CN1685212A - 处理流体的装置和方法 - Google Patents

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米奥德拉格·切基奇
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Abstract

本发明公开了一种用于处理流体体积的装置和方法。该装置包括流体流过的流体通道(35)，流体通道外部的至少一个照射源(32)，至少两个细长的椭圆形反射槽(22和24)，用于将来自至少一个照射源的照射反射到流体通道内。槽的开口彼此正对，以在槽的封闭的端部之间形成空间。流体通道和至少一个照射源与聚焦轴分开布置，从而在流体通道内产生基本上均匀的照射分布。

Description

处理流体的装置和方法
技术领域
本发明涉及一种使用外部照射源均匀处理流体体积的装置和方法。更具体说，本发明涉及一种通过外部照射源照射流体通道来处理流体通道内一定体积流体的装置和方法，以对流体通道内的流体提供基本上均匀的照射分布。
背景技术
在流过流体通道的流体的照射处理过程中，照射的均匀性是非常重要的。通过实施例，流体可被紫外线照射处理，从而将流体内的材料消毒、净化或氧化。如果照射是不均匀的，流过低强度照射区域内的那部分流体可能被处理不充分，而流过高强度照射范围附近内的那部分流体可获得高于理想照射量的照射量，这可毁坏流体内的材料。这个问题在被施加有照射的混流流体情况下或具有高吸收率条件下更为明显。
用于照射流体体积的公知技术包括在流体内引入多个照射源。然而，这是复杂和昂贵的，需要布置多个照射源，并会带来由照射源-流体接触面上形成不纯物导致的累积吸附的附加问题。上述问题需要设置清洁机构和清洁步骤，但这同样是复杂和需要精心制作的。潜在的照射源问题带来附加的流体污染和危险照射源部件导致的分布系统的风险。
另一种方法是限制流体的流动，避免照射不充分的体积。这种方案会导致有限的效率、高的压降和为获得所期望流体必须的高成本的泵。
又一种方法是在流体流内引入混合装置，以期望流体的每一部分获得“均匀”的处理。这种方法同样也会带来效率问题，以及可能的流体体积的未处理部分带来的更严重的问题。
再一种方法是将流体形成一层薄膜以便照射。这种方法没有考虑到照射源、流体通道和流体自身的吸附作用，也没有考虑到流体通道材料或流体的折射系数，因而没有考虑在流体的薄膜内的真正的能量分布。
发明内容
本发明涉及一种可均匀的处理流体体积的装置和方法。本发明设置有一流体通道，流体流过所述通道。设置在流体通道外部的至少一个照射源，产生照射以照射流过流体通道内的流体。所述装置还包括至少两个细长的椭圆形反射槽，用于将从至少一个照射源来的光反射到流体通道内流动的流体上。所述槽设有彼此正对的开口，以在槽的封闭的椭圆端部之间形成空间。每一个椭圆形槽具有槽内的第一焦点，该第一焦点的轨迹在槽的长度上形成第一聚焦轴。并且，每一个椭圆形槽具有槽外的第二焦点，该第二焦点的轨迹形成第二聚焦轴。流体通道和每一个照射源位于所述空间内。至少一个流体通道和至少一个照射源与所述槽的聚焦轴分开设置，从而照射所述流体通道的光被散焦。结果，通道内的流体被基本上均匀的照射分布来照射，甚至在相对大内径的流体通道内。
附图说明
本发明的这些和其他方面以及优点从下面的说明书和权利要求书的详细描述中变得更为明显，特别是在结合附图的描述中。其中：
图1A是示出本发明的装置和方法的第一实施例的透视图；
图1B是图1A中装置的截面图；
图1C是图1A中装置的侧视图；
图1D是图1A中装置的俯视图；
图2A和2B分别为本发明装置的第二实施例的截面图和侧视图，第二实施例的透视图和俯视图分别类似于图1A和1D；
