CN1676744A - Pu绒皮革加工工艺及其制品 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及PU合成革加工工艺,特别是一种对PU合成革进行深加工工艺及制品。其特征在于在对毛布正面进行两次涂浆、凝固、常温水洗之后,对基材进行高温调节湿度,基材背面两次涂浆,绒皮发泡剂涂植,干燥,室温熟成,研磨,水中浸泡,揉干,形成在市布背面依次涂布浆料层和涂植发泡绒剂层的制品。其目的是为了设计一种能够生产出仿真效果好,具有真皮肉感、绒感特点的PU绒皮革加工工艺及其制品。与现有技术相比,具有手感和松软度较好、绒皮面不会结疤,绒皮层牢固度强,不会掉落、退色等优点。

Description

PU绒皮革加工工艺及其制品
本发明涉及PU合成革加工工艺,特别是一种对PU合成革进行深加工工艺及制品。
目前PU合成革主要由市布、PU浆料层、PU贴面层构成,其加工工艺分湿式底坯加工工艺和干式贴面加工工艺两道工序,其中湿式底坯加工工艺由一次涂浆、二次涂浆、常温水洗、高温水洗、烘干等工序组成。人造革生产技术已很成熟,发展数量超越国际同行业,但我国人造革产品没有肉感、绒感,仿真效果差,属数量多,水平不高,产品档次低的产品。
本发明的目的是在现有的PU合成革加工工艺的基础上,设计一种能够生产出仿真效果好,具有真皮肉感、绒感特点的PU绒皮革加工工艺及其制品。
为了达到上述目的,本发明采用以下技术解决方案:一种PU绒皮革加工工艺,包含湿式底坯加工工艺,其特征在于在对毛布正面进行一次涂浆、二次涂浆、凝固、常温水洗之后,将基材放在干燥轮上进行高温调节湿度,然后用绢目轮将浆料涂在基材的背面,经高温水洗、烘干后,再在基材背面的浆料层上进行二次涂浆,并通过静电将绒皮发泡剂涂植在该浆料层上,经烘箱干燥,室温熟成,研磨机研磨,水中浸泡后,将基材进行揉干。
按照上述工艺制成的制品,其在市布背面依次涂布浆料层和涂植发泡绒剂层,形成具有真皮肉感、绒感特点,仿真效果好的PU绒皮革制品。
下面结合附图和实施例对本发明作进一步详细说明。
图1为本实施例中湿式底坯加工工艺方框图。
图2为本实施例制品的断面结构示意图。
本实施例的PU绒皮革加工加工工艺,包含湿式底坯加工工艺和干式贴面加工工艺,其中干式贴面加工工艺完全为合成革现有生产技术。
1、湿式底坯加工工艺。如图1所示,先起一定规格的毛布,将毛布浸渍到PU浆料中,进行毛布正面一次涂浆和二次涂浆,然后放在10%的DMF水溶液中凝固,凝固后的基材经常温水洗后,放在干燥轮上进行高温调节湿度,然后用绢目轮将浆料涂在基材的背面,经高温水洗、烘干后,再在基材背面的浆料层上进行二次涂浆,并通过静电将绒皮发泡剂涂植在该浆料层上,经烘箱干燥,室温熟成24小时,研磨机研磨,在植绒面上用具有真皮味的固定剂进行涂布,干燥后,将基材放在水中浸泡,防止绒皮面结疤,浸泡后将基材进行揉干,提高基材松软度,提高防真效果。
2、干式贴面加工工艺:该工艺一般在湿式底坯加工工艺完成之后根据需要再进行,完全为合成革现有生产技术,不再详细阐述。
根据不同制品可采用上述的组合工艺可以得到相应的制品。
如图2所示,本实施例的PU绒皮革制品根据面料的不同,分为两种,一种制品包含市布(3)、浆料层(2)、(4)、PU贴面层(1)、发泡绒剂层(5),浆料层(2)涂布在市布(3)正面,贴面层(1)粘贴在浆料层(2)上,浆料层(4)涂布在市布(3)背面,发泡绒剂层(5)涂植在浆料层(4)上,它通过湿式底坯加工工艺和干式贴面加工工艺来实现;另一种制品其不同点在于PU贴面层(1)采用发泡绒剂层进行代替,即制品上、下外层都为发泡绒剂层,因此在湿式底坯加工工艺过程中要通过两次的发泡绒剂层形成加工工艺来实现。不必再进行干式贴面加工工艺。
综上所述,本发明与现有技术相比具有以下优点:
1、手感和松软度较好。
2、绒皮面不会结疤。
3、具有真皮的肉感和绒感。
4、外形酷似真皮。
5、绒皮层牢固度强,不会掉落、退色。

Claims (3)

1、一种PU绒皮革加工工艺,包含湿式底坯加工工艺,其特征在于在对毛布正面进行一次涂浆、二次涂浆、凝固、常温水洗之后,将基材放在干燥轮上进行高温调节湿度,然后用绢目轮将浆料涂在基材的背面,经高温水洗、烘干后,再在基材背面的浆料层上进行二次涂浆,并通过静电将绒皮发泡剂涂植在该浆料层上,经烘箱干燥,室温熟成,研磨机研磨,水中浸泡后,将基材进行揉干。
2、一种根据权利要求1所述的PU绒皮革加工工艺制成的制品,它包含市布,其特征在于在市布背面依次涂布浆料层和涂植发泡绒剂层。
3、根据权利要求2所述的PU绒皮革制品,其特征在于在市布正面也依次涂布浆料层和涂植发泡绒剂层。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication