CN1651594A - 电解液微弧等离子合成碳氮化钛厚膜的方法 - Google Patents
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- 239000010936 titanium Substances 0.000 title claims abstract description 99
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 98
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 97
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 title claims description 15
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 title claims description 13
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 49
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 16
- KGWDUNBJIMUFAP-KVVVOXFISA-N Ethanolamine Oleate Chemical compound NCCO.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O KGWDUNBJIMUFAP-KVVVOXFISA-N 0.000 claims description 14
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims description 14
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Natural products C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- -1 methane amide Chemical class 0.000 claims description 14
- CYKMNKXPYXUVPR-UHFFFAOYSA-N [C].[Ti] Chemical compound [C].[Ti] CYKMNKXPYXUVPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 claims 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 abstract 1
- 238000005255 carburizing Methods 0.000 description 5
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 2
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000005486 organic electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
Abstract
本发明公开了一种电解液微弧等离子合成碳氮化钛厚膜的方法，即在由60－90wt％的乙醇胺和40－10wt％的甲酰胺配制的电解液中，以钛或钛合金为阴极、不锈钢为阳极，采用脉冲电源在电压为450－650V、频率为50－500Hz、占空比为10－40％、阴阳极板间距为8－12cm的条件下对钛或钛合金进行微弧等离子处理，维持电解液温度在25－70℃，微弧等离子处理1－3小时，即可在钛或钛合表层生成厚度大于10μm的碳氮化钛膜。所合成的碳氮化钛厚膜与钛或钛合金之间无界面，呈微米级多孔结构，具有高的结合强度，硬度高于1500Hv，在润滑条件下其耐磨性优于物理气相沉积(PVD)和等离子增强化学气相沉积(PCVD)等技术制备的碳氮化钛膜。
Description
技术领域
本发明涉及一种合成碳氮化钛厚膜的方法，特别涉及一种用于钛和钛合金构件的电解液微弧等离子合成碳氮化钛厚膜的方法。
背景技术