图3A，3B和3C分别为本发明装置的第三实施例的透视图、截面图和俯视图，第三实施例的侧视图类似于图1C；
图4A和4B分别为本发明装置的第四实施例的截面图和侧视图，第四实施例的透视图和俯视图分别类似于图3A和3C；
图4C是图4A和4B的装置中的流体通道的放大截面图；
图5A，5B，5C和5D分别为本发明装置的第五实施例的透视图、截面图、侧视图和俯视图；
图6A，6B和6C分别为本发明装置的第六实施例的截面图、侧视图和俯视图，第六实施例的透视图类似于图5A；
图6D是图6A-6C的装置中的流体通道的放大截面图；
图7A，7B，7C和7D分别为本发明装置的第七实施例的透视图、截面图、侧视图和俯视图；
图8A，8B和8C分别为本发明装置的第八实施例的截面图、侧视图和俯视图，第八实施例的透视图类似于图7A；
图8D是图8A-8C的装置中的流体通道的放大截面图；
图9是示出在槽的各自聚焦轴上具有照射源和流体通道的装置的照射图；
图10是示出图2A和2B中装置的照射图；
图11是示出图4A和4B中装置的照射图；
图12是示出图8A-8C中装置的照射图；
图13是示出峰值强度偏差定义的照射图；
图14，15和16分别示出图2A和2B、图4A和4B和图8A-8C中装置的标准化能量为体积吸收率的函数。
具体实施方式
图1A-1D示出本发明的装置20a的第一实施例。装置20a包括第一细长的椭圆形反射槽22，和第二细长的椭圆形反射槽24。每一个槽22和24具有封闭的椭圆形端部和开口端。所述槽22和24形成具有长轴和短轴的椭圆形，且具有槽22内的第一聚焦轴和槽24内的第二聚焦轴。如果需要，所述槽22和24的开口端通过反射部件连接。所述槽22和24配合以形成装置22a内的空间26。
照射源32位于槽22内，也就位于空间26内。照射源32位于槽22和24形成的椭圆形的长轴上，在槽22内的聚焦轴上或附近。照射源32可以是如紫外线光源的光源。通过示例，照射源32可以是微波无电极放电管(microwave electrodeless discharge bulb)，如管状管，或可以为弧形放电管或荧光放电管。空间26中的流体通道34定位在槽24内的聚焦轴旁或附近。流体通道34设有适于连接到要处理的流体源的入口端33，和适于连接到处理后的流体末端的出口端35。在图1A-1D的实施例中，照射源32或流体通道34，或者照射源和流体通道与相邻的聚焦轴分开设置。如果需要，可设置有使照射源32的位置可调的可调支座。所述支座在槽22、或另一安装表面上是可调的，或者照射源32在支座上是可调的。此外，或替换的，可设置有使流体通道34的位置可调的可调支座。所述支座在槽24、或另一安装表面上是可调的，或者流体通道34在支座上是可调的。结果，源32的照射不集中在流体通道34上。因此，源32的照射将流体通道34内的流体照射为具有基本上均匀的照射分布。这种照射在穿过流体通道34的截面上具有基本上二维的均匀的照射分布，和在流体通道流过的流体体积内的基本上三维的均匀的照射分布。
图2A和2B示出本发明的装置20b的第二实施例。装置20b与图1A-1D中装置20a的区别在于装置20b的一个或两个槽22，24沿与可移动槽的短轴平行的轴移动，从而槽22，24没有重合的长轴，从而不会形成单个椭圆形。两个槽的长轴优选是平行的。并且，源32的照射在到达流体通道34时被散焦，从而在流体通道内流过的流体上的照射具有基本上均匀的分布。
