代磺酰基(乙基硫代磺酰基等)、氨磺酰基、氧亚磺酰基(甲氧基亚磺酰基等)、硫代亚磺酰基(甲基硫代亚磺酰基等)、氨亚磺酰基、磷酰基、硝基、亚氨基、N-羰基亚氨基(N-乙酰亚氨基等)、N-磺酰亚氨基(N-甲烷磺酰亚氨基等)、二氰基亚乙基、铵基、锍基、鏻基、吡喃鎓基或immonium基等，还包括由铵基、锍基、鏻基、吡喃鎓基或immonium基等形成的杂环基。特别优选σp值为0.30或以上的取代基。
至于由W表示的烷基，描述甲基、乙基、三氟甲基等。至于作为W的链烯，描述乙烯基、卤素取代的乙烯基、氰基乙烯基等。至于作为W的炔基，描述乙炔基、氰基乙炔基等。至于作为W的芳基，描述硝基苯基、氰基苯基、五氟苯基等，且至于作为W的杂环基，描述吡啶基、嘧啶、三嗪基、琥珀酰亚胺基、四唑基、三唑基、咪唑、苯并噁唑基等。至于W，优选具有正σp值的吸电子基团，更优选该值为0.30或以上。
在上述R的取代基中，优选描述羟基、巯基、烷氧基、烷硫基、卤素原子、羟基或巯基的有机或无机盐、和杂环基。更优选地，描述羟基、烷氧基、羟基或巯基的有机或无机盐和杂环基，特别优选地，描述羟基，和羟基或巯基的有机或无机盐。
而且，在上述的X和W的取代基中，优选在取代基中具有硫醚键的基团。
至于由式(VI)表示的化合物的具体实例，描述JP-A 2002-131864中所述的化学式27至50的化合物1-1至92-7，但是具体实例不受这些限制。
在式(P)中，Q表示氮原子或磷原子。R1、R2、R3和R4各自独立表示氢原子或取代基，且X-表示阴离子。此外，R1至R4可以相互结合形成环状结构。
至于由R1至R4表示的取代基，描述烷基(甲基、乙基、丙基、丁基、己基、环己基等)，链烯基(烯丙基、丁烯基等)，炔基(炔丙基、丁炔基等)，芳基(苯基、萘基等)，杂环基(哌啶基、哌嗪基、吗啉基、吡啶基、呋喃基、噻吩基、四氢呋喃基、四氢噻吩基、sulforanyl基等)，氨基等。
至于由R1至R4相互连接形成的环，描述哌啶环、吗啉环、哌嗪环、喹宁环、吡啶环、吡咯环、咪唑环、三唑环、四唑环等。
由R1至R4表示的基团可以具有取代基例如羟基、烷氧基、芳氧基、羧基、磺基、烷基、芳基等。至于R1、R2、R3和R4，优选氢原子和烷基。
至于由X-表示的阴离子，描述有机或无机阴离子例如卤素离子、硫酸根离子、硝酸根离子、乙酸根离子、对-甲苯磺酸根离子等。
至于式(P)的结构，再更优选在JP-A 2002-131864中第0153至0163段中描述的结构。
至于式(P)的具体化合物，可以描述在JP-A 2002-131864中化学式53至62中的P-1至P-52和T-1至T-18，但是具体化合物不受这些限制。
通过参考已知的方法可以合成上述的季鎓化合物。例如通过参考Chemical Reviews，vol.55，第335至483页中描述的方法，可以合成上述的四唑鎓化合物。
接着，详细解释由式(A)或(B)表示的化合物。在式(A)中，Z1表示能够与-Y1-C(＝CH-X1)-C(＝O)-形成5至7元环结构的非金属原子团。优选Z1是选自碳原子、氧原子、硫原子、氮原子或氢原子中的原子团，且选自这些的许多原子通过单键或双键与-Y1-C(＝CH-X1)-C(＝O)-连接形成5至7元环结构。Z1可以具有取代基，且Z1本身可以是芳族或非芳族碳环，或Z1可以是芳族或非芳族杂环的部分，且在这种情况下，由Z1与-Y1-C(＝CH-X1)-C(＝O)-形成的5至7元环状结构形成稠环结构。
在式(B)中，Z2表示能够与-Y2-C(＝CH-X2)-C(Y3)＝N-形成5至7元环结构的非金属原子团。优选Z2是选自碳原子、氧原子、硫原子、氮原子或氢原子中的原子团，且选自这些的许多原子通过单键或双键与-Y2-C(＝CH-X2)-C(Y3)＝N-相互连接。Z2可以具有取代基，且Z2本身可以是芳族或非芳族碳环，或Z2可以是芳族或非芳族杂环的部分，且在这种情况下，由Z2与-Y2-C(＝CH-X2)-C(Y3)＝N-形成的5至7元环状结构形成稠环结构。
在Z1和Z2具有取代基的情况下，取代基的实例是选自下列化合物。即，作为典型的取代基，例如，描述了卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子或碘原子)，烷基(包括芳烷基、环烷基和活性次甲基)，链烯基、炔基、芳基、杂环基、含季氮的杂环基(例如，吡啶并基)、酰基、烷氧羰基、芳氧羰基、氨基甲酰基、羧基或其盐、磺酰氨基甲酰基、酰基氨基甲酰基、氨磺酰氨基甲酰基、咔唑基、乙二酰基、氨基乙二酰基、氰基、硫代氨基甲酰基、羟基、烷氧基(包括其中乙烯氧基或丙烯氧基单元重复的基团)、芳氧基、杂环氧基、酰氧基、烷氧羰氧基、芳氧基羰氧基、氨基甲酰氧基、磺酰氧基、氨基、烷基氨基、芳基氨基、杂环氨基、N-取代的含氮杂环基、酰氨基、氨磺酰基、脲基、硫脲基、酰亚胺基、烷氧羰基氨基、芳氧羰基氨基、氨磺酰氨基、氨基脲基、硫代氨基脲基、肼基、季铵基、草氨酰基氨基、烷基磺酰脲基、芳基磺酰脲基、酰基脲基、酰基氨磺酰氨基、硝基、巯基、烷硫基、芳硫基、杂环硫基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、磺基或其盐、氨磺酰基、酰基氨磺酰基、磺酰氨磺酰基或其盐、包含磷酰胺或磷酯结构的基团、甲硅烷基、甲锡烷基等。
这些取代基可以再被这些取代基取代。
接着，解释Y3。在式(B)中，Y3表示氢原子或取代基，当Y3表示取代基时，特别描述的下面基团为取代基。即，描述了烷基、芳基、杂环基、氰基、酰基、烷氧羰基、芳氧羰基、氨基甲酰基、氨基、烷基氨基、芳基氨基、杂环氨基、酰氨基、氨磺酰基、脲基、硫脲基、酰亚胺基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、杂环硫基等。这些取代基可以被任何取代基取代。具体而言，描述Z1或Z2可以具有的取代基的实例。
在式(A)和(B)中，X1和X2各自独立地表示选自下列中的一种：羟基(或其盐)、烷氧基(例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、辛氧基、十二烷氧基、十六烷氧基、叔-丁氧基等)、芳氧基(例如苯氧基、对-叔-戊基苯氧基、对-叔-辛基苯氧基等)、杂环氧基(例如苯三唑基-5-氧基、吡啶基-3-氧基等)、巯基(或其盐)、烷硫基(例如甲硫基、乙硫基、丁硫基、十二烷硫基等)、芳硫基(例如苯硫基、对-十二烷基苯硫基等)、杂环硫基(例如，1-苯基四唑基-5-硫基、2-甲基-1-苯基三唑基-5-硫基、巯基噻二唑基硫基等)、氨基、烷基氨基(例如，甲基氨基、丙基氨基、辛基氨基、二甲基氨基等)、芳基氨基(例如，苯胺基、萘基氨基、邻-甲氧基苯胺基等)、杂环氨基(例如，吡啶基氨基、苯并三唑-5-基氨基等)、酰氨基(例如，乙酰胺基、辛酰氨基、苯甲酰氨基等)、氨磺酰基(例如，甲烷氨磺酰基、苯氨磺酰基、十二烷基氨磺酰基等)或杂环基。
这里，杂环基是芳族或非芳族的、饱和或不饱和、单环或稠环、取代或未取代的杂环基。例如，N-甲基乙内酰脲基、N-苯基乙内酰脲基、琥珀酰亚胺基、苯邻二甲酰亚胺基、N，N’-二甲基尿唑基、咪唑基、苯并三唑基、吲唑基、吗啉代基、4，4-二甲基-2，5-二氧代-噁唑基等。
而且其中，盐表示碱金属(钠、钾或锂)的盐、碱土金属(镁或钙)的盐、银盐、季铵盐(四乙铵盐、二甲基十六烷基苄基铵盐等)、季鏻盐等。在式(A)和(B)中，Y1和Y2表示-C(＝O)-或-SO2-。
由式(A)或(B)表示的化合物的优选范围描述于JP-A 11-231459中第0027至0043段中。至于由式(A)或(B)表示的化合物的具体实例，描述在JP-A11-231459的表1至表8中的化合物1至110，但是，苯发明不受这些限制。
接着，将详细解释由式(C)表示的化合物。在式(C)中，X3表示选自氧原子、硫原子或氮原子中的一种。在X3是氮原子的情况下，X3和Z3的键可以是单键或双键，且在单键的情况下，氮原子可以具有氢原子或取代基。至于这种取代基，例如，描述烷基(包括芳烷基、环烷基、活性次甲基等)，链烯基、炔基、芳基、杂环基、酰基、烷氧羰基、芳氧羰基、氨基甲酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、杂环磺酰基等。
Y4表示由选自-C(O)-、-C(＝S)-、-SO-、-SO2-、-C(＝NR3)-或-(R4)C＝N-中的一种表示的基团。Z3表示能够形成含X3和Y4的5至7元环的非金属原子团。形成该环的原子团是由2至4个不是金属原子的原子组成的原子团，且这些原子可以通过单键或双键连接，并且这些可以具有氢原子或任何取代基(例如，烷基、芳基、杂环基、烷氧基、烷硫基、酰基、氨基或链烯基)。当Z3形成含X3和Y4的5至7元环时，该环是饱和或不饱和的杂环，且可以是单环或可以具有稠环。当Y4是由C(＝NR3)、(R4)C＝N表示的基团时，这种情况的稠环可以通过R3或R4与Z3的取代基连接而形成。
在式(C)中，R1、R2、R3和R4各自独立地表示氢原子或取代基。但是，R1和R2相互从不连接形成环状结构。
当R1和R2表示单价取代基时，描述下面的基团作为单价取代基。
例如，描述卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子或碘原子)、烷基(包括芳烷基、环烷基、活性次甲基等)、链烯基、炔基、芳基、杂环基、含季氮原子的杂环基(例如吡啶并基)、酰基、烷氧羰基、芳氧羰基、氨基甲酰基、羧基及其盐、磺酰氨基甲酰基、酰基氨基甲酰基、氨磺酰氨基甲酰基、咔唑基、乙二酰基、氨基乙二酰基、氰基、硫代氨基甲酰基、羟基及其盐、烷氧基(包括乙烯氧基单元或丙烯氧基单元重复的基团)、芳氧基、杂环氧基、酰氧基、烷氧羰基氧基、芳氧基羰氧基、氨基甲酰氧基、磺酰氧基、氨基、烷基氨基、芳基氨基、杂环氨基、N-取代含氮杂环基、酰氨基、氨磺酰基、脲基、硫脲基、酰亚胺基、烷氧羰基氨基、芳氧羰基氨基、氨磺酰氨基、氨基脲基、硫代氨基脲基、肼基、季铵基、草氨酰基氨基、烷基磺酰脲基、芳基磺酰脲基、酰基脲基、酰基氨磺酰氨基、硝基、巯基及其盐、烷硫基、芳硫基、杂环硫基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、磺基及其盐、氨磺酰基、酰基氨磺酰基、磺酰氨磺酰基及其盐、磷酰基、包含磷酰或磷酯结构的基团、甲硅烷基、甲锡烷基等。这些取代基可以再被这些单价取代基取代。
当R3和R4表示取代基，除了卤素原子外，作为取代基可以描述与R1和R2可以具有相同的取代基。此外，R3和R4可以再与Z3连接形成稠环。
接着，在由式(C)表示的化合物中，描述优选的化合物。在式(C)中，优选Z3为与X3和Y4形成5至7元环的原子团，且由选自2至4个碳原子、氮原子、硫原子或氧原子的原子组成。由Z3与X3和Y4形成的杂环优选包含总数为3至40个的碳原子，更优选总数为3至25个的碳原子，最优选总数为3至20个的碳原子。Z3优选包含至少一个碳原子。
在式(C)中，Y4优选为-C(＝O)-、-C(＝S)-、SO2-或-(R4)C＝N-，特别优选为-C(＝O)-、-C(＝S)-、SO2-，且最优选为-C(＝O)-。
在(C)中，在R1和R2表示单价取代基的情况下，由R1和R2表示的单价取代基优选为具有总数为0至25个的碳原子的下列基团中的一种，即，这些是烷基、芳基、杂环基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、烷硫基、芳硫基、杂环硫基、氨基、烷基氨基、芳基氨基、杂环氨基、脲基、酰亚胺基、酰氨基、羟基及其盐、巯基及其盐和吸电子基团。这里，吸电子基团是指能够具有正值哈米特取代基常数σp的取代基，且具体描述了氰基、氨磺酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、氨磺酰基、亚氨基、硝基、卤素原子、酰基、甲酰基、磷酰基、羧基(或其盐)、磺基(或其盐)、饱和或不饱和杂环基、链烯基、炔基、酰氧基、酰基硫基、磺酰氧基、及被这些吸电子基团取代的芳基。这些取代基可以具有任何取代基。
在式(C)中，当R1和R2表示单价取代基时，更优选为烷氧基、芳氧基、杂环氧基、烷硫基、芳硫基、杂环硫基、氨基、烷基氨基、芳基氨基、杂环氨基、脲基、酰亚胺基、酰氨基、氨磺酰基、杂环基、羟基或其盐、巯基或其盐等。在式(C)中，R1和R2特别优选为氢原子、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、杂环基、羟基或其盐、巯基或其盐等。在式(C)中，最优选R1和R2中的一个是氢原子，且另一个是烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、杂环基、羟基或其盐、巯基或其盐等。
在式(C)中，当R3表示取代基时，R3优选为具有总数为1至25个的碳原子的烷基(包括芳烷基、环烷基、活性次甲基等)、链烯基、芳基、杂环基、含季氮的杂环基(例如，吡啶并基)、酰基、烷氧羰基、芳氧羰基、氨基甲酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、磺基氨磺酰基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、烷硫基、芳硫基、杂环硫基、氨基等。特别优选烷基和芳基。
在式(C)中，当R4表示取代基时，R3优选为具有总数为1至25个的碳原子的烷基(包括芳烷基、环烷基、活性次甲基等)、芳基、杂环基、含季氮的杂环基(例如，吡啶并基)、酰基、烷氧羰基、芳氧羰基、氨基甲酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、磺基氨磺酰基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、烷硫基、芳硫基、杂环硫基等。特别优选为烷基、芳基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、烷硫基、芳硫基、杂环硫基等。
由(C)表示的具体化合物由描述于JP-A 11-133546中化学式6至18的A-1至A-230的化合物表示，但是，本发明不受这些限制。
上面成核剂的加入量为10-5mol至1mol/mol有机银盐，优选为10-4mol至5×10-1mol。
通过加入到涂布溶液中，例如以溶液形式、胶乳分散体、固体微粒分散体等，上述的成核剂可以结合到热显影感光材料中。
至于公知的乳液分散方法，可以提及这样一种方法，该方法包含：将成核剂溶解于油例如邻苯二甲酸二丁酯、磷酸三甲酚酯、癸二酸二辛酯、磷酸三(2-乙基己基)酯等中，使用助溶剂如乙酸乙酯和环己酮等，然后加入表面活性剂例如十二烷基苯磺酸钠、油酸(oleoil)-N-甲基牛磺酸(taurinate)钠、二(2-乙基己基)磺基琥珀酸钠等；由此机械制备乳剂分散体。在该方法的过程中，为了控制油滴的粘度和折射指数，优选加入聚合物例如α-甲基苯乙烯低聚物、聚(叔-丁基丙烯酰胺)等。
至于固体颗粒分散方法，可以提及这样一种方法，该方法包含：通过球磨机、胶体磨、振动球磨机、砂磨机、喷射磨机、辊磨机或超声波，在合适溶剂例如水等中分散成核剂的粉末，由此得到固体分散体。在这种情况下，还可以使用保护胶体(例如聚乙烯醇)，或表面活性剂(例如，阴离子表面活性剂如三异丙基萘磺酸钠(三异丙基在不同取代位置的混合物))。在上面所列举的磨机中，作为分散介质通常使用的是氧化锆等制成的珠粒，并且从珠粒中洗脱出的Zr等有时可以结合在分散体中。根据分散条件，通常结合在分散体中的Zr量为1ppm至1000ppm。只要光敏材料中结合的Zr为0.5mg或以下/1g银时，实践上是可以接受的。
优选在水分散体中加入防腐剂(例如，苯并异噻唑啉酮钠盐)。
特别优选成核剂作为固体颗粒分散体使用，并且以平均颗粒大小为0.01μm至10μm，优选为0.05μm至5μm，更优选为0.1μm至2μm的微粒形式加入。在本发明中，优选使用具有这样的颗粒大小范围的其它固体分散体。
在进行快速显影的热显影感光材料中，其中显影时间为20秒或更短，在上述的成核剂中，优选使用由(V)或(P)表示的化合物，特别优选由式(V)表示的化合物。
在需要低灰雾的热显影感光材料中，优选使用由式(VI)表示的化合物，更优选由式(A)、(B)或(C)表示的化合物，特别优选使用由式(A)或(B)表示的化合物。此外，当在各种环境条件(温度和湿度)中使用时，照相性能根据环境条件变化很小的热显影感光材料中，优选使用由式(C)表示的化合物。
虽然在上述提及的成核剂中优选的具体化合物如下所示，但是本发明不受这些限制。
Figure A20051007800300571
可以将本发明的成核剂加入到图像形成层或与图像形成层相邻的层中，但是，优选加入到图像形成层中。成核剂的加入量为10-5mol至1mol/mol有机银盐，且优选为10-4mol至5×10-3mol。可以单独加入一种成核剂，或组合两种或多种加入。
(还原剂)
1)传染(infectious)显影还原剂
本发明的热显影感光材料优选含有传染显影还原剂。至于本发明中使用的传染显影还原剂，可以使用任何还原剂，只要它具有传染显影的功能即可。
可以在本发明中使用的优选传染显影还原剂是由下列式(R1)表示的化合物：
式(R1)
在上述的式(R1)中，R11和R11’各自独立表示含有3至20个碳原子的仲或叔烷基。R12和R12’各自独立表示氢原子或通过氮、氧、磷或硫原子连接的基团。R13表示氢原子或含有1至20个碳原子的烷基。
详细解释上述的式(R1)。至于上述的R11和R11’，优选含有3至20个碳原子的仲或叔烷基。具体而言，优选异丙基、叔-丁基、叔-戊基、1，1-二甲基丙基、1，1-二甲基丁基、1，1-二甲基己基、1，1-3，3-四甲基丁基、1，1-二甲基癸基、1-甲基环己基、叔-辛基、1-甲基环丙基等，更优选叔-丁基、叔-戊基、叔-辛基和1-甲基环己基，最优选叔-丁基。
在R12和R12’是芳氧基、芳硫基、苯胺基、杂环基或杂环硫基的情况下，其每个可以具有取代基。至于所述的取代基，虽然任何基团是可能的，只要它能够取代苯环和杂环上的氢原子即可，但是，描述了烷基、芳基、杂环基、卤素原子、烷氧基、羟基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、氨基、酰基、酰氧基、酰氨基、烷氧羰基、氨基甲酰基、磺酰基、氨磺酰基、磺酰氧基、氨磺酰基、亚砜基(sulfoxido)、脲基或氨基甲酸酯基等。在R12和R12’是烷氧基、羰氧基、酰氧基、烷硫基、氨基、酰氨基、脲基或氨基甲酸酯基的情况下，这些基团还具有取代基，且作为所述取代基的实例，描述了烷氧基、烷氧羰基、酰氧基、磺酰基、羰基、烷硫基、芳氧基、芳硫基、氨磺酰基、酰氨基等。至于上述的R12和R12’，更优选氢原子、羟基、氨基和苯胺基，此外，最优选氢原子、甲氧基和苄氧基。
至于上述R13，优选为氢原子和含有1至15个碳原子的烷基，更优选含有1至8个碳原子的烷基。至于所述的烷基，优选甲基、乙基、丙基、异丙基和2，4，4-三甲基戊基(penthyl)。至于上述R13，特别优选氢原子、甲基、乙基、丙基和异丙基。
本发明中由式(R1)表示的还原剂的典型实例为如下所示，但是本发明不受这些限制。
Figure A20051007800300601
Figure A20051007800300611
Figure A20051007800300651
Figure A20051007800300661
由上述的式(R1)表示的还原剂的加入量优选为0.01g/m2至5.0g/m2，更优选0.1g/m2至3.0g/m2。在图像形成层中，基于每mol银，优选包含还原剂的量为5mol％至50mol％，更优选10mol％至40mol％。