钛和钛合金具有密度小、比强度高、耐蚀性好等优点，在航空航天、航海、化工、机械、冶金、医疗等领域有着重要应用。然而，钛和钛合金的硬度低、耐磨性差，严重影响了其使用性能。附着碳化钛、氮化钛或碳氮化钛一类硬质膜是提高钛和钛合金构件硬度和耐磨性的常用方法。目前，可在钛和钛合金表面形成碳化钛、氮化钛或碳氮化钛膜的技术包括：物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、等离子增强化学气相沉积(PCVD)、离子束增强沉积(IBED)、离子注入、气体渗氮、等离子渗氮和渗碳、电火花渗碳、熔盐氮化等方法。其中，PVD、CVD、PCVD和IBED等沉积方法是在真空室中进行，因所沉积碳氮化钛一类硬质膜的内应力大，膜的厚度不能超过3-5μm，否则，膜的结合强度太低，会自动从钛和钛合金表面剥落。离子注入、气体渗氮、等离子渗氮和渗碳等方法也是在真空室中进行，所形成的碳氮化钛膜与钛和钛合金之间无界面、结合牢固，但厚度较薄(不超过3μm)。电火花渗碳亦称高能微弧火化渗碳，是一线性技术；其原理类似电焊，是利用碳棒电极在钛合金工件表面转动，接触区产生放电火化而将该区域的碳棒电极瞬间加热到8000-25000℃汽化渗入钛合金表面，形成碳化钛膜；该膜与钛合金结合牢固，但厚度低于2μm。熔盐氮化是在450℃的LiCl-KCl-KNO3熔盐中，通过低电压(1-5V)使KNO3中的氮还原成活性氮原子、并扩散入钛合金，经过4小时的处理可在钛合金表层形成厚约1μm的氮化钛膜。上述方法的共同缺点是在钛和钛合金表面形成的碳化钛、氮化钛或碳氮化钛膜厚度较薄，在较大载荷下膜层易碎而失去强化效果。大量研究表明，碳氮化钛一类硬质膜厚度的增大可显著改善碳氮化钛/钛合金构件的耐磨性。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术的缺点，提供了一种可在钛和钛合金表层合成具有牢固结合性能的电解液微弧等离子合成碳氮化钛厚膜的方法
为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：在由60-90wt％的乙醇胺和40-10wt％的甲酰胺配制的电解液中，以钛或钛合金为阴极、不锈钢为阳极，采用脉冲电源在电压为450-650V、频率为50-500Hz、占空比为10-40％、阴阳极板间距为8-12cm的条件下对钛或钛合金进行微弧等离子处理，维持电解液温度在25-70℃，微弧等离子处理1-3小时，即可在钛或钛合表层生成厚度大于10μm的碳氮化钛膜。
本发明是在低温碳氮化合物有机电解液中，利用高电压微弧放电激活钛或钛合金试件表面的碳氮化合物，产生碳、氮等离子体，以合成碳氮化钛厚膜。所合成的碳氮化钛膜的厚度远大于现有技术制备的碳氮化钛膜。该厚膜呈微米级多孔结构，与钛和钛合金之间无界面，具有高的结合强度，硬度高于1500Hv，在润滑条件下其耐磨性优于PVD和PCVD等技术制备的碳氮化钛膜。
具体实施方式
实施例1：在由60wt％的乙醇胺和40wt％的甲酰胺配制的电解液中，以钛或钛合金为阴极、不锈钢为阳极，采用脉冲电源在电压为450V、频率为100Hz、占空比为10％、阴阳极板间距为8cm的条件下对钛或钛合金进行微弧等离子处理，维持电解液温度在45℃，微弧等离子处理1小时，即可在钛或钛合表层生成厚度大于10μm的碳氮化钛膜。
实施例2：在由70wt％的乙醇胺和30wt％的甲酰胺配制的电解液中，以钛或钛合金为阴极、不锈钢为阳极，采用脉冲电源在电压为500V、频率为50Hz、占空比为20％、阴阳极板间距为10cm的条件下对钛或钛合金进行微弧等离子处理，维持电解液温度在25℃，微弧等离子处理1.5小时，即可在钛或钛合表层生成厚度大于12μm的碳氮化钛膜。
实施例3：在由80wt％的乙醇胺和20wt％的甲酰胺配制的电解液中，以钛或钛合金为阴极、不锈钢为阳极，采用脉冲电源在电压为480V、频率为200Hz、占空比为16％、阴阳极板间距为12cm的条件下对钛或钛合金进行微弧等离子处理，维持电解液温度在50℃，微弧等离子处理2小时，即可在钛或钛合表层生成厚度大于15μm的碳氮化钛膜。
实施例4：在由75wt％的乙醇胺和25wt％的甲酰胺配制的电解液中，以钛或钛合金为阴极、不锈钢为阳极，采用脉冲电源在电压为550V、频率为300Hz、占空比为28％、阴阳极板间距为9cm的条件下对钛或钛合金进行微弧等离子处理，维持电解液温度在75℃，微弧等离子处理2.5小时，即可在钛或钛合表层生成厚度大于19μm的碳氮化钛膜。
实施例5：在由90wt％的乙醇胺和10wt％的甲酰胺配制的电解液中，以钛或钛合金为阴极、不锈钢为阳极，采用脉冲电源在电压为600V、频率为500Hz、占空比为40％、阴阳极板间距为11cm的条件下对钛或钛合金进行微弧等离子处理，维持电解液温度在70℃，微弧等离子处理3小时，即可在钛或钛合表层生成厚度大于22μm的碳氮化钛膜。
实施例6：在由85wt％的乙醇胺和15wt％的甲酰胺配制的电解液中，以钛或钛合金为阴极、不锈钢为阳极，采用脉冲电源在电压为650V、频率为400Hz、占空比为35％、阴阳极板间距为10cm的条件下对钛或钛合金进行微弧等离子处理，维持电解液温度在62℃，微弧等离子处理2小时，即可在钛或钛合表层生成厚度大于18μm的碳氮化钛膜。
本发明合成的碳氮化钛膜的厚度远大于现有技术制备的碳氮化钛膜。该厚膜呈微米级多孔结构，与钛和钛合金之间无界面，具有高的结合强度，硬度高于1500Hv，在润滑条件下其耐磨性优于PVD和PCVD等技术制备的碳氮化钛膜。
Claims (7)