图3A，3B和3C分别为本发明装置20c的第三实施例的分解透视图、截面图和俯视图。该实施例的端视图类似于图1C。装置20c包括第一和第二槽22和24，每一个槽22和24为分开的椭圆形的一部分。槽22和24的开口端彼此正对以形成装置20c内的空间26。如果需要，槽22和24的开口端可通过反射部件连接。该实施例的每一个槽22和24具有槽内的第一聚焦轴，和位于槽开口端之上的第二聚焦轴。两个槽的第二聚焦轴重合。第一照射源32位于槽22的第一聚焦轴上或附近，第二照射源位于槽24的第一聚焦轴上或附近。流体通道34位于重合的第二聚焦轴上或附近。两个照射源32和36与各自的第一聚焦轴分开布置，或者流体通道34与重合的第二聚焦轴分开布置，或者上述两种情况均可。结果，源32和36的照射不会集中在流体通道34上，从而来自照射源的照射利用基本上均匀的照射分布照射流体通道34内流过的流体。
图4A和4B示出本发明装置20d的第四实施例。装置20d与图3A-3C中装置20c的区别在于装置20d的一个或两个槽22，24沿与可移动槽的短轴平行的轴移动，从而槽不具有重合的长轴，从而不会形成单个椭圆形。长轴32a和36a优选是平行的。由于上述移动，源32的照射在到达流体通道34时被散焦，从而上述照射在流体通道内流过的流体上具有基本上均匀的分布。
图4c示出在两个椭圆形反射槽22，24沿与各自短轴平行的相对的方向移动时，装置20d的穿过流体通道34的椭圆形反射槽22和24的长轴22a和24a。优选的，流体通道34具有与照射源32和36的纵轴平行延伸的轴34a，且该轴34a位于长轴22a和24a间基本上中部的位置。
图5A，5B，5C和5D分别为本发明另一实施例的装置20e的透视图、截面图、侧视图和俯视图。装置20e包括三个槽22，24和38，三个照射源32，36和42和一个流体通道34。所述槽定位使得装置20e在其内具有略微三角形结构的空间26。如果需要，槽22，24和38的相邻开口端通过反射部件连接。流体通道34基本上位于空间26的中心。每一个照射源32，36和42布置在各自的椭圆形反射槽22，24和38的第一聚焦轴上或附近。每一个反射槽22，24和38的第二聚焦轴重合，且流体通道34位于重合的第二聚焦轴上或附近。照射源32，36和42与各自的第一聚焦轴分开布置，或流体通道34与第二聚焦轴分开布置，或者两者均可。这种布置导致源32，36和42的照射在流体通道34上被散焦，从而流体通道内的流体被基本上均匀的照射分布照射。
图6A，6B和6C为本发明装置20f的第六实施例，其中所述槽从图5A-5D中的实施例中装置20e的各自位置沿各自槽的短轴以相同的相应方向移动。这种移动同样导致流体通道34上的照射被散焦，从而流体通道内的流体照射为具有基本上均匀的照射分布。
图6D示出装置20f中椭圆形反射槽22，24和38的长轴22a，24a和38a，其中当长轴穿过流体通道34时，每一个槽22，24和38沿各自的短轴以相同的相应方向移动，所述长轴形成流体通道34截面内的几何形状。流体通道34具有中心轴34a，其优选的平行于照射源32，36和42的纵轴延伸，并布置在由装置的长轴22a，24a和38a形成的几何形状内，优选的在图中基本上中心的位置。
图7A，7B，7C和7D示出本发明装置20g的第七实施例。装置20g包括四个槽22，24，38和44，四个照射源32，36，42，和48，每一个照射源布置在每个槽的第一聚焦轴上或附近。所述槽定位从而槽  22和24的长轴重合并基本上垂直于槽38和44的长轴，所述槽38和44的长轴同样是重合的。如果需要，槽22，24，38和44的相邻开口端可由反射部件连接。优选的，槽22，24，38和44的第二聚焦轴重合。流体通道34位于装置20g的空间26内的第二聚焦轴上或附近。照射源32，36，42和48与各自的第一聚焦轴分开布置，或者流体通道34与第二聚焦轴分开布置，或者两者均可。以这些方式中的任一种方式定位导致源32，36，42和48的照射在流体通道34上被散焦，从而流体通道内的流体被基本上均匀的照射分布照射。如果需要，可设置有可调支座，以使照射源32，36，42和48的位置沿各自槽的长轴是可调的。所述支座在槽上或另一安装表面上是可调的，或者照射源在支座上是可调的。