由上述的式(R1)表示的还原剂优选包含在图像形成层中。特别是，由上述的式(R1)表示的还原剂优选包含在含低敏感度的卤化银乳剂的图像形成层中。
2)还原剂
在本发明中，其它还原剂可以与由本发明中的式(R1)表示的还原剂组合使用。可以组合使用的还原剂可以是能够将银离子还原成金属银的任何物质(优选有机物质)。还原剂的实例描述于JP-A 11-65021(第0043至0045段)和EP-A 0803764(第7页第34行至第18页第12行)中。
在本发明中，可以组合使用的还原剂优选为所谓的受阻酚还原剂或双酚试剂，所述的受阻酚还原剂或双酚试剂在酚式羟基的邻位含有取代基。
更优选由下式(R)表示的还原剂：
式(R)
在式(R)中，R11和R11’各自独立地表示含1至20个碳原子的烷基。R12和R12’各自独立地表示氢原子或可在苯环上取代氢原子的基团。L表示-S-基或-CHR13-基。R13表示氢原子或含1至20个碳原子的烷基。X1和X1’各自独立地表示氢原子或可在苯环上取代氢原子的基团。
将详细描述式(R)。
在下面的描述中，当提到烷基时，只要没有具体指明，它表明所述的烷基包含环烷基。
(1)R11和R11’
R11和R11’各自独立地表示含有1至20个碳原子的取代或未取代的烷基。对烷基的取代基没有特别限制，且可以优选包括芳基、羟基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、酰氨基、氨磺酰基、磺酰基、磷酰基、酰基、氨基甲酰基、酯基、脲基、氨基甲酸酯基、卤素原子等。
(2)R12和R12’，以及X1和X1’
R12和R12’各自独立地表示氢原子或可在苯环上取代氢原子的基团。X1和X1’各自独立地表示氢原子或可在苯环上取代氢原子的基团。至于可在苯环上取代氢原子的每个基团，优选描述烷基，芳基，卤素原子，烷氧基和酰氨基。
(3)L
L表示-S-基或-CHR13-基。R13表示氢原子或含有1至20个碳原子的烃基，其中烃基可以含有取代基。R13的未取代烃基的具体实例可以包括例如，甲基，乙基，丙基，丁基，庚基，十一烷基，异丙基，1-乙基戊基，和2，4，4-三甲基戊基、环己基、2，4-二甲基-3-环己烯基、3，5-二甲基-3-环己烯基等。烃基的取代基的实例可以包括，类似于与R11的取代基，卤素原子，烷氧基，烷硫基，芳氧基，芳硫基，酰氨基，氨磺酰基，磺酰基，磷酰基，氧基羰基，氨基甲酰基和氨磺酰基等。
(4)优选的取代基
优选R11和R11’为含有3至15个碳原子的伯、仲或叔烷基，且可以具体包括：甲基、异丙基，叔丁基，叔戊基，叔辛基，环己基，环戊基，1-甲基环己基，1-甲基环丙基等。更优选R11和R11’各自表示含有1至8个碳原子的烷基，且在它们中，进一步优选甲基、叔丁基，叔戊基，1-甲基环己基。最优选甲基和叔丁基。
优选R12和R12’为含有1至20个碳原子的烷基，且可以具体包括：甲基，乙基，丙基，丁基，异丙基，叔丁基，叔戊基，环己基，1-甲基环己基，苄基，甲氧基甲基和甲氧基乙基等。更优选甲基，乙基，丙基，异丙基和叔丁基，且特别优选甲基和乙基。
优选X1和X1’为氢原子，卤素原子或烷基，且更优选为氢原子。
L优选为-CHR13-基团。
R13优选为氢原子或含有1至15个碳原子的烃基。烃基优选为链或环烷基。而且，还优选使用在这些烃基中具有C＝C键的基团。烃基的优选实例可以包括甲基、乙基，丙基，异丙基、2，4，4-三甲基戊基、环己基、2，4-二甲基-3-环己烯基、3，5-二甲基-3-环己烯基等。特别优选R13是氢原子，甲基，乙基、丙基、异丙基或2，4-二甲基-3-环己烯基。
在R11和R11’是叔烷基且R12和R12’是甲基的情况下，优选R13为含有1至8个碳原子的伯或仲烷基(甲基、乙基，丙基，异丙基、2，4-二甲基-3-环己烯基等)。
在R11和R11’是叔烷基且R12和R12’是除甲基外的烷基的情况下，R13优选为氢原子。
在R11和R11’不是叔烷基的情况下，R13优选为氢原子或仲烷基，特别优选为仲烷基。至于R13中的仲烷基，优选为异丙基和2，4-二甲基-3-环己烯基。
上述的还原剂根据R11，R11’，R12和R12’和R13的组合而具有不同热显影性能、显影银图像的不同色调等。通过使用两种或多种不同混合比率的还原剂，可以调节这些热显影性能，根据目的，优选组合使用两种或多种还原剂。
以下，所示为本发明包括由式(R)表示的化合物的还原剂的具体实例，但是本发明不受这些限制。
至于除上面那些外的优选还原剂，可以提及的有：在JP-A2001-188314、2001-209145、2001-350235和2002-156727，和EP 1278101A2中公开的化合物。
优选在包含具有高敏感度的卤化银乳剂的图像形成层中包含还原剂。
在使用多种还原剂的情况下，组合mol比为1/99至99/1，优选为5/95至95/5。
3)还原剂的加入方法
在本发明中，可以将还原剂加入在到涂布溶液中，如以溶液、乳液分散体、固体微粒分散体的形式等，来将还原剂结合在热显影感光材料中。至于公知的乳液分散方法，可以提及这样一种方法，该方法包含：将成核剂溶解于油例如邻苯二甲酸二丁酯、磷酸三甲酚酯、癸二酸二辛酯、磷酸三(2-乙基己基)酯等中，使用助溶剂如乙酸乙酯和环己酮等，然后加入表面活性剂例如十二烷基苯磺酸钠、油酸-N-甲基牛磺酸钠、二(2-乙基己基)磺基琥珀酸钠等；由此机械制备乳剂分散体。在该方法的过程中，为了控制油滴的粘度和折射指数，优选加入聚合物例如α-甲基苯乙烯低聚物、聚(叔-丁基丙烯酰胺)等。
至于固体颗粒分散方法，可以提及这样一种方法，该方法包含：通过球磨机、胶体磨、振动球磨机、砂磨机、喷射磨机、辊磨机或超声波，在合适溶剂例如水等中分散还原剂的粉末，由此得到固体分散体。在这种情况下，还可以使用保护胶体(例如聚乙烯醇)，或表面活性剂(例如，阴离子表面活性剂如三异丙基萘磺酸钠(三异丙基在不同取代位置的混合物))。在上面所列举的磨机中，作为分散介质通常使用的是氧化锆等制成的珠粒，并且从珠粒中洗脱出的Zr等有时可以结合在分散体中。根据分散条件，通常结合在分散体中的Zr量为1ppm至1000ppm。只要光敏材料中结合的Zr为0.5mg或以下/1g银时，实践上是可以接受的。
优选在水分散体中加入防腐剂(例如，苯并异噻唑啉酮钠盐)。
特别优选将还原剂作为固体颗粒分散体使用，且加入的微粒的平均颗粒大小为0.01μm至10μm，优选0.05μm至5μm，更优选0.1μm至2μm。在本发明中，还优选使用具有此颗粒大小范围的其它固体分散体。
(邻苯二甲酸及其衍生物)
在本发明中，优选热显影感光材料包含选自邻苯二甲酸或其衍生物的化合物，与碘化银配位化合物形成剂组合。至于本发明中使用的邻苯二甲酸及其衍生物，优选由下式(PH)表示的化合物：
式(PH)
Figure A20051007800300721
其中，T表示选自卤素原子(氟、溴或碘原子)、烷基、芳基、烷氧基或硝基中的一种；k表示0至4的整数，且当k为2或以上时，多个k可以彼此相同或不同，优选k为0至2，更优选为0或1。
考虑到容易加入至涂布溶液中和考虑到pH的调节，可以仅作为酸使用由式(PH)表示的化合物，或可以作为适当的盐使用。结果，可以使用碱金属盐、铵盐、碱土金属盐、胺盐等。优选碱金属(Li、Na、K等)盐和铵盐。
在本发明中使用的邻苯二甲酸及其衍生物描述如下，但是，本发明不受这些化合物的限制。
在本发明中，邻苯二甲酸或其衍生物的加入量为1.0×10-4至1mol，优选为尔1.0×10-3至0.5mol，更优选为2.0×10-3至0.2mol/mol涂布银。
(显影促进剂)
在本发明的热显影感光材料中，作为显影促进剂，优选使用：JP-A2000-267222的说明书所述的亚磺酰氨基酚化合物，和JP-A 2000-330234的说明书中所述的式(A)表示的亚磺酰氨基酚化合物；JP-A 2001-92075中所述的式(II)表示的受阻酚化合物；JP-A 10-62895的说明书中所述的肼化合物、JP-A 11-15116的说明书中所述的式(I)表示的肼化合物、JP-A2002-156727中所述的式(D)表示的肼化合物、和JP-A 2002-278017的说明书中所述的式(I)表示的肼化合物；以及JP-A 2001-264929的说明书中所述的式(2)表示的苯酚或萘酚(naphthalic)化合物。上面所述的显影促进剂的用量相对于还原剂为0.1mol％至20mol％，优选为0.5mol％至10mol％，更优选为1mol％至5mol％。引入至光敏材料中的方法可以包括与还原剂所用的那些方法相同的方法，且特别优选以固体分散体或乳液分散体形式将其加入。在以乳液分散体的形式加入的情况下，优选通过使用常温下为固态的高沸点溶剂和低沸点的辅助溶剂而分散的乳液分散体加入，或者在不使用高沸点溶剂的条件下作为所谓的无油乳液分散体加入。
在本发明中，在上面所述的显影促进剂中，特别优选使用JP-A2002-278017中所述的式(1)表示的肼化合物，以及JP-A 2001-264929描述的式(1)表示的苯酚或萘酚化合物。
本发明的显影促进剂的优选具体实例描述如下，但是，本发明不受它们的限制。
Figure A20051007800300751
(氢键键合化合物)
在本发明中，在还原剂具有芳族羟基(-OH)或氨基的情况下，优选组合使用具有能够与还原剂的这些基团反应的基团的非还原性化合物，即还可以与此形成氢键的基团的非还原性化合物。
至于能够形成氢键的基团，可以提及的有：磷酰基、亚砜基、磺酰基、羰基、酰胺基、酯基、氨基甲酸酯基、脲基、叔氨基、含氮芳族基团等。在它们中，优选磷酰基、亚砜基、酰胺基(不具有＞N-H部分，但是以＞N-Ra的形式被封端(其中，Ra表示除H之外的取代基))，氨基甲酸酯基(不具有＞N-H部分，但是以＞N-Ra的形式被封端(其中，Ra表示除H之外的取代基))，以及脲基(不具有＞N-H部分，但是以＞N-Ra的形式被封端(其中，Ra表示除H之外的取代基))。
在本发明中，作为氢键键合化合物，特别优选的是由下式(D)表示的化合物：
式(D)
Figure A20051007800300761
在式(D)中，R21至R23各自独立地表示选自下列中的一种：烷基、芳基、烷氧基，芳氧基、氨基或杂环基，它们可以取代或未取代的。
在R21至R23含有取代基的情况下，取代基的实例包括：卤素原子、烷基、芳基、烷氧基、氨基、酰基、酰氨基、烷硫基、芳硫基、氨磺酰基、酰氧基、氧基羰基、氨基甲酰基、氨磺酰基、磺酰基、磷酰基等，其中，作为取代基，优选烷基或芳基，例如甲基、乙基、异丙基、叔丁基、叔辛基、苯基、4-烷氧基苯基、4-酰氧基苯基等。
由R21至R23表示的烷基的具体实例包括：甲基、乙基、丁基、辛基、十二烷基、异丙基、叔丁基、叔戊基、叔辛基、环己基、1-甲基环己基、苄基、苯乙基、2-苯氧基丙基等。
至于芳基，可以提及的有：苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基、4-叔丁基苯基、4-叔辛基苯基、4-甲氧苯胺基(anisidyl)、3，5-二氯苯基等。
至于烷氧基，可以提及的有：甲氧基、乙氧基、丁氧基、辛氧基、2-乙基己氧基、3，5，5-三甲基己氧基、十二烷氧基、环己氧基、4-甲基环己氧基、苄氧基等。
至于芳氧基，可以提及的有：苯氧基、甲苯氧基、异丙基苯氧基、4-叔-丁基苯氧基、萘氧基、联苯氧基等。
至于氨基，可以提及的有：二甲基氨基、二乙基氨基、二丁基氨基、二辛基氨基、N-甲基-N-己基氨基、二环己基氨基、二苯基氨基、N-甲基-N-苯基氨基等。
作为R21至R23，优选烷基、芳基、烷氧基和芳氧基。考虑到本发明的效果，优选R21至R23中至少有一个或多个为烷基或芳基，且更优选它们中的两个或多个为烷基或芳基。考虑到低成本可获得性，优选R21至R23为相同的基团。
本发明由式(D)表示的化合物的氢键键合化合物的具体实例如下所示，但是，本发明不受这些限制。
Figure A20051007800300791
除了上面所列举的那些外，氢键键合化合物的具体实例可以在JP-A2001-281793和2002-14438中所述的那些中发现。
类似于还原剂的的情况，本发明的氢键键合化合物可以以溶液、乳液分散体或固体微粒分散体形式结合入涂布溶液中而用于热显影感光材料中。在溶液中，根据还原剂和由式(D)所示化合物之间的组合，本发明的氢键键合化合物与含酚式羟基的化合物形成氢键配位化合物，可以以结晶状态作为配位化合物而被分离出来。
特别优选以固体微粒分散体形式使用由此分离出来的晶体粉末，因为它提供稳定的性能。此外，也可以优选使用如下方法：将还原剂和本发明的氢键键合化合物以粉末形式混合，使用砂磨机等用适宜的分散剂将它们分散而使它们形成配位化合物。
优选本发明中使用的氢键键合化合物相对于还原剂的用量为1mol％至200mol％，更优选为10mol％至150mol％，进一步优选为30mol％至100mol％。
(粘合剂)
可以将任何种类的聚合物用作本发明图像形成层用的粘合剂。合适的粘合剂是透明或半透明的那些，且通常是无色的，例如天然树脂或聚合物及它们的共聚物；合成树脂或聚合物及它们的共聚物；或形成薄膜的介质；例如，包括明胶，橡胶，聚(乙烯醇)，羟乙基纤维素，乙酸纤维素，乙酸丁酸纤维素，聚(乙烯吡咯烷酮)，酪蛋白，淀粉，聚(丙烯酸)，聚(甲基甲基丙烯酸)，聚(氯乙烯)，聚(甲基丙烯酸)，苯乙烯-马来酸酐共聚物，苯乙烯-丙烯腈共聚物，苯乙烯-丁二烯共聚物，聚(乙烯醇缩醛)(例如，聚(乙烯醇缩甲醛)或聚(乙烯醇缩丁醛))，聚酯，聚氨酯，苯氧基树脂，聚(偏1，1-二氯乙烯)，聚环氧化合物，聚碳酸酯，聚(乙酸乙烯酯)，聚烯烃，纤维素酯和聚酰胺。粘合剂可以与水、有机溶剂或乳剂使用，以形成涂布溶液。
在本发明中，图像形成层的粘合剂的玻璃化转变温度(Tg)优选为10℃至80℃，更优选为20℃至70℃，且再更优选为23℃至65℃。
本说明书中，Tg根据下面的等式计算：
1/Tg＝∑(Xi/Tgi)
其中聚合物是通过共聚n(i＝1至i＝n)种单体组分而得到；Xi表示第i种单体的质量分数(∑Xi＝1)，且Tgi表示用第i种单体得到的均聚物的玻璃化转变温度(绝对温度)。符号∑表示从i＝1至i＝n之和。由每一种单体衍生的均聚物的玻璃化转变温度(Tgi)的值，获自于J.Brandrup和E.H.Immergut，Polymer Handbook(第3版)(Wiley-Interscience，(1989)。
需要时，可以使用一种或两种或多种粘合剂。此外，可以将Tg为20℃或以上的聚合物与Tg低于20℃的聚合物组合使用。在将两种或多种具有不同Tg值的聚合物混合使用的情况下，优选其重均Tg在上述的范围内。
本发明中，在下面的情况下，可以改善性能：在图像形成层首先通过涂布在深剂中含有30重量％或以上的水的涂布溶液，然后通过干燥而形成的情况下，此外，在图像形成层中的粘合剂可溶于或分散于水性溶剂(水溶剂)的情况下，特别是使用在25℃和60％RH下的平衡水含量为2重量％或以下的聚合物胶乳情况下。
这样制备最优选的实施方案，以获得的离子电导率为2.5mS/cm或以下，且作为这种制备方法，可以提及的有：在合成聚合物后，用分离功能膜进行精制处理的方法。
如此处所指的，聚合物可溶于或分散于其中的水性溶剂是指水、或者含有混合其中的70重量％或以下的水混溶性有机溶剂的水。
至于水混溶性有机溶剂，可以使用例如醇类如甲醇、乙醇和丙醇等；溶纤剂如甲基溶纤剂、乙基溶纤剂和丁基溶纤剂等；乙酸乙酯、二甲基甲酰胺等。
如此处所指的，术语“在25℃和60％RH下的平衡水含量”可以表示如下：
在25℃和60％RH下的平衡水含量
＝[(W1-W0)/W0]×100(重量％)
其中，W1是在25℃和60％RH的气氛中处于湿度受控平衡下的聚合物重量，W0是聚合物在25℃的绝对干燥重量。
至于水含量的定义和测量方法，可以参考Polymer Engineering Series14，“Testing methods for polymeric materials”(The Society of PolymerScience，Japan，由Chijin Shokan出版)。
在25℃和60％RH下的平衡水含量优选为2重量％或以下，更优选为0.01重量％至1.5重量％，且最优选为0.02重量％至1重量％。
在本发明中使用的粘合剂特别优选为可以分散在水性溶剂中的聚合物。分散状态的实例可以包括：其中水不溶性疏水聚合物的微粒分散的胶乳，或者是这样的，其中聚合物分子以分子状态或通过形成胶束而分散，但是优选为胶乳分散颗粒。分散颗粒的平均颗粒大小优选为1nm至50,000nm，更优选为5nm至1,000nm。对于分散颗粒的颗粒大小分布没有特别限制，且它们可以宽范围分布，或者可以具有单分散性颗粒大小分布。
在本发明中，可以分散在水性溶剂中的聚合物的优选实施方案包括疏水性聚合物，例如丙烯酸聚合物，聚(酯)，橡胶(例如SBR树脂)，聚氨酯，聚(氯乙烯)，聚(乙酸乙烯酯)，聚(偏1，1-二氯乙烯)、聚烯烃等。至于上面的聚合物，可以使用线性聚合物，支化聚合物，或交联聚合物；还可以使用其中单种单体聚合的所谓均聚物，或其中两种或多种单体聚合的共聚物。在共聚物的情况下，它可以是无规共聚物或嵌段共聚物。
这些聚合物以数均分子量表示的分子量为5,000至1,000,000，优选为10,000至200,000。分子量太低的聚合物在形成图像形成层时机械强度不够，分子量太大的那些聚合物则因薄膜形成性能差而不优选。
优选的聚合物胶乳的具体实例如下，它们用原料单体表示，其中在括号中给出重量％。分子量以数均分子量给出。在使用多官能团单体的情况下，因为它们形成交联结构而不能使用分子量的概念。因此，将它们表示“交联”，且省略分子量。Tg表示玻璃化转变温度。
P-1：-MMA(70)-EA(27)-MAA(3)-的胶乳(分子量37000，Tg 61℃)
P-2：-MMA(70)-2EHA(20)-St(5)-AA(5)-的胶乳(分子量40000，Tg 59℃)
P-3：-St(50)-Bu(47)-MMA(3)-的胶乳(交联，Tg-17℃)
P-4：-St(68)-Bu(29)-AA(3)-的胶乳(交联，Tg 17℃)
P-5：-St(71)-Bu(26)-AA(3)-的胶乳(交联，Tg 24℃)
P-6：-St(70)-Bu(27)-IA(3)-的胶乳(交联)
P-7：-St(75)-Bu(24)-AA(1)-的胶乳(交联，Tg 29℃)
P-8：-St(60)-Bu(35)-DVB-(3)-MAA(2)-的胶乳(交联)
P-9：-St(70)-Bu(25)-DVB-(2)-AA(3)-的胶乳(交联)
P-10：-VC(50)-MMA(20)-EA(20)-AN(5)-AA(5)-的胶乳(分子量80000)
P-11：-VDC(85)-MMA(5)-EA(5)-MAA(5)-的胶乳(分子量67000)
P-12：-Et(90)-MAA(10)-的胶乳(分子量12000)
P-13：-St(70)-2EHA(27)-AA(3)-的胶乳(分子量130000，Tg 43℃)
P-14：-MMA(63)-EA(35)-AA(2)-的胶乳(分子量33000，Tg 47℃)
P-15：-St(70.5)-Bu(26.5)-AA(3)-的胶乳(交联，Tg 23℃)
P-16：-St(69.5)-Bu(27.5)-AA(3)-的胶乳(交联，Tg 20.5℃)
P-17：-St(61.3)-异戊二烯(35.5)-AA(3)-的胶乳(交联，Tg 17℃)
P-18：-St(67)-异戊二烯(28)-Bu(2)-AA(3)-的胶乳(交联，Tg 27℃)