1、电解液微弧等离子合成碳氮化钛厚膜的方法，其特征在于：在由60-90wt％的乙醇胺和40-10wt％的甲酰胺配制的电解液中，以钛或钛合金为阴极、不锈钢为阳极，采用脉冲电源在电压为450-650V、频率为50-500Hz、占空比为10-40％、阴阳极板间距为8-12cm的条件下对钛或钛合金进行微弧等离子处理，维持电解液温度在25-70℃，微弧等离子处理时间为1-3小时，即可在钛或钛合表层生成厚度大于10μm的碳氮化钛膜。
2、根据权利要求1所述的电解液微弧等离子合成碳氮化钛厚膜的方法，其特征在于：在由60wt％的乙醇胺和40wt％的甲酰胺配制的电解液中，以钛或钛合金为阴极、不锈钢为阳极，采用脉冲电源在电压为450V、频率为100Hz、占空比为10％、阴阳极板间距为8cm的条件下对钛或钛合金进行微弧等离子处理，维持电解液温度在45℃，微弧等离子处理1小时，即可在钛或钛合表层生成厚度大于10μm的碳氮化钛膜。
3、根据权利要求1所述的电解液微弧等离子合成碳氮化钛厚膜的方法，其特征在于：在由70wt％的乙醇胺和30wt％的甲酰胺配制的电解液中，以钛或钛合金为阴极、不锈钢为阳极，采用脉冲电源在电压为500V、频率为50Hz、占空比为20％、阴阳极板间距为10cm的条件下对钛或钛合金进行微弧等离子处理，维持电解液温度在25℃，微弧等离子处理1.5小时，即可在钛或钛合表层生成厚度大于12μm的碳氮化钛膜。
4、根据权利要求1所述的电解液微弧等离子合成碳氮化钛厚膜的方法，其特征在于：在由80wt％的乙醇胺和20wt％的甲酰胺配制的电解液中，以钛或钛合金为阴极、不锈钢为阳极，采用脉冲电源在电压为480V、频率为200Hz、占空比为16％、阴阳极板间距为12cm的条件下对钛或钛合金进行微弧等离子处理，维持电解液温度在50℃，微弧等离子处理2小时，即可在钛或钛合表层生成厚度大于15μm的碳氮化钛膜。
5、根据权利要求1所述的电解液微弧等离子合成碳氮化钛厚膜的方法，其特征在于：在由75wt％的乙醇胺和25wt％的甲酰胺配制的电解液中，以钛或钛合金为阴极、不锈钢为阳极，采用脉冲电源在电压为550V、频率为300Hz、占空比为28％、阴阳极板间距为9cm的条件下对钛或钛合金进行微弧等离子处理，维持电解液温度在75℃，微弧等离子处理2.5小时，即可在钛或钛合表层生成厚度大于19μm的碳氮化钛膜。
6、根据权利要求1所述的电解液微弧等离子合成碳氮化钛厚膜的方法，其特征在于：在由90wt％的乙醇胺和10wt％的甲酰胺配制的电解液中，以钛或钛合金为阴极、不锈钢为阳极，采用脉冲电源在电压为600V、频率为500Hz、占空比为40％、阴阳极板间距为11cm的条件下对钛或钛合金进行微弧等离子处理，维持电解液温度在70℃，微弧等离子处理3小时，即可在钛或钛合表层生成厚度大于22μm的碳氮化钛膜。
7、根据权利要求1所述的电解液微弧等离子合成碳氮化钛厚膜的方法，其特征在于：在由85wt％的乙醇胺和15wt％的甲酰胺配制的电解液中，以钛或钛合金为阴极、不锈钢为阳极，采用脉冲电源在电压为650V、频率为400Hz、占空比为35％、阴阳极板间距为10cm的条件下对钛或钛合金进行微弧等离子处理，维持电解液温度在62℃，微弧等离子处理2小时，即可在钛或钛合表层生成厚度大于18μm的碳氮化钛膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNB2004100733225A CN1318638C (zh) | 2004-11-29 | 2004-11-29 | 电解液微弧等离子合成碳氮化钛厚膜的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNB2004100733225A CN1318638C (zh) | 2004-11-29 | 2004-11-29 | 电解液微弧等离子合成碳氮化钛厚膜的方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1651594A true CN1651594A (zh) | 2005-08-10 |
| CN1318638C CN1318638C (zh) | 2007-05-30 |
Family
ID=34868994
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNB2004100733225A Expired - Fee Related CN1318638C (zh) | 2004-11-29 | 2004-11-29 | 电解液微弧等离子合成碳氮化钛厚膜的方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN1318638C (zh) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106282907A (zh) * | 2016-09-12 | 2017-01-04 | 河海大学常州校区 | 一种钛合金表面微弧放电制备纳米仿生结构的方法 |