图8A，8B和8C为本发明装置20h的进一步的实施例。装置20h与图7A-7D中的装置20g的不同在于每一个槽22，24，38和42沿平行于各自短轴的相同的相对方向移动，从而长轴22a，24a，38a和44a形成流体通道34截面上的几何图案，如图8D中所示。如果需要，可设置有可调支座，以使槽22，24，38和44的位置和照射源32，36，42和46的位置沿各自槽的短轴方向，或沿各自槽的长轴方向，或者两者均可，是可调的。所述支座在安装表面上是可调的，或者槽在支座上是可调的。流体通道34具有中心轴34a，其优选的沿平行于照射源32，36，42和46的纵轴延伸。所述中心轴34a位于纵轴22a，24a，38a和44a形成的几何图案内，优选的，位于所述几何图案的基本上中心位置。
图9-13示出照射图，图14-16示出不同装置的标准化能量作为体积吸收率的函数。这些图案可由不同装置的计算机模拟获得。图9示出具有单个照射源的装置的Y向照射图，类似于图1A-1D的装置20a，但通过将照射源32定位在由槽22和24形成的椭圆形内的第一聚焦轴上，并将流体通道34定位在第二聚焦轴上将照射集中。图1A-1D示出X，Y和Z轴。由图可知，照射被突然的集中。这不会导致在流体通道34流过的流体中的均匀的照射分布。
图10示出图2A和2B中装置20b的Y向照射图，图2A和2B示出了X，Y，和Z轴。通过沿各自的Y向移动一个或两个槽以及通过与槽22的第一聚焦轴分开布置照射源32或与槽22和24的第二聚焦轴分开布置流体通道34，或者两者均可，将照射散焦。所述照射的散焦导致在流体通道34中的流体上的照射分布基本上是均匀的。
比较图9和图10可以看出，本发明的照射的散焦基本上增加了流体通道34内流过的流体中照射分布的均匀性。
图11示出图4A和4B中装置20d的Y向照射图，图4A和4B示出X，Y，和Z轴。通过沿各自的Y向移动一个或两个椭圆形反射槽22和24以及通过与槽22和24的第一聚焦轴分开布置照射源32和36，或与槽的第二聚焦轴分开布置流体通道34，或者两者均可，将照射散焦。所述照射的散焦导致在流体通道34中的流体上的照射分布基本上是均匀的。
图12示出图8A-8C中装置20h中的流体通道34内流体的Y向照射图，图8A-8C示出了X，Y，和Z轴。照射的散焦导致在流体通道34内的流体上的照射分布基本上是均匀的。
图13示出照射分布以及峰值强度偏差的定义。所述照射分布可获得基本上均匀的峰值，所述峰值具有基本上与如流体通道34的流体通道的内径相应的宽度。然而，如图13所示，该峰值具有最大和最小波动。如图13中所示的Emax和Emin，所述峰值强度偏差Δ＝(Emax-Emin)÷(Emax+Emin)％。
下列基于计算机模拟形成的表，示出具有图4A-4C装置的内径为3英寸的流体通道内体积吸收率和峰值强度偏差之间的关系。如图可知，即使具有相对高的体积吸收率，由于在流体通道的流体内的基本上均匀的照射分布，因而峰值强度偏差是很小的。
  体积吸收率，α(mm-1)   Δ＝(Emax-Emin)÷(Emax+Emin)％
    0.00     ＜±0.5％
    0.01     ±1.5％
    0.02     ±3.5％
    0.03     ±5.5％
    0.05     ±9.6％
图14示出图2A和2B中装置的标准化能量作为不同内径的流体通道的体积吸收率α的函数。类似地，图15示出图4A和4B中装置的标准化能量作为不同内径的流体通道的体积吸收率α的函数。同样，图16示出图8A-8C中装置的标准化能量作为不同内径的流体通道的体积吸收率α的函数。在图14-16中，所有曲线当α＝0.00时被标准化(能量级当α＝0.0时为100％)。如图可知，即使具有相对高的体积吸收率，照射分布基本上是均匀的。
因此，本发明提供一种用于处理流体的改进装置和方法。流体通过本发明装置的流体通道被处理，并被基本上均匀的照射分布所照射。尽管示出具有2，3和4个反射槽的装置，但是可提供任何数量N的槽，每一个槽的长轴与其沿角度布置的相邻槽的长轴以角度为2π/N相交，其中N为槽的数量。尽管本发明结合优选实施例进行描述，但可以进行任何改变、重新排列和替换，而其效果落入本发明的范围内。

Claims (75)

1.一种用于处理流体体积的装置，所述装置包括：
流体流过的流体通道；
至少一个设置在所述流体通道外部的照射源；
至少两个细长的椭圆形反射槽，用于将所述照射源的照射反射到所述流体通道上，每一个槽具有封闭的椭圆形端部和开口端，所述开口端彼此正对以形成在所述槽的封闭端之间的空间，每一个槽具有第一和第二聚焦轴，长轴和短轴，其中：
每一个所述流体通道和至少一个所述照射源位于所述槽的封闭端之间的空间内，每一个照射源位于所述至少两个槽的相应一个内；和
至少一个所述流体通道，至少一个所述照射源与所述聚焦轴分开布置，从而在所述流体通道的流体中提供基本上均匀的照射分布。
2.如权利要求1所述的装置，其中，每一个照射源包括用于产生光以照射所述流体通道的光源。
3.如权利要求2所述的装置，其中，每一个光源包括紫外线光源。
4.如权利要求3所述的装置，其中，每一个紫外线光源包括微波无电极放电管。
5.如权利要求4所述的装置，其中，所述流体通道具有中心轴，每一个管为具有基本上平行于所述流体通道中心轴的纵轴的管状管。
6.如权利要求3所述的装置，其中，每一个紫外线光源包括弧形放电管。
7.如权利要求3所述的装置，其中，每一个紫外线光源包括荧光放电管。
8.如权利要求2所述的装置，其中，所述流体通道具有中心轴，每一个光源包括具有基本上平行于所述流体通道中心轴的纵轴的管状管。
9.如权利要求1所述的装置，其中，所述流体通道具有中心轴，每一个照射源具有管的形状，且具有基本上平行于所述流体通道中心轴的纵轴。
10.如权利要求1所述的装置，其中，至少一个所述照射源和所述流体通道与聚焦轴分开布置。
11.如权利要求10所述的装置，其中，所述流体通道设置在其中一个长轴上。
12.如权利要求1所述的装置，其中，所述流体通道与长轴分开布置。
13.如权利要求1所述的装置，其中，所述流体通道和所述至少一个照射源定位成在所述流体通道内流过的流体的截面上提供一基本上二维的均匀的照射分布。
14.如权利要求1所述的装置，其中，所述流体通道和所述至少一个照射源定位成在所述流体通道内流过的流体体积上提供一基本上三维的均匀的照射分布。
15.如权利要求1所述的装置，其中，每一个照射源定位在所述第一聚焦轴和相应一个所述槽的椭圆形端部之间。
16.如权利要求1所述的装置，其中，所有所述槽的第二聚焦轴基本上是重合的。
17.如权利要求1所述的装置，其中，所述槽的第二聚焦轴形成具有对称中心的图形。
18.如权利要求17所述的装置，其中，所述照射源具有纵轴，所述流体通道具有基本上穿过所述图形的对称中心延伸并基本上平行于所述照射源的纵轴的中心轴。
19.如权利要求1所述的装置，其中，所述装置具有一个照射源和两个槽。
20.如权利要求19所述的装置，其中，所述流体通道位于其中一个所述椭圆形槽的第一聚焦轴上，以及所述照射源与所述聚焦轴分开布置，并与另一个所述槽的第一聚焦轴相邻。