在上面的结构中，缩写表示如下单体。MMA：甲基丙烯酸甲酯，EA：丙烯酸乙酯，MAA：甲基丙烯酸，2EHA：丙烯酸(2-乙基己)酯，St：苯乙烯，Bu：丁二烯，AA：丙烯酸，DVB：二乙烯基苯，VC：氯乙烯，AN：丙烯腈，VDC：偏1，1-二氯乙烯，Et：乙烯，IA：衣康酸。
上面所述的聚合物胶乳可商购，且可以使用如下聚合物。至于丙烯酸聚合物的实例，可以提及的有：Cevian A-4635，4718和4601(都是由DaicelChemical Industry，Ltd.制备)，Nipol Lx 811，814，821，820和857(都是由Nippon Zeon Co.，Ltd.制备)等；至于聚(酯)的实例，可以提及的有：FINETEXES650，611，675和850(都是由Dainippon Ink and Chemicals Inc.制备)，WD-size和WMS(都是由Eastman Chemical Co.制备)等；至于聚氨酯的实例，可以提及的有：HYDRAN AP10，20，30和40(都是由Dainippon Inkand Chemicals Inc.制备)等；至于橡胶的实例，可以提及的有：LACSTAR7310K，3307B，4700H和7132C(都是由Dainippon Ink and Chemicals Inc.制备)，Nipol Lx416，410，438C和2507(都是由Nippon Zeon Co.，Ltd.制备)等；至于聚(氯乙烯)的实例，可以提及的有：G351和G576(都是由Nippon Zeon Co.，Ltd.制备)等；至于聚(偏1，1-二氯乙烯)的实例，可以提及的有：L502和L513(都是由Asahi Kasei Industry Co.，Ltd.制备)；至于聚烯烃的实例，可以提及的有：Chemipearl S120和SA100(都是由MitsuiPhotochemical Industries，Tld.制备)等。
上面所述的聚合物胶乳可以单独使用，或根据需要，可以两种或多种混合使用。
作为本发明使用的聚合物胶乳，特别优选苯乙烯-丁二烯共聚物胶乳和苯乙烯-异戊二烯共聚物胶乳。构成苯乙烯-丁二烯共聚物的苯乙烯单体单元与丁二烯单体单元的重量比优选为40∶60至95∶5。此外，优选苯乙烯单体单元与丁二烯单体单元相对于共聚物占60重量％至99重量％。
此外，本发明的聚合物胶乳优选含有相对于苯乙烯和丁二烯之和1重量％至6重量％的丙烯酸或甲基丙烯酸，更优选为2重量％至5重量％。本发明中的聚合物胶乳优选含有丙烯酸。单体含量的优选范围类似于上面所述的范围。此外，在苯乙烯-异戊二烯共聚物中的共聚比率等类似于苯乙烯-丁二烯共聚物的那些。
至于本发明优选使用的苯乙烯-丁二烯共聚物胶乳，可以提及的有：上述的P-3至P-9和P-15，以及商购的LACSTAR-3307B，7132C，NipolLx416等。而且至于苯乙烯-异戊二烯共聚物，可以提及的有：上述的P-17和P-18。
在根据本发明的热显影感光材料的图像形成层中，如果需要，可以加入亲水性聚合物例如明胶、聚(乙烯醇)、甲基纤维素、羟丙基纤维素、羧甲基纤维素等。
优选亲水性聚合物的加入量相对于图像形成层中结合的粘合剂的总量为30重量％或以下，更优选为20重量％或以下。
根据本发明，优选通过使用用于粘合剂的聚合物胶乳来形成含有机银盐的层(即图像形成层)。根据图像形成层用的粘合剂的量，全部粘合剂与有机银盐的重量比优选为1/10至10/1，更优选为1/5至4/1。
含有机银盐的层通常是含光敏卤化银即光敏银盐的光敏层(图像形成层)；在这种情况下，全部粘合剂与卤化银的重量比(全部粘合剂/卤化银)优选为400至5，更优选为200至10。
本发明的图像形成层中粘合剂的总量优选为0.2g/m2至30g/m2，更优选为1g/m2至15g/m2。至于本发明的图像形成层，可以加入用于交联的交联剂，或用于改善涂布性能的表面活性剂等
本发明中，本发明的光敏材料中图像形成层涂布溶液的溶剂(为了简单起见，溶剂和分散剂统被称作溶剂)优选为含30重量％或以上水的水性溶剂。除水外的溶剂实例可以包括：任何水混溶性有机溶剂，例如甲醇，乙醇，异丙醇，甲基溶纤剂，乙基溶纤剂，二甲基甲酰胺，乙酸乙酯等。溶剂中的含水量优选为50重量％或以上，还更优选为70重量％或以上。
除水＝100外，优选的溶剂组合物的具体实例是这样的组合物：其中包含甲醇的比例为水/甲醇＝90/10至水/甲醇＝70/30，其中还包含二甲基甲酰胺的比例为水/甲醇/二甲基甲酰胺＝80/15/5，其中还包含乙基溶纤剂的比例为水/甲醇/乙基溶纤剂＝85/10/5，及其中还包含异丙醇的比例为水/甲醇/异丙醇＝85/10/5(上面所示的数字是以重量％表示的值)。
(防灰雾剂)
1)有机多卤素化合物
优选本发明的热显影感光材料包含由下面式(H)表示的化合物作为防灰雾剂：
式(H)
Q-(Y)n-C(Z1)(Z2)X
在式(H)中，Q表示选自烷基、芳基或杂环基中的一种；Y表示二价连接基团；n为0至1；Z1和Z2各自独立表示卤素原子；且X表示氢原子或吸电子基团。
Q优选表示被吸电子基团取代的苯基，其中吸电子基团的哈米特取代基常数σp取正值。至于哈米特取代基常数的详细内容，可以参考Journal ofMedicinal Chemistry，16卷，11(1973)，第1207至1216页等。
至于这种吸电子基团，实例包括：卤素原子(氟原子(σp值：0.06))、氯原子(σp值：0.23)、溴原子(σp值：0.23)、碘原子(σp值：0.18)、三卤甲基(三溴甲基(σp值：0.29))、三氯甲基(σp值：0.33)、三氟甲基(σp值：0.54)、氰基(σp值：0.66)、硝基(σp值：0.78)、脂族芳基磺酰基或杂环磺酰基(例如甲烷磺酰(σp值：0.72))、脂族芳基酰基或杂环酰基(例如，乙酰基(σp值：0.50))和苯甲酰基(σp值：0.43)、炔基(例如C≡CH(σp值：0.23))、脂族芳基氧基羰基或杂环氧基羰基(例如，甲氧基羰基(σp值：0.45))和苯氧基羰基(σp值：0.44)、氨基甲酰基(σp值：0.36)、氨磺酰基(σp值：0.57)、亚砜基、杂环基、磷酰基等。
σp值的优选范围为0.2至2.0，更优选为0.4至1.0。
作为吸电子基团，优选氨基甲酰基，烷氧羰基，烷基磺酰基，烷基磷酰基，羧基，烷基羰基，芳基羰基和芳基磺酰基。它们中，特别优选氨基甲酰基，烷氧羰基，烷基磺酰基和烷基磷酰基，并且最优选氨基甲酰基。
优选X是吸电子基团，更优选为卤素原子、脂族芳基磺酰基、杂环磺酰基、脂族芳基酰基、杂环酰基、脂族芳基氧基羰基、杂环氧基羰基、氨基甲酰基或氨磺酰基；它们中，特别优选为卤素原子。
在卤素原子中，优选为氯原子、溴原子和碘原子；更优选为氯原子和溴原子；且特别优选为溴原子。
优选Y表示-C(O)-、-SO-或-SO2-；更优选为-C(＝O)-或-SO2-；且特别优选为-SO2-。N表示0或1，优选表示1。
由式(H)表示的化合物的具体实例如下所示，但是本发明不受这些限制。
在每种情况下，对于图像形成层中结合的每1mol的非光敏银盐，优选本发明由式(H)表示的化合物的使用量为10-4mol至0.8mol，更优选10-3mol至0.1mol，并更优选5×10-3mol至0.05mol。
特别地，在使用根据本发明的具有高碘化银含量组成的卤化银的情况下，为了得到足够的防灰雾效果，由式(H)表示的化合物的加入量是重要的，最优选化合物的使用量为5×10-3至0.03mol。
在本发明中，将由式(H)表示的化合物结合入光敏材料的方法描述于结合上述还原剂的方法。
由式(H)表示的化合物的熔点优选为200℃或以下，更优选170℃或以下。
用于本发明中的其它有机多卤素化合物的实例公开于JP-A 11-65021第0111和0112段中。其优选实例是由JP-A 11-87297中所述的式(P)表示的有机卤素化合物，在JP-A 10-339934中所述的式(II)表示的有机多卤素化合物，和在JP-A 2001-33911中所述的有机多卤素化合物。
2)其它防灰雾剂
至于其它防灰雾剂，可以提及JP-A 11-65021的第0113段中所述的汞(II)盐，同一文献的第0114段中所述的苯甲酸类，JP-A 2000-206642中所述的水杨酸衍生物，JP-A 2000-221634的式(S)表示的甲醛清除剂化合物，JP-A 11-352624的权利要求9所述的三嗪化合物，JP-A 6-11791的式(II)表示的化合物，4-羟基-6-甲基-1，3，3a，7-四氮杂茚(tetrazaindene)等。
至于在本发明中使用的防灰雾剂、稳定剂和稳定剂前体，可以提及JP-A 10-62899的第0070段和EP 0803764A1的第20页第57行至第21页第7行中所述的那些，在JP-A 9-281637和9-329864中所述的化合物。
为了防止成灰雾，本发明的热显影感光材料还可以含有唑鎓(azolium)盐。本发明的有用的唑鎓盐的实例包括：JP-A 59-193447的式(XI)表示的化合物，JP-A 55-12581中所述的化合物和JP-A 60-153039的式(II)表示的化合物。可以将唑鎓盐加入至热显影感光材料的任何部分中，但是，优选选择在其上具有图像形成层的侧上的层，更优选选择地加入至图像形成层本身。
可以在制备涂布溶液的过程中的任何时间加入唑鎓盐；在向含图像形成层中加入唑鎓盐的情况下，可以选择在该过程的任何时间，从制备有机银盐至制备涂布溶液，但是，优选在制备有机银盐之后和刚好在涂布之前加入该盐。至于唑鎓盐的加入方法，使用粉末、溶液、微粒分散体等的任何方法都可以使用。此外，可以作为在其中混合有其它添加剂如敏化染料、还原剂、调色剂等的溶液加入。
在本发明中，可以以任何量加入唑鎓盐，但是，优选以1×10-6mol至2mol/mol的银，更优选1×10-3mol至0.5mol/mol的银的量将加入。
(其它添加剂)
1)巯基化合物、二硫化物和硫酮
在本发明中，可以加入巯基化合物、二硫化物化合物和硫酮化合物，以通过抑制或加强显影来控制显影，以改善光谱敏化效率，或以改善显影之前和之后的贮存性能。描述可以发现于：在JP-A 10-62899第0067至0069段中，由JP-A 10-186572的式(I)表示的化合物及其第0033至0052段中所示的具体实例，EP 0803764A1的第20页第36至56行，JP-A 2001-100358中。在它们当中，优选巯基取代的杂环芳族化合物。
2)调色剂
在本发明的热显影感光材料中，优选加入调色剂。调色剂的描述可以发现于：JP-A 10-62899(第0054至0055段)、EP 0803764A1(第21页第23至48行)、JP-A 2000-356317和2000-187298中。优选的是酞嗪酮类(phthalazinones)(酞嗪酮、酞嗪酮衍生物及其金属盐，(例如，4-(1-萘基)酞嗪酮，6-氯酞嗪酮，5，7-二甲氧基酞嗪酮，和2，3-二氢-1，4-酞嗪二酮))；酞嗪酮和邻苯二甲酸类(例如，邻苯二甲酸，4-甲基邻苯二甲酸，4-硝基邻苯二甲酸，邻苯二甲酸二铵，邻苯二甲酸钠，邻苯二甲酸钾，和四氯邻苯二甲酸酐)的组合；酞嗪类(酞嗪，酞嗪衍生物及其金属盐；(例如，4-(1-萘基)酞嗪，6-异丙基酞嗪，6-叔丁基酞嗪，6-氯酞嗪，5，7-二甲氧基酞嗪，和2，3-二氢酞嗪)；酞嗪和邻苯二甲酸的组合。特别是与具有高碘化银含量的卤化银组合时，优选酞嗪类和邻苯二甲酸类的组合。优选酞嗪类的量为0.01mol至0.3mol/mol的有机银盐，更优选0.02mol至0.2mol/mol的有机银盐，特别优选0.02mol至0.1mol/mol的有机银盐。该化合物的加入量对于促进本发明使用的具有高碘化银含量的卤化银乳剂的显影是一个非常重要的因素。加入量的适宜选择可以能够提供满意的显影性能，同时抑制灰雾。
3)增塑剂和润滑剂
本发明的图像形成层中可使用的增塑剂和润滑剂描述于JP-A11-65021的第0117段中。润滑剂描述于JP-A 11-84573的第0061至0064段中。
4)染料和颜料
考虑到改善色调，防止通过激光曝光的干涉条纹的产生和防止辐射，在本发明中的图像形成层中可以使用各种染料或颜料(例如，C.I.颜料蓝60，C.I.颜料蓝64，C.I.颜料蓝15:6)。可以在WO 98/36322，JP-A 10-268465和11-338098等中找到其详细描述。
5)成核促进剂
成核促进剂可以与本发明的成核剂一起使用。至于成核促进剂，可以在JP-A 11-65021的第0102段和JP-A 11-223898第0194至0195段中发现。
至于成核促进剂，优选将其与五氧化二磷水合得到的酸，或其盐用。五氧化二磷水合得到的酸或其盐包括：偏磷酸(盐)，焦磷酸(盐)，正磷酸(盐)，三磷酸(盐)，四磷酸(盐)，和六偏磷酸(盐)等。特别优选可以通过五氧化二磷水合得到的酸或其盐包括：正磷酸(盐)和六偏磷酸(盐)。作为盐具体提及的有：正磷酸钠，正磷酸二氢钠，六偏磷酸钠，六偏磷酸铵等。
可以根据敏感度和成灰雾性等，需要时设定通过五氧化二磷水合得到的酸或其盐的加入量(每m2热显影感光材料的涂布量)，但是优选为0.1mg/m2至500mg/m2，更优选为0.5mg/m2至100mg/m2。
(涂布溶液的制备和涂布)
用于制备本发明图像形成层用的涂布溶液的温度优选为30℃至65℃，更优选为35℃或以上且低于60℃，且进一步优选为35℃至55℃。此外，在加入聚合物胶乳后，优选立即将图像形成层涂布溶液保持在30℃至65℃。
2.X射线图像形成方法
本发明的热显影感光材料可以是在载体的一个面上具有图像形成层的“单面型”，或在载体的双面上具有图像形成层的“双面型”。
(双面型热显影感光材料)
本发明的热显影感光材料优选用于图像形成方法，以使用荧光增强屏记录X射线图像。至于图像形成方法，可以优选使用下面描述的热显影感光材料：当用具有与荧光增强屏的主发射峰波长相同的波长和15nm±5nm的半带宽度的单色光曝光热显影感光材料且在热显影过程之后，通过去除在曝光面背面上安置的图像形成层而得到的图像而言，灰雾+5需要的密度所需要的曝光值为1×10-6瓦.sec/m2至1×10-3瓦.sec/m2，优选6×10-6瓦.sec/m2至6×10-4瓦.sec/m2。
使用上面所述的热显影感光材料的图像形成方法包含：
(a)通过将热显影感光材料放置在一对X射线增强屏之间，提供图像形成组件；
(b)在组件和X射线源之间放置分析物；
(c)向分析放照射能级为25kVp至125kVp的X射线；
(d)从组件中取出热显影感光材料；和
(e)在90℃至180℃的温度范围内加热所去除的热显影感光材料。
用于本发明中组件的热显影感光材料通过梯级楔板至进行X射线曝光和进行热显影。通过沿着具有相同的坐标轴单元的直角坐标，具有光密度(D)和曝光量(log E)的照相特征曲线，优选这样调节，以便热显影图像可以具有照相特征曲线，其中使由灰雾+0.1密度的点和灰雾+0.5密度的点的平均灰度系数(γ)为0.5至0.9，并且使由灰雾+1.2密度的点和灰雾+1.6密度的点的平均灰度系数(γ)为3.2至4.0。至于在本发明实践中使用的X射线照相，具有前述照相特性曲线的热显影感光材料的使用将赋予具有优异照相性能的辐射图像，所述的图像具有延长底部的部分和在中间密度区域具有高灰度系数值。根据这种照相性能，所述的照相性能具有限有利之处在于：对于纵隔部分(mediastinal region)上的低密度区域和X射线透光度低的心脏阴影的描绘性能变得优异，密度变得容易观察，且在X射线透光度高的肺野区域的图像中的灰度变得优异。
可以容易地通过例如下面的方法制备具有如上所述优选的照相特征曲线的热显影感光材料：在该方法中，两个面的图像形成层的每个面由含有具有不同敏感度的两层或多层卤化银的图像形成层组成。特别地，前述的图像形成层优选包含：用于上层的高敏感度的乳剂和用于下层的低敏感度和高灰度的乳剂。在制备包含两层的图像形成层的情况下，在每层中的卤化银乳剂之间的敏感度差别优选为1.5倍至20倍，且更优选为2倍至15倍。用于形成每层的乳剂量的比率可以取决于使用的乳剂之间的敏感度差异和覆盖力。通常，随着敏感度差异的增加，高敏感度乳剂的使用量的比率降低。例如，如果敏感度差异为两倍且覆盖力相同，则可以优选将高敏感度乳剂的量与低敏感度乳剂的量的比率按银量计调节为1∶20至1∶50。
不特别限制本发明热显影感光材料的制备中使用的技术例如乳剂敏化方法，添加物的种类和组分。例如，可以使用JP-A 2-68539、2-103037和2-115837中所述的各种技术。
至于交叉切割(crossover cut)(双面光敏材料的情况下)和抗晕(在单面光敏材料的情况下)的技术，可以使用在JP-A 2-68539(第13页左下栏第1行至第14页左下栏第9行)中所述的染料和媒染剂。
接着，将详细描述本发明的荧光增强屏。荧光增强屏基本上包含载体和在载体一个面上形成的荧光物质层作为基本结构。荧光物质层是一种其中荧光物质分散在粘合剂中的层。在载体侧相反的荧光物质层的表面(不面对载体的一面的表面)上，通常安置透明保护层，以保护荧光物质层不被化学退化和物理撞击。
根据本发明优选的荧光物质描述如下。钨酸盐荧光物质(CaWO4，MgWO4，CaWO4:Pb等)，铽活化的稀土金属硫氧化物荧光物质(Y2O2S:Tb，Gd2O2S:Tb，La2O2S:Tb，(Y，Gd)2O2S:Tb，(Y，Gd)2O2S:Tb，Tm等)，铽活化的稀土元素磷酸盐荧光物质(YPO4:Tb，GdPO4:Tb，LaPO4:Tb等)，铽活化的稀土元素卤氧化物荧光物质(LaOBr:Tb，LaOBr:Tb，Tm，LaOCl:Tb，LaOCl:Tb，Tm，LaOBr:Tb，GdOBr:Tb，GdOCl:Tb等)，铥活化的稀土元素卤氧化物荧光物质(LaOBr:Tm，LaOCl:Tm等)，硫酸钡荧光物质(BaSO4:Pb，BaSO4:Eu2+，(Ba，Sr)SO4:Eu2+等)，二价铕活化的碱土金属磷酸盐荧光物质((Ba2PO4)2:Eu2+，(BaPO4)2:Eu2+等)，二价铕活化的碱土金属氟化的卤化物荧光物质(BaFCl:Eu2+，BaFBr:Eu2+，BaFCl:Eu2+，Tb，BaFBr:Eu2+，Tb，BaF2·BaCl·KCl:Eu2+，(Ba，Mg)F2·BaCl·KCl:Eu2+等)，碘化物荧光物质(CsI:Na，CsI:Tl，NaI，KI:Tl等)，硫化物荧光物质(ZnS:Ag(Zn，Cd)S:Ag，(Zn，Cd)S:Cu，(Zn，Cd)S:Cu，Al等)，磷酸铪荧光物质(HfP2O7:Cu等)，和YTaO4以及其中作为发光中心向YTaO4加入各种活化剂的物质。但是，用于本发明的荧光物质特别限于这些具体实例，只要在可见光或近紫外区域通过曝光于射线可以发光。
在本发明使用的荧光增强屏中，优选荧光增强屏以颗粒大小分级结构包装。特别地，优选在表面保护层的一面涂布上具有大颗粒大小的荧光物质颗粒且载体的一面上侧涂布具有小颗粒大小的荧光物质颗粒。因此，优选荧光物质的小颗粒大小为0.5μm至2.0μm，大颗粒大小为10μm至30μm。
(单面型热显影感光材料)
优选将本发明的单面型热显影感光材料用作乳房造影术的X射线光敏材料。为了将单面型热显影感光材料用于该目的，非常重要的是在适宜范围内设计所得到图像的灰度。
下面解释绘制本发明的热显影感光材料的照相特性曲线的方法。至于乳房造影术，通常采用发射低压力X射线的钼靶管作为光束源。但是，只要使用基本上包含含Gd2O2S:Tb的荧光物质的增强屏，由通过距离方法改变X射线曝光值并且使用作为光束源的钨靶管发射的X射线束而得到的照相特性曲线，基本上可以得到与上述相同的结果。