| CN108517486A (zh) * | 2018-07-11 | 2018-09-11 | 江苏苏扬包装股份有限公司 | 一种采用液相弧光放电的活塞环碳氮共渗表面处理方法 |
| CN110773215A (zh) * | 2018-07-31 | 2020-02-11 | 哈尔滨工业大学 | 一种水相等离子体气相沉积法制备过渡金属碳氮化物材料陶瓷膜层高效oer催化剂的方法 |
| CN112301395A (zh) * | 2019-08-01 | 2021-02-02 | 南京理工大学 | 附有陶瓷与聚合物复合膜的镍钛合金的制备方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1021836C (zh) * | 1991-04-20 | 1993-08-18 | 中国科学院电工研究所 | 碳氮化钛系列镀层离子镀工艺 |
| FR2784694B1 (fr) * | 1998-10-15 | 2000-11-10 | Commissariat Energie Atomique | Procede de preparation par depot chimique en phase vapeur assiste par plasma (pacvd) de revetements a base de titane |
| JP2002239810A (ja) * | 2001-02-22 | 2002-08-28 | Mmc Kobelco Tool Kk | 切粉に対する表面潤滑性にすぐれた表面被覆超硬合金製切削工具 |
-
2004
- 2004-11-29 CN CNB2004100733225A patent/CN1318638C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106282907A (zh) * | 2016-09-12 | 2017-01-04 | 河海大学常州校区 | 一种钛合金表面微弧放电制备纳米仿生结构的方法 |
| CN108517486A (zh) * | 2018-07-11 | 2018-09-11 | 江苏苏扬包装股份有限公司 | 一种采用液相弧光放电的活塞环碳氮共渗表面处理方法 |
| CN108517486B (zh) * | 2018-07-11 | 2019-11-29 | 江苏苏扬包装股份有限公司 | 一种采用液相弧光放电的活塞环碳氮共渗表面处理方法 |
| CN110773215A (zh) * | 2018-07-31 | 2020-02-11 | 哈尔滨工业大学 | 一种水相等离子体气相沉积法制备过渡金属碳氮化物材料陶瓷膜层高效oer催化剂的方法 |
| CN110773215B (zh) * | 2018-07-31 | 2022-09-09 | 哈尔滨工业大学 | 一种等离子体沉积法制备过渡金属碳氮化物材料陶瓷膜层高效oer催化剂的方法 |
| CN112301395A (zh) * | 2019-08-01 | 2021-02-02 | 南京理工大学 | 附有陶瓷与聚合物复合膜的镍钛合金的制备方法 |
| CN112301395B (zh) * | 2019-08-01 | 2022-06-24 | 南京理工大学 | 附有陶瓷与聚合物复合膜的镍钛合金的制备方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1318638C (zh) | 2007-05-30 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| EE01 | Entry into force of recordation of patent licensing contract |
Assignee: Linyi Kechuang Material Co. Ltd. Assignor: Xi'an Jiaotong University Contract record no.: 2011370000197 Denomination of invention: Method of synthesizing titanium carbon nitride thick film by using electrolytic bath micro arc plasma Granted publication date: 20070530 License type: Exclusive License Open date: 20050810 Record date: 20110511 |
|
| C17 | Cessation of patent right | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20070530 Termination date: 20131129 |