21.如权利要求19所述的装置，其中，所述照射源位于其中一个所述槽的第一聚焦轴上，以及所述流体通道与所述聚焦轴分开布置，并与另一个所述槽的第一聚焦轴相邻。
22.如权利要求19所述的装置，其中，所述槽的长轴重合。
23.如权利要求19所述的装置，其中，所述两个槽具有不重合的长轴。
24.如权利要求23所述的装置，其中，所述两个槽具有平行的长轴。
25.如权利要求24所述的装置，其中，所述照射源具有纵轴，所述流体通道具有在所述槽的长轴之间延伸并基本上平行于所述照射源的纵轴的中心轴。
26.如权利要求23所述的装置，其中，所述照射源位于其中一个所述槽的长轴上，且所述流体通道位于另一个所述槽的长轴上。
27.如权利要求1所述的装置，其中，所述装置具有两个照射源和两个槽。
28.如权利要求27所述的装置，其中，所述槽的第二聚焦轴重合，所述流体通道位于所述第二聚焦轴上，且每一个所述照射源与各自的第一聚焦轴分开布置。
29.如权利要求27所述的装置，其中，所述两个照射源中的每一个位于所述槽的相应一个的第一聚焦轴上，且所述流体通道与所述第二聚焦轴分开布置。
30.如权利要求27所述的装置，其中，所述槽的长轴重合。
31.如权利要求27所述的装置，其中，所述两个槽具有不重合的长轴。
32.如权利要求31所述的装置，其中，所述两个槽具有平行的长轴。
33.如权利要求32所述的装置，其中，所述照射源具有平行的纵轴，所述流体通道具有在所述槽的长轴之间延伸并基本上平行于所述照射源的纵轴的中心轴。
34.如权利要求31所述的装置，其中，所述照射源位于其中一个所述槽的长轴上，所述流体通道位于另一个所述槽的长轴上。
35.如权利要求1所述的装置，其中，每一个槽的长轴与每一个成角度相邻的椭圆形槽的长轴以等于2π/N的角度相交，其中N为槽的数量。
36.如权利要求35所述的装置，其中，所述槽的长轴相交在一个交点上。
37.如权利要求36所述的装置，其中，所述流体通道具有穿过所述长轴的交点的中心轴。
38.如权利要求35所述的装置，其中，所述流体通道具有流过由所述槽的长轴交点形成的图形的对称中心的中心轴。
39.如权利要求35所述的装置，所述装置具有三个照射源，其中N＝3。
40.如权利要求39所述的装置，其中，所述槽的长轴相交在一个交点上。
41.如权利要求40所述的装置，其中，所述流体通道具有流过所述长轴的交点的中心轴。
42.如权利要求39所述的装置，其中，所述流体通道具有流过由所述槽的长轴的交点形成的图形的中心轴。
43.如权利要求35所述的装置，所述装置具有四个照射源，其中N＝4。
44.如权利要求43所述的装置，其中，所述槽的长轴相交在一个交点上。
45.如权利要求44所述的装置，其中，所述流体通道具有流过所述长轴的交点的中心轴。
46.如权利要求43所述的装置，其中，所述流体通道具有流过由所述槽的长轴的交点形成的图形的对称中心的中心轴。
47.如权利要求1所述的装置，还包括用于每个照射源的支座，使得每个照射源的位置是可调的，从而在所述流体通道中流动的流体内提供基本上二维的均匀的照射分布。
48.如权利要求47所述的装置，其中，每个支座适于可调节地定位在一安装表面上。
49.如权利要求47所述的装置，其中每个照射源可调节地安装在所述支座上。
50.如权利要求1所述的装置，还包括用于每个照射源的支座，使得每个照射源的位置是可调的，从而在所述流体通道中流过的流体内提供基本上三维的均匀的照射分布。
51.如权利要求50所述的装置，其中，每个支座适于可调节地定位在一安装表面上。
52.如权利要求50所述的装置，其中，每个照射源可调节地安装在所述支座上。
53.如权利要求1所述的装置，还包括用于每个槽的支座，使得每一个槽的位置是可调的，从而在所述流体通道中流动的流体内提供一基本上二维的均匀的照射分布。