具体而言，至于本发明中所采用的测量方法，使用这样的X射线，其是由三相电力供应在50KVp操作的钨靶管发射的和穿透过厚度为3mm的铝板。使商购的UM-Fine屏和待测量的光敏材料接触，并且安装在由FujiPhoto Film Co.，Ltd.制备的ECMA盒中。在从X射线管可以依次安置盒的顶板、热显影感光材料和增强屏后，进行X射线辐射。在通过距离方法改变X射线曝光值的同时，使组件用按log E计的宽度为0.15的梯级楔板进行曝光。
在确定的条件下，热显影所曝光的热显影感光材料。其后，测量密度，然后得到照相特性曲线，其中在横坐标轴上绘制辐射曝光值的对数，在纵坐标轴上绘制光密度。灰度是由在照相特性曲线上连接灰雾+0.25的密度和灰雾+2.0的密度处的点的直线的斜率(tanθ，当与水平轴的角度为θ时)决定的。乳房造影术用的热显影感光材料的平均斜率优选为3.0至5.0。
接着，解释光照相材料的敏感度的测量方法。至于光源，使用与荧光增强屏的主发射峰波长具有相同的波长的单色光。至于得到这种所需要的单色光的方法，可以使用其中组合干涉滤光器的滤光器系统的方法。根据前述方法，通常，可以容易得到具有需要曝光值和半带宽度为15nm±5nm的单色光，虽然它还取决于所使用的干涉滤光器的组合。
将预选使用照度计适宜测量强度的单色光作为光源。由此，在热显影感光材料和光源相距一米时，用梯级楔板，通过中性滤光器曝光热显影感光材料1秒。在热显影过程后测量密度，可以通过确定得到灰雾+0.5密度所需要的曝光值，来得到热显影感光材料的敏感度。
优选根据本发明的乳房造影术用的热显影感光材料的敏感度为1×10-6瓦.sec/m2至1×10-3瓦.sec/m2，优选6×10-6瓦.sec/m2至6×10-4瓦.sec/m2。
下面详细解释本发明中使用的乳房造影术用的荧光增强屏。要求本发明使用的乳房造影术用的照相组件中使用的荧光增强屏具有比常规的胸部诊断高的图像清晰度。一般来说，商购的乳房造影术用荧光增强屏的图像清晰度通常通过着色荧光物质层来得到提高。但是，在荧光物质内侧面至X射线辐射平面吸收的X射线束发出的光不能有效地从彩色屏发出。至于本发明的荧光增强屏，需要提供这样一种增强屏，其涂布有足以吸收X射线的量的荧光物质涂布，并且在基本不着色荧光物质层的条件下具有高图像清晰度。
为了达到前述屏的目的，优选荧光物质的颗粒大小可以低于固定尺寸。通过库尔特粒度仪或通过电子显微镜观察进行颗粒大小的测量。至于荧光物质的优选颗粒大小，优选荧光物质颗粒的平均当量球直径为1μm至5μm，更优选为为1μm至4μm。虽然上面条件对乳房造影术用的常规增强屏不重要，所述的常规增强屏的荧光物质层着色，但是这对本发明非常重要。
此外，为了提高上面所述屏的清晰度，对于荧光物质层中的粘合剂与荧光物质的重量比，优选使用更少的粘合剂。优选粘合剂/荧光物质的重量比为1/50至1/20，更优选为1/50至1/25。
至于粘合剂，可以使用JP-A 6-75097的第4页右栏第45行至第5页左栏第10行中描述的已知物质。可以优选单独使用或与其它粘合剂聚合物组合使用软化温度或熔化温度为30℃至150℃的热塑性弹性体。特别是对于本发明的增强屏，所述的增强屏包含少量的粘合剂以提高图像清晰度，适当选择使用的粘合剂对于阻止缺陷是非常重要的，因为该屏的耐久性差。选择完全弹性的粘合剂作为解决缺陷的方案是理想的。而且还优选在荧光物质层中加入增塑剂等。至于热塑性弹性体的具体实例，可以描述聚苯乙烯、聚烯烃、聚氨酯、聚酯、聚酰胺、聚丁二烯、乙烯乙酸乙烯酯、天然橡胶、氟化橡胶、聚异戊二烯、氯乙烯、苯乙烯-丁二烯橡胶、硅橡胶等。在它们当中，特别优选聚氨酯。此外，荧光物质层的底涂层用的粘合剂的选择是非常重要的。优选使用丙烯酸酯粘合剂。
为了该屏的耐刮擦和抗玷污性能可以允许的限制，优选表面保护层的厚度薄。优选表面保护层的厚度为2μm至7μm。
至于该屏的表面保护层用的材料，可以优选在其上粘附薄膜例如PET(特别是，拉伸型)、PEN、尼龙等。从防止玷污的角度，该屏的表面保护层优选通过涂布在适当溶剂中溶解的氟化树脂来形成。氟化树脂的优选实施方案详述于JP-A 6-75097的第6页左栏第4行至同页的右栏第43行中。至于适合于形成表面保护层的溶剂涂布型树脂的具体实例，除了氟化树脂外，可以提及的有：聚氨酯树脂、聚丙烯酸酯树脂、纤维素衍生物、聚甲基丙烯酸甲酯、聚酯树脂、环氧树脂等。
此外，荧光物质的填充因素足够高以得到具有高图像清晰度和高敏感度的屏是重要的。具体而言，优选荧光物质的体积填充因素为60％至80％，更优选为65％至80％。为了保持在本发明中荧光物质的微粒中体积填充因素高，优选采用描述于JP-A 6-75097的第4页右栏第29行至第6页第1行的荧光物质层的压缩方法。
优选本发明中使用的荧光物质基本上包含Gd2O2St:Tb。这里描述的术语“基本上”是指荧光物质的主要组分是Gd2O2S:Tb，还可以优选包括几个％改善该屏性能的其它添加剂，和装饰表面的氧化硅等。此外，可以在内部混合数十个％比例的Y、La或Lu代替Gd。
一般地，优选高密度的荧光物质，以有效吸收X射线。至于在乳房造影术用的光束源中具有所需要X射线吸收能力的这种荧光物质，除了Gd2O2S:Tb外，可以提及：YTaO4和作为发射中心向其加入各种活化剂的那些、CaWO4、BaFBr:Eu等。
(与紫外线荧光增强屏组合使用)
至于使用本发明热显影感光材料的图像形成方法，优选组合具有主发射峰在400nm或以下的荧光物质进行图像形成方法。而且更优选组合具有主发射峰在380nm或以下的荧光物质进行图像形成方法。可以将单面光敏材料或双面光敏材料用于组件。至于具有主发射峰在400nm或以下的屏，使用描述于JP-A 6-11804和WO 93/01521等中的屏，但是本发明不受照相限制。至于紫外线光的交叉切割(对于双面光敏材料而言)和抗晕(对于单面光敏材料而言)的技术，可以使用在JP-A 2-68539中所述的技术。至于紫外线吸收染料，特别优选在JP-A 2001-144030中描述的染料。
3.层的构造和其它组成成分
除图像形成层外，本发明的热显影感光材料可以含有非光敏层。根据层的排列，可以将非光敏层分类为：(a)在图像形成层上(在离载体更远的侧上)提供的表面保护层，(b)在多个图像形成层之间或图像形成层和保护层之间提供的中间层，(c)在图像形成层和载体之间提供的底涂层，和(d)在图像形成层相反侧提供的背面层。
此外，还可以提供作为滤光器的层作为上面的(a)或(b)。在热显影感光材料上提供抗晕层作为(c)或(d)。
1)表面保护层
本发明的热显影感光材料可以提供有表面保护层，目的在于防止图像形成层的粘附。表面保护层可以是单层或多层。表面保护层的描述可以在JP-A 11-65021的第0119至0120段和JP-A 2000-171936中发现。
作为本发明的表面保护层的粘合剂，优选明胶，但是也优选聚(乙烯醇)(PVA)代替使用，或组合使用。至于明胶，可以使用惰性明胶(例如，Nitta明胶750)、邻苯二甲酸化的明胶(例如，Nitta明胶801)等。
作为PVA，可使用的是JP-A 2000-171936的第0009至0020段中所述的那些，优选的是有完全皂化的产品PVA-105、部分皂化的产品PVA-205和PVA-335，和改性聚(乙烯醇)MP-203(全部是Kuraray Ltd.的商品名)。
保护层(每层)的聚(乙烯醇)的涂布量(每1m2载体)优选为0.3g/m2至4.0g/m2，更优选为0.3g/m2至2.0g/m2。
表面保护层(每层)的所有粘合剂(包括水溶性聚合物和胶乳聚合物)的涂布量(每1m2载体)优选为0.3g/m2至5.0g/m2，更优选0.3g/m2至2.0g/m2。
2)抗晕层
本发明的热显影感光材料可以包含在相对于图像形成层的曝光源较远的位置上提供的抗晕层。对抗晕层的描述可以在JP-A 11-65021的第0123至0124段、在JP-A 11-223898、9-230531、10-36695、10-104779、11-231457、J11-352625、11-352626等发现。
抗晕层含有在曝光波长下具有吸收作用的抗晕染料。在曝光波长在红外区域的情况下，可以使用红外吸收染料，且在这种情况下，优选在可见光区域没有吸收作用的染料。
在通过使用在可见光区域具有吸收作用来防止出现晕光的情况下，优选染料的颜色在图像形成后基本上不保留，优选采用由热显影的热量来进行脱色的方法；优选向非光敏层中加入热脱色染料和碱性前体，以使该层作为抗晕层。这些技术描述于JP-A 11-231457等中。
根据染料的用量，确定脱色染料的加入量。通常，它以这样的量使用，以便在适宜的波长测量时光密度(吸光率)大于0.1。优选光密度为0.2至2。为了获得在上述范围的光密度，染料的加入量通常为约0.001g/m2至1g/m2。
当采用这种方式脱色染料时，可以将热显影后的光密度降低至0.1或以下。在热显影感光材料中可以组合使用两种或多种脱色染料。类似地，还可以组合使用两种或多种碱性前体。
在组合使用脱色染料和碱性前体进行热脱色的情况下，考虑到热脱色效率，有利的是还使用如JP-A 11-352626中所公开的在与碱性前体混合时熔点降低至少3℃(deg)的物质(例如，二苯砜或4-氯苯基(苯基)砜等)。
3)背面层
本发明中可以使用的背面层描述于JP-A 11-65021的第0128至0130段中。
在本发明中，可以加入吸收最大值在300至450nm波长处的着色剂，以改善显影后银图像的色调和图像在老化期间恶化。这种着色剂描述于JP-A 62-210458、63-104046、63-103235、63-208846、63-306436、63-314535、01-61745和2001-100363等。通常这种着色剂的加入量为0.1mg/m2至1g/m2。优选在光敏层的相反的侧上提供背面层。
4)消光剂
在本发明中，优选在表面保护层和背面层中加入消光剂，以改善运输性。消光剂的描述可以在JP-A 11-65021的第0126至0127中发现。
相对于每1m2热显影感光材料的涂布量，消光剂的加入量优选为1mg/m2至400mg/m2，更优选为5mg/m2至300mg/m2。
不特别限制图像形成层表面上的消光程度，只要出现星团(star dust)困难即可，但是，按贝克(Bekk)光滑度计，消光程度优选为30秒至2000秒，且特别优选为40秒至1500秒。贝克光滑度可以容易地通过日本工业标准(JIS)P8119，“The method of testing Beck’s smoothness for papers and sheetsusing Beck’s test apparatus”或TAPPI standard method T479测量。
当用贝克光滑度表示时，本发明中的背面层消光程度优选为1200秒或以下至10秒或以上；更优选为800秒或以下至20秒或以上；且再更优选为500秒或以下至40秒或以上。
在本发明中，优选将消光剂包含于热显影感光材料的最外层中，在可以作为最外层的层中，或于靠近外表面的层中，且也优选包含在可以作为所谓保护层的层中。
5)聚合物胶乳
可以将聚合物胶乳结合至本发明的热显影感光材料中的表面保护层和背面层中。
至于这种聚合物胶乳，描述可以在“Gosei Jushi Emulsion(Syntheticresin emulsion)”(Taira Okuda and Hiroshi Inagaki，Eds.，由KobunshiKankokai出版(1978))，“Gosei Latex no Oyo(Application of synthetic latex)”(Takaaki Sugimura，Yasuo Kataoka，Soichi Suzuki，and Keiji Kasahara，Eds.，由Kobunshi Kankokai出版(1993))，和“Gosei Latex no Kagaku(Chemistry ofsynthetic latex)”(Soichi Muroi，由Kobunshi Kankokai出版(1970))中发现。更具体而言，可以提及的有：甲基丙烯酸甲酯(33.5重量％)/丙烯酸乙酯(50重量％)/甲基丙烯酸(16.5重量％)共聚物的胶乳，甲基丙烯酸甲酯(47.5重量％)/丁二烯(47.5重量％)/衣康酸(5重量％)共聚物的胶乳，丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸共聚物的胶乳，甲基丙烯酸甲酯(58.9重量％)/丙烯酸(2-乙基己)酯(25.4重量％)/苯乙烯(8.6重量％)/甲基丙烯酸(2-羟乙)酯(5.1重量％)/丙烯酸(2.0重量％)共聚物的胶乳，甲基丙烯酸甲酯(64.0重量％)/苯乙烯(9.0重量％)丙烯酸丁酯(20.0重量％)/甲基丙烯酸(2-羟乙)酯(5.0重量％)/丙烯酸(2.0重量％)共聚物的胶乳等。
优选表面保护层或背面层中的聚合物胶乳的含量为粘合剂总重量的10重量％至90重量％，特别优选为20重量％至80重量％。
6)表面pH
在热显影过程前，本发明的热显影感光材料的表面pH优选为7.0或以下，更优选为6.6或以下。虽然对于表面的pH的下限值没有特别限制，但是pH的下限值约为3。最优选表面pH范围为4至6.2。
从降低表面pH考虑，为了调节表面pH，优选使用有机酸如邻苯二甲酸衍生物或非挥发性酸如硫酸，或挥发性碱如氨。特别有利的是使用氨，来达到低的表面pH，因为它容易汽化以在涂布步骤前或进行热显影前去除。
还优选采用与氨组合使用不挥发性碱如氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂等。测量表面pH值的方法描述于JP-A 2000-284399第0123段中。
7)硬化剂
硬化剂可以在图像形成层、保护层和背面层等的每一层中使用。
至于硬化剂的实例，可以在由T.H.James，“THE THEORY OF THEPHOTOGRAPHIC PROCESS，FOURTH EDITION”(Macmillan PublishingCo.，Inc.，1977)第77至87页中发现各种方法的描述。除了铬明矾，优选使用的是2，4-二氯-6-羟基-s-三嗪有钠盐，N，N-亚乙基二(乙烯基砜乙酰胺)，和N，N-亚丙基二(乙烯砜乙酰胺)，在上面所述的文献第78页中描述的多价金属离子等，在USP 4281060、JP-A 6-208193等中所述的聚异氰酸酯；USP 4791042等中描述的环氧化合物；JP-A 62-89048中描述的乙烯砜化合物。
硬化剂作为溶液加入，且向保护层的涂布溶液中加入该溶液的时间为涂布前180分钟至刚好涂布之前，优选涂布前60分钟至涂布前10秒。但是，对于混合方法和混合条件没有特别限制，只要满意地显示本发明的效果即可。
至于具体的混合方法，可以提及这样一种方法，在贮槽中混合，在所述的贮槽中，控制由加入的流量和涂布器的进料量计算的平均停留时间，得到所需要的时间，或如在N.Harnby，M.F.Edwards，A.W.Nienow，(由Koji Takahashi译)“EKITAI KONGO GIJUTSU(Liquid MixingTechnology)”(Nikkan Kogyo Shinbunsha，1989)第8章中所述的使用静态混合器的方法，等。
8)表面活性剂
至于本发明可使用的表面活性剂，描述可以JP-A 11-65021的第0132段中发现。
在本发明中，优选使用的是氟烃表面活性剂。氟烃表面活性剂的具体实例可以在JP-A 10-197985、2000-19680和2000-214554中发现描述的那些中发现。还可以优选使用描述于JP-A 9-281636中的聚合物氟烃表面活性剂。对于本发明的热显影感光材料，特别优选使用描述于JP-A2000-206560中的氟烃表面活性剂。
9)抗静电剂
本发明的热显影感光材料优选包含包括金属氧化物或导电聚合物的导电层。抗静电层还可以作为底涂层、背面表面保护层等，但是还可以是特别放置。本发明中的抗静电层的具体实例包括：描述于JP-A 11-65021第0135段、在JP-A 56-143430、56-143431、58-62646和56-120519中，和JP-A 11-84573中第0040至0051段、在US-P 5575957，和JP-A 11-223898的第0078至0084段中的那些。
10)载体
至于透明载体，优选使用的是聚酯，特别优选聚对苯二甲酸乙二醇酯，其在130℃至185℃温度范围内进行热处理，以释放由双轴拉伸导致的内应变，和去除归于在热显影处理期间产生的热收缩的应变。
至于与紫外光发射屏组合使用的热显影感光材料的载体，优选使用PEN，但是，本发明不限于此。至于PEN，优选为聚2，6-萘二甲酸乙二醇酯。这里使用的术语“聚2，6-萘二甲酸乙二醇酯”是指重复结构单元基本上是由2，6-萘二甲酸乙二醇酯单元组成，还可以包括未共聚的聚2，6-萘二甲酸乙二醇酯和包含10％或以下，更优选为5％或以下的用其它组分改性的重复结构单元的共聚物，和与其它聚合物的混合物或组合物。通过在适当的催化剂的存在下，在适宜的反应条件下，使萘-2，6-二羧酸或其功能衍生物，和1，2-亚乙基二醇或其功能衍生物反应来合成聚2，6-萘二甲酸乙二醇酯。本发明的聚2，6-萘二甲酸乙二醇酯还可以是共聚或混合聚酯，其中在聚2，6-萘二甲酸乙二醇酯完成之前加入一种或多种适宜的第三组分(改性剂)。至于适宜的第三组分，描述的是含有二价酯形成官能团的化合物，例如，二羧酸如草酸、己二酸、邻苯二甲酸、间苯二甲酸、对苯二甲酸、萘-2，7-二甲酸、琥珀酸和二苯基醚二羧酸，或其低级烷基酯，含氧羧酸如对-羟基苯甲酸和对-氧乙氧基苯甲酸，或其低级烷基酯，和二元醇如丙二醇和亚丙基二醇等。聚2，6-萘二甲酸乙二醇酯及其改性的聚合物还可以包括例如：羧基或羧基端基被单官能化合物所封端的聚合物，所述的单官能化合物如苯甲酸、苯甲酰苯甲酸、苯氧基苯甲酸和甲氧基多烷撑二醇等，或通过极少量的三官能或四官能酯形成化合物如甘油和季戊四醇在得到基本上线性的共聚物的范围内改性的聚合物。
在医用的热显影感光材料的情况下，透明载体可以是用蓝色染料(例如，JP-A 8-240877的实施例中所述的染料-1)着色，或者可以是无色的。
载体的具体实例可以在JP-A 11-65021的第0134段中发现。
向载体上，优选采用下面的底涂技术，例如JP-A 11-84574中描述的水溶性聚酯，JP-A 10-186565中描述的苯乙烯-丁二烯共聚物，JP-A2000-39684描述的偏1，1-二氯乙烯共聚物等。
11)其它添加剂
此外，还可以向热显影感光材料进一步加入抗氧化剂、稳定剂、增塑剂、紫外光吸收剂或薄膜形成促进剂。可以向图像形成层或非图像形成层中加入每种添加剂。可以参考WO 98/36322、EP 803764A1、JP-A10-186567、10-18568等。
12)涂布方法
可以通过任何方法涂布本发明的热显影感光材料。更具体地，使用的是各种涂布操作，包括：挤压涂布，滑动涂布，幕涂，浸涂，刮涂，流涂或USP 2,681,294中所述使用料斗类型的挤压涂布。优选使用在Stephen F.Kistler和Peter M.Shweizer，“LIQUID FILM COATING”(Chapman & Hall，1997)第399至536页中所述的挤压涂布或滑动涂布，特别优选使用的是滑动涂布。
用于滑动涂布的滑动涂布器的形状实例示于同一文献的第427页的图11b.1中。如果需要，可以通过在同一文献的第399至536页中所述的方法，或USP 2761791和英国专利837095中所述的方法同时涂布两层或多层。
本发明中用于图像形成层的涂布溶液优选为所谓的触变流体。至于该技术，可以参考的是JP-A 11-52509。
优选本发明中用于图像形成层的涂布溶液的粘度在0.1S-1剪切速度下为400mPa·s至100,000mPa·s，更优选为500mPa·s至20,000mPa·s。