54.如权利要求53所述的装置，其中，每个支座适于可调节地定位在一安装表面上。
55.如权利要求53所述的装置，其中，每个槽可调节地安装在其中一个支座上。
56.如权利要求1所述的装置，还包括用于每个槽的支座，使得每个槽的位置是可调的，从而在所述流体通道中流动的流体内提供基本上三维的均匀的照射分布。
57.如权利要求56所述的装置，其中，每个支座适于可调节地定位在一安装表面上。
58.如权利要求56所述的装置，其中，每个槽可调节地安装在其中一个支座上。
59.如权利要求1所述的装置，还包括用于所述流体通道的可调节支座，使得所述流体通道的位置是可调的，从而在所述流体通道中流动的流体内提供基本上二维的均匀的照射分布。
60.如权利要求59所述的装置，其中，所述支座适于可调节地定位在一安装表面上。
61.如权利要求59所述的装置，其中，所述流体通道可调节地安装在所述支座上。
62.如权利要求1所述的装置，还包括用于所述流体通道的可调节支座，使得所述流体通道的位置是可调的，从而在所述流体通道中流动的流体内提供一基本上三维的均匀的照射分布。
63.如权利要求62所述的装置，其中，所述支座适于可调节地定位在安装表面上。
64.如权利要求62所述的装置，其中，所述流体通道可调节地安装在所述支座上。
65.一种在流体通道内流动的流体的横截面上提供基本上二维的均匀的照射分布的方法，所述方法包括：
提供如权利要求1所述的结构；
将(a)所述流体通道和(b)所述至少一个照射源中的至少一个定位，从而来自所述至少一个照射源的散焦的照射以基本上二维的均匀的照射分布照射所述流体通道内的流体；和
激励所述至少一个照射源。
66.一种在流体通道内流动的流体的体积内提供基本上三维的均匀的照射分布的方法，所述方法包括：
提供如权利要求1所述的结构；
将(a)所述流体通道和(b)所述至少一个照射源中的至少一个定位，从而来自所述至少一个照射源的散焦的照射以基本上三维的均匀的照射分布照射所述流体通道内的流体；和
激励所述至少一个照射源。
67.一种在流体通道内流动的流体的横截面上提供基本上二维的均匀的照射分布的方法，所述方法包括：
提供如权利要求1所述的结构；
移动至少一个槽，从而来自所述至少一个照射源的散焦的照射以基本上二维的均匀的照射分布照射所述流体通道内的流体；和
激励所述至少一个照射源。
68.如权利要求67所述的装置，其中，所述至少一个槽沿平行于该槽的短轴的方向移动。
69.一种在流体通道内流动的流体体积内提供基本上三维的均匀的照射分布的方法，所述方法包括：
提供如权利要求1所述的结构；
移动至少一个槽，从而来自所述至少一个照射源的散焦的照射以基本上三维的均匀的照射分布照射所述流体通道内的流体；和
激励所述至少一个照射源。
70.如权利要求69所述的装置，其中，所述至少一个槽沿平行于该槽的短轴的方向移动。
71.一种处理流体通道内流过的流体的方法，包括；
提供如权利要求1所述的装置；
使流体流过所述流体通道；
用所述至少一个照射源产生的照射来照射所述流体通道中的流体；和
激励所述至少一个照射源。
72.如权利要求71所述的方法，其中，照射所述流体包括使用紫外线光照射所述流体。
73.如权利要求72所述的方法，其中，所述流体包括将被消毒的材料，其中照射所述流体将所述流体通道中流过的材料消毒。
74.如权利要求72所述的方法，其中，所述流体包括将被净化的材料，其中照射所述流体将所述流体通道中流过的材料净化。
75.如权利要求72所述的方法，其中，所述流体包括将被氧化的材料，其中照射所述流体使所述流体通道中流过的材料氧化。
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