在1000S-1剪切速度下，优选粘度为1mPa·s至200mPa·s，且更优选为5mPa·s至80mPa·s。
13)包装材料
为了抑制本发明的热显影感光材料在使用前贮存期间照相性能的波动，或为了防止热显影感光材料以卷拢状态生产时改善卷曲或缠绕倾向，优选使用具有低的氧渗透系数和/或蒸汽渗透系数的包装材料。优选于25℃的氧渗透系数为50mL·atm-1m-2·天或以下，更优选为10mL·atm-1m-2·天或以下，且再更优选1.0mL·atm-1m-2·天或以下。优选蒸汽渗透系数为10g·atm-1m-2·天或以下，更优选为5g·atm-1m-2·天或以下，且再更优选为1g·atm-1m-2·天或以下。具有低的氧渗透系数和/或蒸汽渗透系数的包装材料的具体实例可以参考例如在JP-A 8-254793和2000-206653中所述的包装材料。
14)其它可应用的技术
可以用于本发明的热显影感光材料的技术还包括在EP 803764A1、EP883022A1、WO 98/36322、JP-A 56-62648和58-62644、JP-A 09-43766、09-281637、09-297367、09-304869、09-311405、09-329865、10-10669、10-62899、10-69023、10-186568、10-90823、10-171063、10-186565、10-186567、10-186569至10-186572、10-197974、10-197982、10-197983、10-197985至10-197987、10-207001、10-207004、10-221807、10-282601、10-288823、10-288824、10-307365、10-312038、10-339934、11-7100、11-15105、11-24200、11-24201、11-30832、11-84574、11-65021、11-109547、11-125880、11-129629、11-133536至1-133539、11-133542、11-133543、11-223898、11-352627、11-305377、11-305378、11-305384、11-305380、11-316435、11-327076、11-338096、11-358098、11-338099和11-343420、JP-A 2000-187298、2001-200414、2001-234635、2002-20699、2001-275471、2001-275461、2000-313204、2001-292844、2000-324888、2001-293864和2001-348546中的那些。
4.热显影方法
本发明的图像形成方法是一种其中图像通过如下形成的图像形成方法：对热显影感光材料进行成影像曝光，并且用具有加热装置的热显影装置进行热显影，且特征在于，在刚好热显影之前，在40℃至105℃的温度加热该材料0.1秒至90秒(这里称为预热)。优选预热温度为60℃至100℃，预热时间为1秒至40秒。
4-1.热显影
虽然可以将任何方法用于本发明的热显影感光材料的显影，但是通常通过提高成影像曝光的热显影感光材料的温度来进行热显影方法。显影的温度优选为高于105℃，更优选为110℃至130℃。
优选显影时间为1秒至60秒，更优选为3秒至40秒，特别优选为5秒至30秒。
在热显影的过程中，可以使用鼓型加热器或板型加热器，但是优选板型加热器。优选的通过板型加热器的热显影的方法描述于JP-A 11-133572，其公开了一种热显影装置，其中可见图像是通过下面得到的：使具有形成的潜像的热显影感光材料与加热装置在热显影部分中接触，其中加热装置包含板型加热器，和沿着板型加热器的一个表面相对地提供多个压辊，该热显影装置的特征在于，使热显影感光材料经过压辊和板型加热器之间来进行热显影。优选板型加热器分为2至6个梯级，其中前端具有低于约1℃至10℃的低温。例如，使用和控制可以独立进行温度控制的4组板型加热器，以便它们各自的温度为112℃、119℃、121℃和120℃。这种方法还描述于JP-A 54-30032，其使在热显影感光材料中包含的水份和有机溶剂传送至系统的外面，还可以抑制在快速加热热显影感光材料时热显影感光材料载体的形状变化。
为了缩小热显影装置和减少热显影时间，优选更稳定控制加热器。能够根据本发明的快速处理的优选成像仪描述于例如JP-A 2002-289804和2002-287668中。使用这种成像仪，用具有例如分别控制在107℃、121℃和121℃的3个加热板的板型加热器，可以在14秒内进行热显影的。因此，第一张片的输入时间可以减少至约60秒。对于这种快速显影方法，存在上述的各种问题，所有特别优选将本发明的热显影感光材料与该方法组合使用。
4-2.热显影装置
以下参考附图详细解释本发明使用的热显影方法和热显影装置的优选实施方案。
图中使用的符号解释如下。
31：载体
33a：第一表面
33b：第二表面
35：图像形成层
44：预热装置
49a、81a、91a、101a：第一加热装置
49b、81b、91b、101b：第二加热装置
51：板
53：压辊
83：圆筒
85：压辊
95：环形带
97：压辊
100、200、300、400：热显影装置
A：记录材料(热显影感光材料)
C：输送路线
H：加热器
T：显影反应温度
δ：间隙
图1所示为根据本发明的热显影装置的第一实施方案的结构图。图2所示为本发明热显影感光材料的剖面图。图3是显示通过第一和第二加热装置分别加热的记录材料背面和正面的温度和时间之间相互关系的解释图。图4是控制装置的方块图；
根据本发明该实施方案的热显影装置100加热热显影感光材料A，以使记录在图像形成层中的潜像可见。热显影装置100使用的热显影感光材料A包含图像形成层35，如图2中所示，图像形成层35同时涂布在作为载体31的一个面的第一表面33a和另一个面的第二表面33b上。
在热显影装置100中，例如，当在热显影感光材料A的第一表面33a和第二表面33b上都放置荧光增强屏(未显示)时，热显影感光材料A可以用于直接射线照相。荧光增强屏通过X射线束曝光而发射荧光。图像形成层35，分别涂布在第一表面33a和第二表面33b的上的图像形成层35对通过荧光增强屏发射的荧光具有敏感度，然后可以由此通过少量的X射线束敏化。
通常将在图像形成层35中具有潜像的热显影感光材料A逐一贮存在盒37中。且将包括该材料的盒37装载于热显影装置100。打开装载在热显影装置100中的盒37的开关盖39，通过吸盘41从盒中取出包括的热显影感光材料A。
此外，热显影装置100可以具有暗盒(未显示)的结构，其中将多张热显影感光材料A容纳在一起。在这种情况下，在暗室中从盒37中取出每张涨热敏材料A，然后堆叠在暗盒中。通过吸盘41逐一从暗盒中取出堆叠和容纳在暗盒中的热显影感光材料A。可以使用引纸辊代替吸盘41。
热显影装置100可以具有这样的结构，其中在暗室中手工从盒37中取出具有潜像的热显影感光材料A，然后直接将它插入至输送辊对43中。
由此，通过输送辊对43和传递导向器45将取出的热显影感光材料A输送至位于输送方向下游的热显影部分47。在输送辊对43和热显影部分47之间，还可以安装宽度对准部分，使取出的热显影感光材料A对准垂直于输送方向的方向，并且对准位于下游的热显影部分47中的热显影感光材料A的位置。
在热显影部分47中，配备用于加热热显影感光材料A的第一表面33a的第一加热装置49a和用于加热热显影感光材料A的第二表面33b的第二加热装置49b，以交替地横越热显影感光材料A的输送路线C。根据该实施方案，第一加热装置49a和第二加热装置49b由板51和旋转压辊53组成，以将板51压在热显影感光材料A上。板51或压辊53可以包括作为热源的加热器。
根据该实施方案，用作热源的加热器包括在板51中。因此，在第一加热装置49a中，将板51相对热显影感光材料A的第一表面33a安置，且在第二加热器49b中，将板51面对热显影感光材料A的第二表面33b安置。由此热显影感光材料A的第一表面33a和第二表面33b可以交替加热。此处使用的术语“交替加热”包括首先加热第一表面33a，然后加热第二表面33b和结束加热的加热方法，即，其中该材料的背面和正面分别只加热一次的情形。
板51具有圆弧曲面形状，且沿着内表面安装多个压辊53。将热显影感光材料A插入至由板51和压辊53之间的间隙形成的输送路线C中，紧密与板51接触输送，同时通过压辊53压在板51上。然后，材料A通过板51的热量显影。对板51的热源不特别限制，但是可以使用热产生体例如镍铬电热丝等，光源例如卤素灯、热风加热或其它公知的加热装置。
压辊53选自金属辊，耐热树脂辊，耐热橡胶辊等。在板51的整个区域，优选安装多个压辊。
在热显影部分47中，在第一加热装置49a中，其中通过压辊53挤压热显影感光材料A的第二表面33b，将板51压在第一表面33a上。以后，将热显影感光材料A输送至第二加热装置49b，其中通过压辊53挤压第一表面33a，将板51压在第二表面33b上。结果，热显影感光材料A的第一表面33a和第二表面33b交替加热。由此，可以避免热显影感光材料A温度快速升高，还可以实现两个表面均匀加热。此外，在上面所述的结构具有的优势是减少活动部件和装置结构小型化，因为只有压辊53旋转。
在热显影部分47中，相对于总加热量，该加热量大于通过热显影感光材料A的第一表面33a和第二表面33b加热图像形成层用的显影反应温度，如果第一表面33a的总加热量取作100，第二表面33b的总加热量设置在100±30的范围。
在热显影感光材料A的玻璃化转变温度或更高的温度下，设置第一加热装置49a和第二加热装置49b的温度。设置位于热显影感光材料A的输送方向上游的加热装置(第一加热装置49a)的温度为较低的温度，该温度低于位于输送方向下游的加热装置(第二加热装置49b)的温度。
可以从作为从高于显影反应温度的温度与达到显影反应温度以后经过的时间的积分，得到上面所述的总加热量。即，在图3所示曲线图中，第一表面33a的总加热量可以面积S1获得，所述的面积S1被包围在表示显影反应温度T的线段To和表示第一表面33a温度变化的曲线K1之间。第二表面33b的总加热量可以面积S2获得，所述的面积S2被包围在表示显影反应温度T的线段To和表示第二表面33b温度变化的曲线K2之间。由此，可以通过第一表面49a和第二表面49b的温度和时间的特定参数来控制总加热量，因为第一表面33a和第二表面33b上的总加热量(S1，S2)可以从温度和经过的时间的各自积分值确定。结果，可以容易实现热显影感光材料A的两个表面的总加热量均匀。
此外，至于总加热量，如果将第一加热装置49a和第二加热装置49b的加热温度，热显影感光材料A与第一加热装置49a和第二加热装置49b的接触长度L1、L2作为参数，且将第一表面33a上的总加热量取作100，那么可以将第二表面33b上的总加热量设置在100±30的范围。由此，可以通过温度和接触长度L1，L2的特定参数控制总加热量，于是可以容易实现热显影感光材料A的两个表面的总加热量均匀。
根据上述的结构，当加热表面是第一表面33a时，热显影感光材料A的温度成为玻璃转变温度或更高，且当加热表面已经从第一表面33a转至第二表面33b时，该温度同样这为玻璃转变温度或更高。因此，在加热方法期间，保持热显影感光材料A处于软化状态。由此，可以防止由压辊53挤压热显影感光材料53而导致的皱纹的产生。因为第一加热装置49a的加热温度被设定为低于第二加热装置49b的加热温度，所以避免了在加热的初始阶段出现在第一表面33a上的温度快速升高。由此可以防止由于热显影感光材料A的快速热溶胀而导致的皱纹的产生。
此外，在热显影部分47中，将第一加热装置49a和第二加热装置49b之间的间隙δ设定为100mm或以下。因此，当将其第一表面33a已经被第一加热装置49a加热的热显影感光材料A输送至第二加热装置49b以加热第二表面33b时，由于约100mm或以下的窄间隙δ，防止了通过第一加热装置49a加热的热显影感光材料A温度降低。由此，即使当加热的表面在背面和正面之间变化，也将热显影感光材料A保持在预定温度或以上，如图3所示，且可以连续地进行显影反应而无任何延迟。
然后，将在热显影部分47显影的热显影感光材料A输送至如图1所示位于输送方向下游的逐渐冷却部分61。逐渐冷却部分61安置有多个冷却辊对63，并且可以逐渐冷却热显影的热显影感光材料A。然后，通过出料辊对65和67，将在逐渐冷却部分61冷却的热显影感光材料A输送至下游方向，然后卸货至盘69。
热显影装置100还包括可以控制第一加热装置49a、第二加热装置49b和热显影感光材料A的输送速度的控制部分71。如图4所示，控制部分71可以通过第一温度设定部分73控制第一加热装置49a和通过第二温度设定部分75控制第二加热装置49b，且还通过输送速度设定部分77控制输送驱动部分79，如输送电动机。控制部分71可以使用温度和输送速度作为参数将用于加热第一表面33a和第二表面33b的总加热量控制在上面所述的范围。而且，基于来自输入部分78的温度和湿度的环境条件信息，可以确定第一温度设定部分73、第二温度设定部分75和输送速度设定部分77的设定值。
根据热显影装置100，可以首先加热热显影感光材料A的第一表面33a，然后加热第二表面33b。因此，可以热显影热显影感光材料A的两个表面，同时抑制温度快速升高。此外，因为将第二表面33b的总加热量设定在第一表面33a的总加热量的预定范围内，所以热显影感光材料A的两个表面的总加热量得到大约相等的量。因此，在没有任何皱纹产生、色调差别和密度波动下，可以热显影热显影感光材料A。
根据使用热显影装置100的热显影方法，记录材料A的第一表面33a和第二表面33b被交替加热，相对于总加热量，该加热量大于通过热显影感光材料A的第一表面33a和第二表面33b加热图像形成层用的显影反应温度，如果第一表面33a的总加热量取作100，第二表面33b的总加热量设置在100±30的范围。由此，热显影感光材料A的两个表面被均匀地加热，然后可以被均匀地热显影。此外，即使第一和第二表面33a，33b被交替加热，也可以均匀加热两个表面，同时抑制温度快速升高。由此，对于在两个面上具有图像形成层35的热显影感光材料A的情形，在没有皱纹产生、以及没有色调差别和密度波动下，可以实现两个表面的均匀热显影。可以进行热显影感光材料A在热显影装置中的加载到并且进行其热显影，而不考虑背面和正面。
以下将解释本发明使用的热显影装置的其它实施方案。
在下面的实施方案中，仅显示热显影装置的主要部分(热显影部分)。每个热显影部分具有这样的结构，其中热显影感光材料A的第一表面33a和第二表面33b分别被第一加热装置和第二加热装置交替加热，且当将第一表面33a的总加热量取作100时，第二表面33b的总加热量设定在100±30的范围。
图5所示为根据第二实施方案配备有圆筒和多个压辊的热显影装置的主要部分的示意图；
热显影装置200具有这样一种结构，其中第一加热装置81a和第二加热装置81b都使用旋转驱动的圆柱形圆筒83，和多个用于将热显影感光材料A压在圆筒83的圆周面上的旋转压辊85。用作热源的加热器可以配备在圆筒83或压辊85中。在此实施方案中，圆筒83包含用作热源的加热器。
将第一加热装置81a和第二加热装置81b靠近地安置。第一加热装置81a的圆筒83和第二加热装置81b的圆筒83以相反方向旋转。因此，第一加热装置81a和第二加热装置81b构成S形输送路线C。即使在根据实施方案的热显影装置200中，热显影感光材料A的第一表面33a被第一加热装置81a加热，然后第二表面33b被第二加热装置81b加热。
由通过圆筒83和压辊85的夹住，同时第一表面33a与圆筒83紧密接触输送，来输送由第一加热装置81a传送的热显影感光材料A。结果，通过圆筒83的热量来加热该材料，以使通过曝光形成的潜像可见。接下来，将其第一表面33a已经被加热的热显影感光材料A输送至第二加热装置81b，然后通过圆筒83和压辊85的夹住，同时第二表面33b与圆筒83紧密接触输送，以与上面相同的方式进行输送。因此，通过圆筒83的热量来热显影该材料。
根据热显影装置200，在第一加热装置81a中，将热显影感光材料A的第一表面33a压在圆筒83上，然后在第二加热装置81b中，将第二表面33b压在圆筒83上。结果，热显影感光材料A的第一表面33a和第二表面33b被交替加热。因此，可以避免热显影感光材料A的温度快速升高，于是达到了两个表面的均匀加热。此外，其中圆筒83和压辊85与记录材料A的输送速度同步旋转的构造的有利结果是：在加热装置和热显影感光材料A之间没有摩擦。
下面解释本发明第三实施方案的热显影装置。
图6所示为具有支座、环形带和压辊的热显影装置的主要部分的示意图。
热显影装置300具有这样一种结构，其中第一加热装置91a和第二加热装置91b各自由以下组成：配备有作为热源的加热器H的管形支座93，围绕支座93的环形带95，和通过将环形带95压在支座93上的同时使环形带95以相同速度旋转的压辊97。环形带95可以由具有足够导热性的材料如铝、树脂等，或橡胶加热器形成。相对于第一加热装置91a和第二加热装置91b的加热量，如果调节每个加热装置的热量以使热显影感光材料A的背面和正面均匀加热，那么不要求安置的第一加热装置91a和第二加热装置91b的数量相同。
根据热显影装置300，例如，在图6左边所示的第一加热装置91a中，在通过压辊97挤压热显影感光材料A的第二表面33b的同时，通过环形带95将第一表面33a向着支座93挤压。然后，连续地，将热显影感光材料A输送至第二加热装置91b，在通过将压辊97挤压第一表面33a的同时，通过环形带95将第二表面33b向着支座93挤压。由此，热显影感光材料的第一表面33a和第二表面33b被交替加热。热显影感光材料A的两个表面可以均匀加热，且通过多个加热装置的逐渐加热防止了温度快速升高。此外，其中使围绕支座93的环形带95与热显影感光材料A的输送速度同步的构造可以得到的结果是，加热装置和热显影感光材料A之间没有摩擦。因此未发生对图像形成层的损伤。
以下将详细解释本发明第四实施方案的热显影装置。
图7所示为具有多组第一加热装置和第二加热装置的热显影装置的主要部分的示意图。
热显影装置400在沿着热显影感光材料A的输送路线C安装有多组由加热辊101组成的第一加热装置101a和由类似的加热辊101组成的第二加热装置101b。加热辊101由圆筒形加热体103和热源105例如卤素加热器等组成，以加热加热体103的内部。
特别地，根据该实施方案，沿着热照相材料A的输送路线C，以交错的形式安置第一加热装置101a和第二加热装置101b。
因此，根据热显影装置400，热显影感光材料A的第一表面33a和第二表面33b分别被第一组的第一加热装置101a和第二加热装置101b交替加热后，热显影感光材料A被输送到第二组的第一加热装置101a和第二加热装置101b，在此第一表面33a和第二表面33b再次被交替加热。交替加热在多组加热装置中重复进行。由此，可以避免热显影感光材料A温度快速升高，并且可以通过逐渐加热不均匀地加热热显影感光材料A的两个表面。
其中在沿着热显影感光材料A的输送路线C以交错的方式安装有多组第一加热装置101a和加热装置101b的热显影装置400具有这样的构造：其中在输送路线C安置的一侧的多个第一加热装置101a和在输送路线C的另一侧安置的多个第二加热装置101b交替插入在相邻加热装置之间的间隙中，并且与每个加热装置以一定的接触角安置。因此，输送路线C形成为波形。由此，热显影感光材料A和加热装置之间的接触面积得以提高，且对于热显影感光材料A的导热率得到提高。
在上述的每一实施方案中，只显示热显影装置的主要部分(即热显影部分)。但是，根据本发明，可以选择类似加热装置用于在表示图1所示的热显影装置的第一实施方案的图中的预热装置44。
5.本发明的应用
优选使用本发明的热显影感光材料和图像形成方法作为通过由银成像形成黑白图像用于医疗诊断中的热显影感光材料及使用它的图像形成方法。
通过下面的实施例具体解释本发明，不应理解本发明限于这些实施例。
实施例
实施例1
1.PET载体和底涂层的制备
1-1.薄膜的制备
通过使用对苯二甲酸和1，1-亚乙基二醇，根据常规方法得到IV(特性粘度)为0.66(于25℃、在苯酚/四氯乙烷＝6/4(重量比)中测得)的PET。粒化产品，于130℃干燥4小时，用蓝色染料(1，4-双-(2，6-二乙基苯胺基蒽醌))染成蓝色。然后通过T型模头挤出混合物并且快速冷却，以形成未拉伸(non-tentered)的薄膜。
通过使用不同圆周速度的辊，将薄膜纵向拉伸3.3倍，然后使用拉幅机横向拉伸4.5倍。用于这些操作的温度分别为110℃至130℃。然后，于240℃将薄膜热定型20秒，且在相同的温度下沿着横向松弛4％。然后，切掉夹住部分，且将薄膜的两边进行压花。然后，在4kg/cm2的拉力下，将薄膜卷起，得到175μm厚的卷形物。
1-2.表面电晕放电处理
使用由Piller GmbH制备的Solid State Corona Discharge TreatmentMachine Model 6KVA，在室温下，以20m/分钟对载体的两个表面进行处理。从在此情况下的电流和电压的读数值判断，证实进行了0.375kV·A·分钟·m-2的处理。该处理的频率为9.6kHz，并且电极和介电卷形物之间的间隙为1.6mm。
1-3.底涂布
(1)用于底涂层的涂布溶液的制备
SnO2/SbO(9/1重量比；平均颗粒直径0.5μm，17重量％分散体)
                                                      84g
由Takamatsu Oil & Pat Co.，Ltd.制备的Pesresin A-520(30重量％溶液)
                                                      46.8g
由Toyo Boseki Co.，Ltd.制备BAIRONAARU WD-1200         10.4g
聚乙二醇单壬基苯基醚(平均环氧乙烷数＝8.5)1mol％重量溶液
                                                      11.0g
由Soken Chemical & Engineering Co.，Ltd.制备的MP-1000(PMMA聚合物微粒，平均颗粒直径0.4μm)                             0.91g
蒸馏水                                                847ml
2)底涂布
对厚度为175μm的前述双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇载体的两个表面进行如上所述的电晕放电处理。然后，通过绕线棒，用底涂层的涂布溶液涂布，以便湿涂布量为6.6ml/m2(每面)，并且于180℃干燥5分钟。由此制备底涂布的载体。
2.图像形成层、中间层和表面保护层
2-1涂布材料的制备
1)卤化银乳剂的制备
(卤化银乳剂A的制备)
<卤化银乳剂1A(0.68μm的片状AgI主颗粒(host grains))的制备>
通过如下制备一种溶液：向1421ml蒸馏水中，加入8ml的10重量％碘化钾溶液，接着加入4.6g邻苯二甲酸化(phthalazed)的明胶和160ml的5重量％的2，2’-(亚乙基二硫代)二乙醇的甲醇溶液。在不锈钢制成的反应器中，搅拌下将该溶液保持于75℃，且向其中加入总量：通过加入蒸馏水将22.7g的硝酸银稀释得到223ml的体积而制备的溶液A；和通过加入蒸馏水将36.6g碘化钾稀释得到366ml的体积而制备的溶液B。在15分22秒内，在恒定流速下，通过加入溶液A的全部，在将pAg保持在9.96的同时，加入溶液B，来进行受控的双喷嘴的方法。然后，向其中加入10ml的3.5重量％的过氧化氢水溶液，并且再向其中加入0.8ml的10重量％苯并咪唑水溶液。此外，加入通过加入蒸馏水将53.1g的硝酸银稀释得到520.2ml的体积而制备的溶液C，和通过加入蒸馏水将63.9g碘化钾稀释得到639ml的体积而制备的溶液D。在80分钟内，在恒定的流速下，通过加入溶液C的全部，在将pAg保持在9.96的同时，加入溶液D，来进行受控的双喷嘴的方法。在从加入溶液C和D开始的10分钟后，一次性加入六氯铱(III)酸钾(potassium hexachloroiridate(III))，得到1×10-4mol/mol银。此外，在加入溶液C完成5秒钟之后，一次性加入在水溶液中的六氰基高铁(II)酸钾，得到3×10-4mol/mol银。用0.5mol/L的硫酸调节混合物的pH至3.8。停止搅拌后，将混合物进行沉淀/脱盐/水洗步骤。用1mol/L的氢氧化钠调节混合物的pH至5.9，以制备pAg为11.0的卤化银分散体。
卤化银乳剂1A为纯的碘化银乳剂，且得到的主颗粒的平均投影面积当量径直为1.36μm，平均投影面积当量直径分布的变异系数为17.7％，平均厚度为0.113μm，且平均纵横比为12.0。平均纵横比为2或以上的颗粒占总投影面积的80％或以上。颗粒的平均当量球直径为0.68μm。由粉末X射线衍射分析结果，15％或以上的碘化银以γ相形式存在。
<卤化银乳剂2A(0.68μm的取向附生颗粒)的制备>
将1mol在上面的卤化银乳剂1A中制备的碘化银主颗粒加入到反应器中。于40℃测量的pAg为9.1。通过双喷嘴加入，在31分钟内，以28.7ml/分钟的速度加入每升含0.088mol的溴化钾和0.038mol的氯化钠的溶液，和0.125mol/L的硝酸银溶液，以在碘化银主颗粒上的六个角落部分以取向附生的形式基本上沉积10mol％氯溴化银。在操作过程中，将pAg保持在7.13。此外，用0.5mol/L的硫酸将混合物的pH调节至3.8。停止搅拌后，对混合物进行沉淀/脱盐/水洗步骤。用1mol/L的氢氧化钠将得到的混合物的pH调节至5.9，以制备pAg为11.0的卤化银分散体。
通过场致发射型分析电子显微镜，由卤化银颗粒的取向附生部分的超薄片，测量取向附生部分的平均卤素组成。测量的结果，发现溴为80％、氯为17％且碘为3％。
在搅拌下，将上面所述的卤化银分散体保持在38℃，向其中加入5ml的0.34重量％的1，2-苯并异噻唑啉-3-酮的甲醇溶液，并且在40分钟后，将温度升高至60℃。升高该温度后的20分钟时，以7.6×10-5mol/mol银的量加入在甲醇溶液中的苯硫代磺酸钠。在另一个5分钟后，以2.9×10-5mol/mol银的量向其中加入在甲醇溶液中的碲敏化剂C，并且进行熟化91分钟。然后，向其中加入1.3ml的0.8重量％在甲醇中的N，N’-二羟基-N”，N”-二乙基三聚氰胺，在另外的4分钟后，向其中以4.8×10-3mol/mol银的量加入在甲醇溶液的5-甲基-2-巯基苯并咪唑、以5.4×10-3mol/mol银的量加入在甲醇溶液中的1-苯基-2-庚基-5-巯基-1，3，4-三唑，和以8.5×10-3mol/mol银的量加入在水溶液中的1-(3-甲基脲基苯基)-5-巯基四唑，以制备具有外延结(epitaxial junction)的卤化银乳剂2A。
(碘化银乳剂B和C的制备)
<主卤化银乳剂1B和1C的制备>
除了将卤素溶液B和D中的碘化钾改变为碘化钾和溴化钾的混合物外，以与制备卤化银乳剂1A中的方法类似的方式，进行卤化银乳剂1B和1C的制备。卤化银乳剂1B和1C的平均碘化银含量分别为90mol％和80mol％。通过控制硝酸银水溶液和碘化钾水溶液的反应温度和加入速度，调节每种乳剂中的颗粒形式，以不会与卤化银乳剂1A太不相同。得到颗粒的形式示于表1中。
<具有外延结的颗粒制备>
除了分别使用卤化银乳剂1B和1C作为主颗粒外，以与制备卤化银乳剂2A中的方法类似的方式，进行卤化银乳剂2B和2C的制备。卤化银乳剂2B和2C含有10mol％外延的氯溴化银。
(卤化银乳剂D的制备)
<主卤化银乳剂1D的制备>
除了充分改变5重量％的2，2’-(亚乙基二硫代)二乙醇的甲醇溶液的加热量、颗粒形成步骤的温度和加入溶液A的时间外，以与制备卤化银乳剂1A中的方法类似的方式，进行卤化银乳剂1D的制备。得到的卤化银颗粒的平均投影面积当量直径为0.93μm，平均投影面积当量直径分布的变异系数为17.7％，平均厚度为0.057μm，且平均纵横比为16.3。平均纵横比为2.0或以上占总投影面积的80％或以上。颗粒的平均当量球直径为0.42μm。由粉末X射线衍射分析结果，15％或以上的碘化银以γ相形式存在。
<具有外延结的颗粒的制备>
除了使用卤化银乳剂1D作为主颗粒外，以与制备卤化银乳剂2A中的方法类似的方式，进行卤化银乳剂2D的制备。卤化银乳剂2D含有10mol％外延的氯溴化银。
(卤化银乳剂E的制备)
<主卤化银乳剂1E的制备>
除了充分改变5重量％的2，2’-(亚乙基二硫代)二乙醇的甲醇溶液的加热量、颗粒形成步骤的温度和加入溶液A的时间外，以与制备卤化银乳剂1A中的方法类似的方式，进行卤化银乳剂1E的制备。得到的卤化银颗粒的平均投影面积当量直径为0.443μm，平均投影面积当量直径分布的变异系数为19.1％，平均厚度为0.053μm，且平均纵横比为8.37。平均纵横比为2.0或以上占总投影面积的80％或以上。颗粒的平均当量球直径为0.25μm。由粉末X射线衍射分析结果，15％或以上的碘化银以γ相形式存在。
<具有外延结的颗粒制备>
除了使用卤化银乳剂1E作为主颗粒外，以与制备卤化银乳剂2A中的方法类似的方式，进行卤化银乳剂2E的制备。卤化银乳剂2E含有10mol％外延的氯溴化银。
(卤化银乳剂F的制备)
<卤化银乳剂1E的制备>
除了充分改变5重量％的2，2’-(亚乙基二硫代)二乙醇的甲醇溶液的加热量、颗粒形成步骤的温度和加入溶液A的时间外，以与制备卤化银乳剂1A中的方法类似的方式，进行卤化银乳剂1F的制备。得到的卤化银颗粒的平均投影面积当量直径为0.246μm，平均投影面积当量直径分布的变异系数为19.2％，平均厚度为0.045μm，且平均纵横比为5.47。平均纵横比为2.0或以上占总投影面积的80％或以上。颗粒的平均当量球直径为0.16μm。由粉末X射线衍射分析结果，15％或以上的碘化银以γ相形式存在。
<具有外延结的颗粒制备>
除了使用卤化银乳剂1F作为主颗粒外，以与制备卤化银乳剂2A中的方法类似的方式，进行卤化银乳剂2F的制备。卤化银乳剂2E含有10mol％外延的氯溴化银。
(卤化银乳剂G的制备)
<卤化银乳剂G(0.04μm的AgI微粒)的制备>
通过如下制备一种溶液：向1420ml蒸馏水中，加入4.3ml的1重量％碘化钾溶液，接着加入3.5ml的0.5mol/L的硫酸和36.7g邻苯二甲酸化的明胶。在不锈钢制成的反应器中，搅拌下将该溶液保持于42℃，且在9分内，在恒定流速下，向其中加入总量：通过加入蒸馏水将22.22g的硝酸银稀释得到195.6ml的体积而制备的溶液A；和通过加入蒸馏水将21.8g碘化钾稀释得到218ml的体积而制备的溶液B。然后，向其中加入10ml的3.5重量％的过氧化氢水溶液，并且再向其中加入10.8ml的10重量％苯并咪唑水溶液。此外，加入通过加入蒸馏水将511.86g的硝酸银稀释得到317.5ml的体积而制备的溶液C，和通过加入蒸馏水将60g碘化钾稀释得到600ml的体积而制备的溶液D。在120分钟内，在恒定的流速下，通过加入溶液C的全部，在将pAg保持在8.1的同时，加入溶液D，来进行受控的双喷嘴的方法。在从加入溶液C和D开始的10分钟后，一次性加入六氯铱(III)酸钾，得到1×10-4mol/mol银。此外，在加入溶液C完成5秒钟之后，一次性加入在水溶液中的六氰基高铁(II)酸钾，得到3×10-4mol/mol银。用0.5mol/L的硫酸调节混合物的pH至3.8。停止搅拌后，将混合物进行沉淀/脱盐/水洗步骤。用1mol/L的氢氧化钠调节混合物的pH至5.9，以制备pAg为8.0的卤化银分散体。
在搅拌下，将上面所述的卤化银分散体保持在38℃，向其中加入5ml的0.34重量％的1，2-苯并异噻唑啉-3-酮的甲醇溶液，并且将温度升高至47℃。升高该温度后的20分钟时，以7.6×10-5mol/mol银的量加入在甲醇溶液中的苯硫代磺酸钠。在另一个5分钟后，以2.9×10-5mol/mol银的量向其中加入在甲醇溶液中的碲敏化剂C，并且进行熟化91分钟。
然后，向其中加入1.3ml的0.8重量％在甲醇中的N，N’-二羟基-N”，N”-二乙基三聚氰胺，在另外的4分钟后，向其中以4.8×10-3mol/mol银的量加入在甲醇溶液的5-甲基-2-巯基苯并咪唑和以5.4×10-3mol/mol银的量加入在甲醇溶液中的1-苯基-2-庚基-5-巯基-1，3，4-三唑，以制备具有卤化银乳剂G。
由此制备的卤化银乳剂中的颗粒是纯碘化银颗粒，其平均当量球直径为0.040μm，当量球直径分布的变异系数为18％，并且是具有(001)、{100}和{101}面的十四面体颗粒。通过粉末X射线衍射分析确定，γ相的比例为30％。使用电子显微镜，从1000颗颗粒的平均值中，确定颗粒大小等。
制备的主颗粒的颗粒形式示于表1中。
表1
乳剂序号 AgI含量(mol％)     平均当量球直径(μm)     平均投影面积当量直径(μm) 平均厚度(μm) 平均纵横比 备注
1A 100 0.68 1.36 0.113 12.0 本发明的乳剂
1B 90 0.67 1.52 0.087 17.6 本发明的乳剂
1C 80 0.69 1.52 0.095 16.1 本发明的乳剂
1D 100 0.42 0.82 0.074 11.1 本发明的乳剂
1E 100 0.25 0.44 0.053 8.4 比较的乳剂
1F 100 0.16 0.25 0.045 5.5 比较的乳剂
G 100 0.04 - - 1.0 比较的乳剂
<涂布溶液用的乳剂的制备>
分别溶解卤化银乳剂2A至2F和G中的每一种，然后向其中以7×10-3mol/mol银的量加入1重量％的碘化苯噻唑鎓。此外，作为“可以被单电子氧化提供释放一个电子或多个电子的单电子氧化产物的化合物”，以2×10-3mol/mol在卤化银中的银的量分别加入化合物1、2和3。然后，作为“具有吸附基团和还原基团的化合物”，分别加入化合物序号1和2，以8×10-3mol/mol卤化银的量分别加入化合物1和2。
此外，向其中加入水，以得到卤化银的含量按银计为15.6g/l升涂布溶液用的乳剂。
2)脂肪酸银盐分散体的制备
<重结晶山萮酸的制备>
将由Henkel Co.制备的山嵛酸(商品名：Edenor C22-85R)以100kg的量与1200kg的异丙醇混合，且在50℃溶解。使混合物通过10μm的过滤器过滤，并且冷却至30℃，以进行重结晶。将重结晶的冷却速率控制为30℃/小时。对得到的晶体进行离心过滤，并且用100kg的异丙醇进行清洗。然后，干燥晶体。将得到的晶体酯化并且进行GC-FID分析，得到结果是：山嵛酸的含量为96重量％，二十四酸的含量为2％且花生酸的含量为2％。此外，含有0.001％的芥酸。
<脂族酸银盐分散体的制备>
混合88kg的重结晶山嵛酸、442L的蒸馏水、49.2L的5mol/L浓度的氢氧化钠水溶液和120L的叔丁醇，然后于75℃进行搅拌反应1小时，得到山嵛酸钠的溶液。分开地，提供206.2L的40.4kg硝酸银的水溶液(pH4.0)并且于10℃保持。将加入有635L蒸馏水和30L叔丁醇的反应器保持在30℃，并且在完全搅拌的条件下，在恒定的流速下，分别在93分钟15秒内和90分钟内，向其中加入全部量的山嵛酸钠溶液和全部量的硝酸银水溶液。在该操作中，在开始加入硝酸银水溶液后的第一个11分钟期间，将所加入的物质限制为单独的硝酸银水溶液。然后，开始加入山嵛酸钠溶液，并且在硝酸银水溶液的加入完成之后的14分钟15秒期间，将所加入的物质限制为单独的山嵛酸钠溶液。然后，将反应器内部的温度控制在30℃，并且控制外面的温度，以便液体温度保持不变。此外，通过在双壁管外部的热水循环，保持山嵛酸钠溶液的加入系统的管道温度，以便将在喷嘴前端的出口处的液体温度调节至75℃。此外，通过在双壁管的外部的冷水循环，将硝酸银水溶液加入系统的管道温度保持不变。安排加入山嵛酸钠溶液的位置和加入硝酸银水溶液的位置相对于位于中心的搅拌轴对称。此外，调节这两个位置，以避免与反应液体接触。
在加入山嵛酸钠溶液完成之后，在该温度下将混合物原样放置20分钟。然后在30分钟内将反应混合物的温度升高至35℃，接着熟化210分钟。熟化完成之后，立即通过离心过滤滤出固体物质。用水洗涤固体物质，直到滤出液的电导率达到30μS/cm。由此得到脂肪酸银盐。将得到的固体物质作为湿饼贮存而不干燥。
当通过电子显微照相术评估由此得到的山嵛酸银颗粒的形状时，显示晶体具有的平均值为：a＝0.21μm，b＝0.4μm，和c＝0.4μm，其平均纵横比为2.1，且平均球当量直径分布的变异系数为11％(a、b和c如前述定义)。
向对应于260kg干固体物质含量的湿饼中，加入19.3kg的聚乙烯醇(商品名：PVA-217)和水，使总量为1000kg。然后，使用溶解器叶片，从混合物中得到浆液。此外，通过管道混合器(由Mizuho Kogyou Kabushiki Kaisha制备：PM-10型)对浆液进行初步的分散。
接着，使用分散器(商品名：Microfluidzer M-610，由MicrofluidexInternational Corporation制备，使用Z型互作用腔)，其中将压力控制为1150kg/cm2，将初步分散的贮备溶液处理三次，得到山嵛酸银的分散体。对于冷却操作，在互作用腔之前和之后分配配备盘管换热器，因而，通过调节冷却介质的温度，将分散体的温度设置为18℃。
3)还原剂分散体的制备
<还原剂-1分散体的制备>
向10kg的还原剂-1(1，1-二(2-羟基-3，5-二甲基苯基)-3，5，5-三甲基己烷)和16kg的10重量％的改性聚乙烯醇(由Kuraray Co.，Ltd.制备，PovalMP203)的水溶液中，加入10kg的水，并且强力搅拌，得到浆液。该浆液用隔膜泵进料，并且用装有平均颗粒直径为0.5mm的氧化锆珠粒的卧式砂磨机(UVM-2：由AIMEX Co.，Ltd.制备)中分散3小时。然后，向其中加入0.2g的苯并噻唑啉酮钠盐和水，由此调节还原剂的浓度为25重量％。将分散体于60℃进行热处理5小时，得到还原剂-1分散体。在得到的还原剂分散体中含有的还原剂颗粒的中值粒径为0.40μm，且最大颗粒直径为1.4μm或以下。通过孔径为3.0μm的聚丙烯过滤器对得到的还原剂分散体进行过滤，以除去杂质例如灰尘，且贮存。
4)氢键键合化合物分散体的制备
向10kg的氢键键合化合物-1(三(4-叔丁基苯基)氧化膦)和16kg的10重量％的改性聚乙烯醇(由Kuraray Co.，Ltd.制备，Poval MP203)的水溶液中，加入10kg的水，并且强力搅拌，得到浆液。该浆液用隔膜泵进料，并且用装有平均颗粒直径为0.5mm的氧化锆珠粒的卧式砂磨机(UVM-2：由AIMEX Co.，Ltd.制备)中分散4小时。然后，向其中加入0.2g的苯并噻唑啉酮钠盐和水，由此调节氢键键合化合物的浓度为25重量％。将分散体于40℃温热1小时，得到氢键键合化合物-1分散体。在得到的氢键键合化合物分散体中含有的氢键键合化合物颗粒的中值粒径为0.45μm，且最大颗粒直径为1.3μm或以下。通过孔径为3.0μm的聚丙烯过滤器对得到的氢键键合化合物分散体进行过滤，以除去杂质例如灰尘，且贮存。
5)显影促进剂和色调调节剂的分散体的制备
<显影促进剂-1分散体的制备>
向10kg的显影促进剂-1和16kg的10重量％的改性聚乙烯醇(由Kuraray Co.，Ltd.制备，Poval MP203)的水溶液中，加入10kg的水，并且强力搅拌，得到浆液。该浆液用隔膜泵进料，并且用装有平均颗粒直径为0.5mm的氧化锆珠粒的卧式砂磨机(UVM-2：由AIMEX Co.，Ltd.制备)中分散3小时30分钟。然后，向其中加入0.2g的苯并噻唑啉酮钠盐和水，由此调节显影促进剂的浓度为20重量％。由此，得到显影促进剂-1分散体。在得到的显影促进剂分散体中含有的显影促进剂颗粒的中值粒径为0.48μm，且最大颗粒直径为1.4μm或以下。通过孔径为3.0μm的聚丙烯过滤器对得到的显影促进剂分散体进行过滤，以除去杂质例如灰尘，且贮存。
<显影促进剂-2和色调调节剂的固体分散体的制备>
此外，对于显影促进剂-2和色调调节剂-1的固体分散体，类似于显影促进剂-1进行分散，由此分别得到20重量％和15重量％的分散体。
6)有机多卤化合物分散体的制备
<有机多卤化合物-1分散体的制备>
将10kg的有机多卤化合物-1(三溴甲烷磺酰苯)、10kg的20重量％的改性聚乙烯醇(由Kuraray Co.，Ltd.制备，Poval MP203)的水溶液、0.4kg的20重量％三异丙基萘磺酸钠的水溶液和14kg的水彻底混合，得到浆液。该浆液用隔膜泵进料，并且用装有平均颗粒直径为0.5mm的氧化锆珠粒的卧式砂磨机(UVM-2：由AIMEX Co.，Ltd.制备)中分散5小时。然后，向其中加入0.2g的苯并噻唑啉酮钠盐和水，由此调节有机多卤化合物的浓度为30重量％。由此，得到有机多卤化合物-1分散体。在得到的有机多卤化合物分散体中含有的有机多卤化合物颗粒的中值粒径为0.41μm，且最大颗粒直径为2.0μm或以下。通过孔径为10.0μm的聚丙烯过滤器对得到的有机多卤化合物分散体进行过滤，以除去杂质例如灰尘，且贮存。
<有机多卤化合物-2分散体的制备>
将10kg的有机多卤化合物-2(N-丁基-3-三溴甲烷磺酰苯甲酰胺)、20kg的10重量％的改性聚乙烯醇(由Kuraray Co.，Ltd.制备，Poval MP203)的水溶液、0.4kg的20重量％三异丙基萘磺酸钠的水溶液和14kg的水彻底混合，得到浆液。该浆液用隔膜泵进料，并且用装有平均颗粒直径为0.5mm的氧化锆珠粒的卧式砂磨机(UVM-2：由AIMEX Co.，Ltd.制备)中分散5小时。然后，向其中加入0.2g的苯并噻唑啉酮钠盐和水，由此调节有机多卤化合物的浓度为30重量％。将该液体分散体于40℃加热5小时，得到有机多卤化合物-2分散体。在得到的有机多卤化合物分散体中含有的有机多卤化合物颗粒的中值粒径为0.40μm，且最大颗粒直径为1.3μm或以下。通过孔径为10.0μm的聚丙烯过滤器对得到的有机多卤化合物分散体进行过滤，以除去杂质例如灰尘，且贮存。
7)碘化银配位化合物形成剂溶液的制备
将8kg的改性聚(乙烯醇)“MP203”溶解在174.57kg的水中，且向其中加入3.15kg的20重量％的三异丙基萘磺酸钠的水溶液和14.28kg的70重量％的6-异丙基2，3-二氮杂萘的水溶液。因此，制备5重量％碘化银配位化合物形成剂化合物的溶液。
8)巯基化合物的水溶液制备
<巯基化合物-1水溶液的制备>
以7g的量将巯基化合物-1(1-(3-磺基苯基)-5-巯基四唑钠盐)溶解于993 g的水中，得到0.7重量％的水溶液。
<巯基化合物-2水溶液的制备>
以20g的量将巯基化合物-2(1-(3-甲基酰脲)-5-巯基四唑钠盐)溶解于980g的水中，得到2.0重量％的水溶液。
9)聚合物胶乳溶液的制备
<SBR胶乳(TP-1)溶液的制备>
向气体单体反应器(由Taiatu Techno Corporation制备，TAS-2J型)的聚合容器中，加入287g的蒸馏水、7.73g的表面活性剂(Pionin A-43-S(由TAKEMOTO OIL & FAT CO.，LTD.制备)：固体物质含量为48.5重量％)、14.06mL的1mol/L氢氧化钠、0.15g的乙二胺四乙酸四钠盐、255g的苯乙烯、11.25g的丙烯酸和3.0g的叔十二烷硫醇，接着密封反应器，并且在200rpm的搅拌速率下搅拌。通过真空泵进行脱气，接着重复氮气置换数次。向其中，加入108.75g的1，3-丁二烯，且将内部的温度升高至60℃。向其中，加入在50ml的水中溶解的1.875g过硫酸铵的溶液，且在混合物放置时将它搅拌5小时。进一步将温度升高至90℃，接着搅拌3小时。反应完成后，将内部温度降低，达到室温，且使用1mol/L的氢氧化锂，调节混合物的pH至8.4。然后，用孔径为1.0μm的聚丙烯过滤器进行过滤，以除去杂质例如灰尘，然后贮存。因此，得到774.7g的SBR胶乳TP-1。通过离子色谱对卤素离子测量，氯离子的浓度显示为3ppm。通过高效液相色谱测量螯合剂的浓度的结果，它显示为145ppm。
上面所述的胶乳的平均颗粒直径为90nm，Tg为17℃，固体物质的浓度为44重量％，且在25℃和60％RH下的平衡水含量为0.6重量％，离子电导率为4.80mS/cm(用Toa Electronics Ltd.制备的电导计CM-30S，对胶乳贮存溶液(44重量％)，于25℃进行离子电导率的测量)。
<异戊二烯胶乳(TP-2)分散体的制备>
向气体单体反应器(由Tiatsu Garasa Kogyo Ltd.制备的TAS-2J型)的聚合容器中，加入1500g的蒸馏水、并且于90℃加热3小时，以不锈钢容器的表面和不锈钢搅拌装置上形成钝化膜。接着，向预处理过的反应容器中，加入582.28g已经用氮气脱气1小时的蒸馏水、9.49g的表面活性剂“PIONIN A-43-S”(商品名，获自Takemoto Oil & Fat Co.，Ltd.)、19.56g的1mol/L氢氧化钠、0.20g的乙二胺四乙酸四钠盐、314.99g的苯乙烯、190.87g的异戊二烯、10.43g的丙烯酸和2.09g的叔十二烷硫醇。然后，密封反应容器，并且于225rpm的搅拌速率下搅拌，接着升高内部温度至65℃。向上述混合物中，加入通过在40mL的水中溶解2.61g过硫酸铵而得到的溶液，且搅拌保持6小时。此时，根据固体含量的测量，聚合率为90％。向其中，加入通过在46.98mL的水中溶解5.22g丙烯酸而得到的溶液，然后加入10g的水和通过在50.7mL的水中溶解1.30g过硫酸铵而得到的溶液。加入完成后，将混合物加热至90℃且搅拌3小时。反应完成后，将容器内部温度冷却至室温。然后，通过加入1mol/L的氢氧化锂，调节pH至8.4。然后，用孔径为1.0μm的聚丙烯过滤器过滤得到的混合物，以除去杂质例如灰尘，且贮存。得到1248g的异戊二烯胶乳(TP-2)。通过离子色谱对卤素离子测量，表明剩余氯离子的浓度显示为3p.p.m。通过高效液相色谱测量表明剩余螯合剂的浓度为142p.p.m。
得到的胶乳的平均颗粒直径为113nm，Tg＝157℃，固体物质的浓度为41.3重量％，且在25℃和60％RH下的平衡水含量为0.4重量％，且离子电导率为5.23mS/cm(用DKK-TOA Corp.制备的电导计CM-30S，于25℃进行的测量)。
10)成核剂分散体的制备
向10g成核剂SH-7中，加入2.5g的聚(乙烯醇)(由Kuraray Co.，Ltd.制备，PVA-217)和87.5g的水，并且完全混合，得到浆液。将浆液放置3小时。以240g的量提供平均颗粒直径为0.5mm的氧化锆珠粒，并且与浆液一起加入至容器中。用分散机(1/4G砂研磨机：由AIMEX Co.，Ltd.制备)分散10小时，得到成核剂的固体微粒分散体。在得到的成核剂分散体中包含的成核剂颗粒的平均颗粒直径为0.5μm，且80重量％颗粒的颗粒直径为0.1μm至1.0μm。
2.2涂布溶液的制备
1)用于图像形成层的涂布溶液的制备
向1000g脂肪酸银的分散体和276ml水中，相继地加入有机多卤化合物-1分散体，有机多卤化合物-2分散体，SBR胶乳(Tg：17℃)溶液，SBR胶乳(TP-1)溶液，异戊二烯胶乳(TP-2)溶液，还原剂-1分散体，成核剂分散体，氢键键合化合物-1分散体，显影促进剂-1分散体，显影促进剂-2分散体，色调调节剂-1分散体、巯基化合物-1水溶液和巯基化合物-2水溶液。在向其中加入碘化银配位化合物形成剂后，向其中以0.22mol/mol脂肪酸银盐的量加入涂布用的乳剂，接着刚好在涂布前完全混和，其被直接送到涂布模具。
2)用于中间层的涂布溶液的制备
向1000g的聚(乙烯醇)VA-205(由Kuraray Co.，Ltd.制备)和4200mL的19重量％的甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/丙烯酸丁酯/甲基丙烯酸羟乙酯/丙烯酸共聚物(共聚的重量比＝64/9/20/5/2)胶乳溶液中，加入27mL的5重量％气溶胶OT(由American Cyanamid Co.制备)的水溶液和水，得到的总量为10000g。用氢氧化钠调节混合物，得到pH为7.5。因此，制备用于中间层的涂布溶液，并且进料给涂布模具，提供9.1mL/m2。
用B型粘度计于40℃(1号转子，60rpm)测得的涂布溶液的粘度为58[mPa·s]。
3)表面保护层的第一层用的涂布溶液的制备
将64g的惰性明胶溶解在水中，向其中加入112g的19.0重量％的甲基丙烯酸甲/苯乙烯/丙烯酸丁酯/甲基丙烯酸羟乙酯/丙烯酸共聚物(按重量计的共聚比＝64/9/20/5/2)胶乳溶液、30mL的15重量％邻苯二甲酸的甲醇溶液、23mL的10重量％4-甲基邻苯二甲酸的水溶液、28mL的0.5mol/L的硫酸、5mL的5重量％气溶胶OT的水溶液、0.5g的苯氧基乙醇和0.1g的苯并噻唑啉酮。加入水，得到的总量为750g。刚好在涂布之前，将用静态混合器混合的26mL的4重量％的铬明矾进料至涂布模具，以便涂布溶液的量成为18.6mL/m2。
用B型粘度计于40℃(1号转子，60rpm)测得的涂布溶液的粘度为20[mPa·s]。
4)表面保护层的第二层用的涂布溶液的制备
将80g的惰性明胶溶解在水中，向其中加入102g的27.5重量％的甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/丙烯酸丁酯/甲基丙烯酸羟乙酯/丙烯酸共聚物(共聚的重量比＝64/9/20/5/2)胶乳溶液、5.4mL的2重量％的氟烃表面活性剂(F-1)溶液、5.4mL的2重量％的另一种氟烃表面活性剂(F-2)溶液、23mL的5重量％气溶胶OT的水溶液、4g的聚(甲基丙烯酸甲酯)微粒(平均颗粒直径0.7μm，体积加权平均分布：30％)、21g的聚(甲基丙烯酸甲酯)微粒(平均颗粒直径3.6μm，体积加权平均分布60％)、1.6g的4-甲基邻苯二甲酸、4.8g的邻苯二甲酸、44mL的0.5mol/L浓度的硫酸和10mg的苯并噻唑啉酮。加入水，得到总量为650g。刚好在涂布之前，加入445mL含4重量％的铬矾和0.67重量％邻苯二甲酸的水溶液，且用静态混合器混合，以得到表面保护层的第二层用的涂布溶液，其被进料至涂布模具，以便可以提供8.3mL/m2。
用B型粘度计于40℃(1号转子，60rpm)测得的涂布溶液的粘度为19[mPa·s]。
3.热显影感光材料的制备
在载体的两个面上，按照从底涂表面开始，图像形成层、中间层、表面保护层的每一层和表面保护层的第二层的顺序，进行通过滑动珠粒涂布方法的同时重叠涂布。由此制备热显影感光材料样品1至7。在这种方法中，将图像形成层和中间层的涂布溶液的温度调节至31℃，将表面保护层的第一层的涂布溶液的温度调节至36℃，和将表面保护层的第二层的温度调节至37℃。
对于脂肪酸银盐和卤化银的总量，涂布的银量每面为0.861g/m2。而且，在两个面上的图像形成层中的涂布的银的总量为1.72g/m2。
对于图像形成层每面的每一种化合物的涂布量(g/m2)如下所示：
脂肪酸银盐(基于银含量)：       0.686
有机多卤化合物-1：             0.028
有机多卤化合物-2：             0.094
碘化银配位化合物形成剂：       (参见表3)
SBR胶乳：                      5.20
SBR胶乳(TP-1)：                2.09
异戊二烯胶乳(TP-2)：           3.13
还原剂-1：                     0.46
成核剂：                       0.036
氢键键合化合物-1：             0.15
显影促进剂-1：                 0.005
显影促进剂-2：                 0.035
色调调节剂-1：                 0.002
巯基化合物-1：                 0.001
巯基化合物-2：                 0.003
卤化银(基于银含量)：           0.175
此外，除了将碘化银配位化合物形成剂的量减少至0.092g/m2外，类似于涂布样品1至3的制备，制备涂布样品8至10。
铵离子量的定量化
通过上述的方法进行铵离子量的定量化。结果，表明铵离子的含量为0.1mmol/m2/面的涂布样品。
涂布和干燥的条件如下。
通过离子风，使载体不带电(descharged)。在160m/分钟速度下进行涂布。
将涂布和干燥条件调节至下面的范围内，并设置条件以得到最稳定的表面状态。
涂布模具的前端与载体之间的间距为0.10mm至0.30mm。
将真空室中的压力设置为低于大气压196Pa至882Pa。
在随后的冷却区，用干球温度为10℃至20℃的风冷却涂布溶液。
在无接触下进行输送，并且用干球温度为23℃至45℃和湿球温度为15℃至21℃的空气，在螺旋型无接触干燥装置中，干燥涂布的载体。
干燥后，在40至60％RH的湿度下，于25℃进行水分的调节。
然后，加热薄膜表面至70℃至90℃，加热后，将薄膜表面冷却至25℃。
由此制备的热显影感光材料的消光程度按贝克光滑度计为250秒。此外，薄膜表面的pH测量的结果为6.0。
本发明实施例中使用的化合物的化学结构如下所示：
碲敏化剂C
Figure A20051007800301311
可以被单电子氧化提供释放一个电子或多个电子的单电子氧化产物的化合物1：
Figure A20051007800301321
可以被单电子氧化提供释放一个电子或多个电子的单电子氧化产物的化合物2：
Figure A20051007800301322
可以被单电子氧化提供释放一个电子或多个电子的单电子氧化产物的化合物3：
Figure A20051007800301323
具有吸附基团和环原基团的化合物1
具有吸附基团和环原基团的化合物2
环原剂-1                         氢键键合化合物-1
Figure A20051007800301342
有机多卤素化合物-1               有机多卤素化合物-2
Figure A20051007800301343
Figure A20051007800301344
巯基化合物-1                     巯基化合物-2
碘化银配位化合物形成剂                  显影促进剂-1
Figure A20051007800301352
显影促进剂-2                            色调调节剂-1
Figure A20051007800301353
Figure A20051007800301354
Figure A20051007800301355
Figure A20051007800301356
和
Figure A20051007800301357
                                                                   的混合物
4.照相性能的评估
4-1.准备
将得到的样品切为两半大小，用下面的包装材料在25℃和50％RH的环境下包装，并且于室温贮存2周。
<包装材料>
含3重量％碳的薄膜，其层压有PET 10μm/PE 12μm铝箔9μm/Ny 15μm/聚乙烯50μm：
25℃的氧渗透率：0.02mL·atm-1·m2·天；
25℃的蒸汽渗透率：0.10g·atm-1·m2·天。
4-2.曝光
使用下面描述的两片荧光增强屏A。通过将样品插入它们之间来提供用于图案形成的组件。将该组件进行X射线照射0.05秒，然后进行X射线感光度测定。使用的X射线装置是由Toshiba Corp.制备的DRX-3724HD(商品名)，且使用钨靶管。将X射线用作光源，所述的X射线是通过在80kVp的三相电压下操作的脉冲发生器发射的，并且穿透过通过包含7cm厚的水的滤光器，所述的滤光器的吸收能力约等于人体的吸收能力。在通过距离方法改变X射线的曝光值的同时，用按log E计的宽度为0.15梯级楔板对样品进行曝光。
<荧光增强屏A的制备>
(1)底涂
以与JP-A 2001-124898中的实施例4中的方法类似的方式，在厚度为250μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜载体上，涂布包含氧化铝粉末的光反射层。制备干燥后薄膜厚度为50μm的光反射层。
(2)荧光物质薄片的制备
将250g的BaFBr:Eu荧光物质(平均颗粒大小3.5μm)；8g的聚氨酯型粘合剂树脂(由Dai Nippon Ink & Chemicals，Inc.制备，商品名：PANDEXT5265M)；2g的环氧型粘合剂树脂(由Yuka Shell Epoxy Co.，Ltd.制备，商品名：EPIKOTE 101)；和0.5g的异氰酸酯化合物(由Nippon PolyurethaneIndustry Co.，Ltd.制备，商品名：CORONATE HX)加入至甲基乙基酮中，并且用螺旋桨混合器分散混合物，以制备粘度为25PS(于25℃)的用于荧光物质层的涂布溶液。向(通过在聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜的表面上涂布硅氧烷试剂预处理的)临时载体的表面上涂布该涂布溶液，并且干燥，制备荧光物质层。然后，通过将荧光物质层从临时载体上剥离，来制备荧光物质薄片。
(3)向光反射层上层叠荧光物质薄片
将根据上面所述方法(1)制备的具有光反射层的载体的光反射层的表面上，层叠上面制备的荧光物质薄片，并且在400kgw/cm2的压力和80℃下通过压光辊(calendar roller)挤压，以在光反射层上形成荧光物质层。得到的荧光物质层的厚度为125μm，并且在荧光物质层中的荧光物质颗粒的体积填系数为68％。
(4)表面保护层的制备
在厚度为6μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜的一个面上，涂布聚酯型粘合剂，然后通过层压方法在荧光物质上形成表面保护层。如上所述，制备了包含载体、光反射层、荧光物质层和表面保护层的荧光增强屏A。
(5)发光特性
增强屏A的发光光谱通过用X射线在40kVp下测量，且示于图8。荧光增强屏A显示在390nm具有峰值和窄半带宽的发光。
4-3.热显影
曝光后，在下面的热显影方法条件下，使用图1所示的热显影装置对样品进行热显影。
表2
    温度(℃)     时间(秒)
预热     100     12
第一加热装置     119     10
第二加热装置     121     12
4-4.评估条件
1)薄膜混浊度的测量
术语“混浊度”是指入射至热显影感光材料中的光的扩散程度，并且以百分比表示扩散的透射光的量与透射光的总量的比率。将由NIPPONDENSHOKU Co.，Ltd.制备的混浊度测量装置Model 1001DP用于混浊度的测量。
测量每种未曝光样品的热显影前和后的薄膜混浊度，并且计算热显影后的混浊度相对于热显影前的混浊度的比率。
2)敏感度测量
如下测量在390nm的敏感度，该390nm为前述荧光增强屏的主发射峰。
通过由Corning Inc.制备的干涉滤波器过滤的2856K°彩色温度钨光源，红外线光切割滤光器(cut filter)和中性梯级楔，对每个样品进行曝光1/10秒，所述的光源的半宽度为10nm和中心透明波长为390nm。曝光后，在与上述方式类似的方式，对热显影感光材料进行热显影。剥离在曝光面的相反面上安置的图像形成层后，测量密度，以绘制照相特征曲线。从照相特征曲线，确定得到灰雾+0.5的密度所需要的曝光值。通过对曝光值的确定，使用由EG&G Inc.制备的放射光度计(radiophotometer)DR-2550(校正过的光度计)测量由钨灯源反射和穿透过滤光器的光。
3)其它照相性能
灰雾：未曝光部分的密度表示为灰雾。
平均斜率：平均斜率是在照相特性曲线上，连接灰雾+(0.25的光密度)和灰雾+(2.0的光密度)的点的直线的斜率(即，当该直线和水平轴之间的角度为θ时，该值等于tanθ)。
图像可区别性：在调节曝光值的同时，使用胸部幻象对样品进行X射线曝光，以得到用于肺野部分的适宜密度(D＝1.8)。视觉观察评估胸部幻象的纵隔部分的图像特征和人造血管的可区别性，并按下面的标准分为◎、○、△和×。至于显影过的银图像的色调，视觉观察评估整个图像，并按下面的标准分为○、△和×。
4)图像贮存性
图像贮存性(印出)的评估：
在40℃和50％相对湿度下，在6000Lux的荧光灯照明条件下，将通过热显影的每种样品得到的图像样品放置5天。此后，测量未曝光部分的光密度。得到的密度表示为灰雾2，并且在荧光灯下放置之前的未曝光部分的密度表示为Dmin1，然后如下计算灰雾2和灰雾1的差值(Δ灰雾)：
Δ灰雾＝灰雾2-灰雾1
4-5.评估的结果
得到的结果示于表3中。
从表3中所示的结果，表明本发明的热显影感光材料得到了适于医疗诊断的高图像质量的图像，其具有高敏感度、优异的图像可区别性，并且在灰雾、灰度和方面具有优异的质量。
表3
  样品号   乳剂号     碘化银配位化合物形成剂(g/m2)             混浊度 灰雾   敏感度(瓦.sec.m-2)     灰度 图像贮存性 显影后的银图像的色调 幻象的可区别性   备注
热显影前(A) 热显影后(B) B/A(％)
  1   2A     0.46   55   25  45.5   0.20   1.2×10-4     2.9     0.01   ○   ◎   发明
  2   2B     0.46   49   27  55.1   0.21   1.3×10-4     2.8     0.02   ○   ◎   发明
  3   2C     0.46   51   32  62.7   0.21   1.4×10-4     2.9     0.03   ○   ◎   发明
  4   2D     0.46   48   24  50.0   0.18   3.2×10-4     3.2     0.01   ○   ◎   发明
  5   2E     0.46   39   23  59.0   0.18   1.5×10-4     4.3     0.01   ○   △   比较
  6   2F     0.46   31   22  74.2   0.17   5.7×10-4     4.4     0.01   ○   △   比较
  7   G     0.46   27   22  81.4   0.17   31.8     4.6     0.01   △   △   比较
  8   2A     0.09   55   45  82.2   0.27   2.4×10-4     4.6     0.56   ×   ×   比较
  9   2B     0.09   49   41  83.7   0.28   2.6×10-4     4.5     0.72   ×   ×   比较
  10   2C     0.09   51   44  86.3   0.28   2.8×10-4     4.4     0.85   ×   ×   比较
实施例2
除了在反应完成后且在内部温度降低为室温后，用1mol/L LiOH和1mol/L NH4OH溶液将该溶液的pH调节为8.4外，以与实施例1制备光敏照相材料样品1至5中的方法类似的方式，制备SBR胶乳(TP-1)和异戊二烯胶乳(TP-2)。同时，调节NH4OH和LiOH的加入量的比率，以使铵离子的涂布量为表4和表5所示的量。
此外，调节成核剂分散体的加入量，以使照相性能基本上分别与样品1至5的那些相同。
除了上述的外，类似于与实施例1制备热显影感光材料11至18。类似于实施例1评估得到的样品，此外，进行下面的评估。
(在高湿度条件下贮存的贮存稳定性的评估)
为了评估本发明材料的贮存稳定性，对样品进行进行下面的加速试验(老化试验)。
在35℃和80RH％的条件下，贮存样品7天，接着在25℃和60RH％的条件保持样品。此后，对样品进行曝光和热显影，并且评估照相性能。敏感度的相对值的对数根据下式表示为Δlog E：
Δlog E(1)＝-log(老化试验后的敏感度/老化试验前的敏感度)
得到的结果示于表4和表5中。本发明的热显影感光材料得到了得到了适于医疗诊断的高图像质量的图像，其具有高敏感度、优异的图像可区别性，并且在灰雾和灰度方面具有优异的质量。此外，本发明的热显影感光材料还显示了优异的贮存稳定性，所以在高湿度条件下的贮存期间灰雾和敏感度的增加和灰度的变化轻微。
表4
    样品号 乳剂号    NH4 +的涂布量(mmol/m2)                                    照相性能(新鲜)                    照相性能(在高湿度条件下贮存后)   备注
            混浊度 灰雾   敏感度(瓦.sec.m-2) 灰度           混浊度   灰雾    敏感度(瓦.sec.m-2)   灰度
  热显影前(A)   热显影后(B) B/A(％)   热显影前(A)   热显影后(B) B/A(％)
    1   2A    0.1   55   25     45.5     0.20   1.2×10-4   2.9   55   25   45.5   0.20    1.20×10-4   2.9   发明
    11   2A    0.3   55   26     47.3     0.21   1.2×10-4   2.9   55   26   47.3   0.22    1.09×10-4   3.0   发明
    12   2A    0.8   55   26     47.3     0.21   1.2×10-4   2.9   55   27   49.1   0.23    1.05×10-4   3.1   发明
    13   2A    1.5   55   27     49.1     0.22   1.2×10-4   3.0   55   29   52.7   0.27    0.91×10-4   3.4   发明
    14   2A    3.0   55   27     49.1     0.22   1.2×10-4   3.1   55   30   54.5   0.30    0.85×10-4   3.6   发明
    5   2E    0.1   39   23     59.0     0.18   1.5×10-4   4.3   39   27   69.2   0.22    1.25×10-4   4.6   比较
    15   2E    0.3   39   24     61.5     0.19   1.5×10-4   4.3   39   28   71.8   0.23    1.16×10-4   4.7   比较
    16   2E    0.8   39   24     61.5     0.19   1.5×10-4   4.3   39   30   76.9   0.25    1.06×10-4   4.9   比较
    17   2E    1.5   39   25     64.1     0.20   1.5×10-4   4.4   39   33   84.6   0.35    0.72×10-4   5.2   比较
    18   2E    3.0   39   25     64.1     0.20   1.5×10-4   4.5   39   35   89.7   0.55    0.63×10-4   5.5   比较
表5
    样品号     乳剂号                差值   备注
    Δ灰雾     Δlog E     Δ灰度
    1     2A     ±0     ±0     ±0   发明
    11     2A     +0.01     +0.04     +0.1   发明
    12     2A     +0.02     +0.06     +0.2   发明
    13     2A     +0.05     +0.12     +0.4   发明
    14     2A     +0.08     +0.15     +0.5   发明
    5     2E     +0.02     +0.08     +0.3   比较
    15     2E     +0.04     +0.11     +0.4   比较
    16     2E     +0.06     +0.15     +0.6   比较
    17     2E     +0.15     +0.32     +0.8   比较
    18     2E     +0.35     +0.38     +1.0   比较
实施例3
除了将热显影装置的预热条件改变为表6所示描述的条件和将环境条件调节为25℃和60RH％(标准温度和湿度)的条件外，类似于实施例1评估实施例2的热显影感光材料1至5。
除了上面外，还进行下面的评估。
.显影不均匀性
对10片每个样品在上述的条件进行X射线曝光，以得到1.2的图像密度。通过视觉观察感官评估得到的图像。根据下面等级表示评估的结果，
◎：没有观察到在图像部分中的显影不均匀性，
○：观察到在图像部分中的轻微显影不均匀性，但对于检查图像为忽略不计的水平，
△：观察到在图像部分中的一些显影不均匀性，并且对于检查图像为不适用的水平，
×：观察到在图像部分中明显的显影不均匀性，且对于检查为困难水平。
.高湿度环境中的照相性能
在35℃和80RH％的条件下调节每种样品3小时，然后用设置在25℃和60RH％的条件下的热显影装置进行热显影。除了上述的评估外，进行类似于实施例1的评估。敏感度的相对值的对数表示为下式中的Δlog E：
Δlog E(2)＝-log(老化试验后的敏感度/老化试验前的敏感度)
<评估结果>
得到的结果示于表6中。从表6中明显地看出，在约100℃对本发明热显影感光材料的预热可以制备具有高敏感度、优异图像可区别性和优异灰度的适于医疗诊断的高图像质量的图像。此外，本发明的热显影感光材料还显示了轻微的显影不均匀性，以及在高湿度环境下处理后照相性能和显影不均匀性的很少变化。30℃的预热温度可能无效，120℃的温度是由于增加了灰雾而不优选。
表6
    样品号     预热条件 在25℃和60％RH的环境下的处理 在25℃和80％RH的环境下的处理             差值 备注
℃ 时间(秒) 灰雾 敏感度(瓦.sec.m-2) 灰度   显影均匀性 灰雾   敏感度(瓦.sec.m-2) 灰度     显影均匀性 ΔFog ΔlogE Δ灰度
    1      100     12     0.20     1.2×10-4     2.9   ◎     0.21   1.17×10-4     3.0     ◎ +0.01 +0.02 +0.1 发明
    1      90     12     0.21     1.2×10-4     3.0   ◎     0.22   1.17×10-4     3.1     ◎ +0.01 +0.03 +0.1 发明
    1      103     12     0.20     1.2×10-4     2.9   ◎     0.21   1.17×10-4     3.0     ◎ +0.01 +0.02 +0.1 发明
    1      -     -     0.22     0.98×10-4     3.3   ○     0.30   0.82×10-4     3.6     △ +0.08 +0.15 +0.3 发明
    1      30     12     0.22     0.98×10-4     3.3   ○     0.29   0.83×10-4     3.5     △ +0.07 +0.15 +0.2 发明
    1      120     12     0.25     0.98×10-4     3.2   ○     0.33   0.73×10-4     3.4     ○ +0.08 +0.13 +0.2 发明
    5      100     12     0.18     1.5×10-3     4.3   ◎     0.21   1.40×10-3     4.5     ○ +0.03 +0.03 +0.2 比较
    5      90     12     0.19     1.5×10-3     4.4   ◎     0.23   1.37×10-3     4.7     △ +0.04 +0.05 +0.3 比较
    5      103     12     0.18     1.5×10-3     4.3   ◎     0.21   1.40×10-3     4.5     ○ +0.03 +0.03 +0.2 比较
    5      -     -     0.25     1.2×10-3     4.7   ○     0.43   0.79×10-3     5.3     × +0.18 +0.25 +0.6 比较
    5      30     12     0.24     1.2×10-3     4.8   ○     0.40   0.83×10-3     5.3     × +0.16 +0.25 +0.5 比较
    5      120     12     0.25     0.95×10-3     4.6   ○     0.43   0.63×10-3     5.1     △ +0.18 +0.23 +0.5 比较

Claims (21)

1.一种用于曝光形成图像的方法的热显影感光材料，该方法包含用荧光增强屏进行X射线成影像地曝光和热显影，其中所述的热显影感光材料包含：在载体的至少一个面上，至少包含光敏卤化银、非光敏有机银盐、还原剂和粘合剂的图像形成层，其中
(1)所述光敏卤化银包括平均纵横比为2至100和平均当量球直径为0.3μm至10μm的片状颗粒，
(2)对于用单色光曝光所述的热显影感光材料和热显影所述的热显影感光材料后得到灰雾+0.5的图像密度所必须的曝光值为1×10-6瓦·sec·m-2至1×10-3瓦·sec·m-2，所述的单色光具有与荧光增强屏的主发射峰波长相同的波长和15nm±5nm的半宽度，和
(3)热显影后所述热显影感光材料的混浊度低于热显影前的80％。
2.根据权利要求1所述的热显影感光材料，其中所述荧光增强屏包括荧光物质，且50％或以上的荧光物质发射的光的波长为350nm至420nm。
3.根据权利要求2所述的热显影感光材料，其中所述的荧光物质包含二价Eu-活化的荧光物质。
4.根据权利要求3所述的热显影感光材料，其中所述的荧光物质包含二价Eu-活化的卤化钡荧光物质。
5.根据权利要求1所述的热显影感光材料，其中热显影后的混浊度低于热显影前的75％。
6.根据权利要求1所述的热显影感光材料，其中所述光敏感卤化银的涂布银的量按载体一个面计为0.04g/m2至0.4g/m2。
7.根据权利要求1所述的热显影感光材料，还包含成核剂，其中照相特性曲线的平均斜率为1.8至5.0。
8.根据权利要求7所述的热显影感光材料，其中所述的成核剂是选自肼衍生物化合物、乙烯基化合物、季鎓盐化合物和烯烃化合物中的化合物。
9.根据权利要求1所述的热显影感光材料，其中所述热显影感光材料的NH4 +含量按载体一个面计为1mmol/m2或以下。
10.根据权利要求9所述的热显影感光材料，其中所述热显影感光材料的NH4 +含量按载体一个面计为0.3mmol/m2或以下。
11.根据权利要求1所述的热显影感光材料，其中所述光敏卤化银的平均碘化银含量为40mol％或以上。
12.根据权利要求11所述的热显影感光材料，其中所述光敏卤化银的平均碘化银含量为80mol％或以上。
13.根据权利要求12所述的热显影感光材料，其中所述光敏卤化银的平均碘化银含量为90mol％或以上。
14.一种图像形成方法，该方法包含：对权利要求1的热显影感光材料进行成影像曝光，并且用具有加热装置的热显影装置热显影所述的材料，其中所述图像形成方法包含在热显影温度下加热所述热显影感光材料之前，在40℃至105℃的温度下预热所述材料0.1秒至90秒的时间。
15.根据权利要求14所述的图像形成方法，其中所述预热温度为60℃至100℃。
16.根据权利要求14所述的图像形成方法，其中热显影用的加热装置具有板和辊子，所述的辊子将热显影感光材料压在所述板上并且旋转，作为热源的加热器内置于所述板和辊子的至少一个中。
17.根据权利要求14所述的图像形成方法，其中热显影用的加热装置具有圆柱形圆筒和压辊，所述的压辊将热显影感光材料压在圆筒的圆周表面上并且旋转，作为热源的加热器内置于所述圆筒和压辊的至少一个中。
18.根据权利要求14所述的图像形成方法，其中热显影用的加热装置包括用于加热热显影感光材料第一面的第一加热装置和加热另一面的第二加热装置，所述第一加热装置和第二加热装置相互沿着热显影感光材料的输送路线背对背地分别安置，所述的热显影感光材料夹在两个加热装置的中间。
19.根据权利要求14所述的图像形成方法，其中热显影用的加热装置配备有支架、围绕支架安置的环形带和压辊，所述的支架中内置有用作热源的加热器，且所述的压辊用于通过在将环形带压在支架上的同时旋转而驱动环形带旋转。
20.根据权利要求14所述的图像形成方法，其中多对加热装置沿着热显影感光材料的输送路线安置。
21.根据权利要求20所述的图像形成方法，其中多对加热装置沿着输送路线以交错的方式安置。
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