CN1470676A - 一种清除金属带边缘枝状晶的装置 - Google Patents

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Abstract

一种可清除金属带边缘枝状晶的装置包括金属带引导机构、至少一个机械剥离机构、和可在至少一个金属带边缘调节剥离机构的调节机构。为了最大程度地清除金属带边缘的枝状晶,并提供最好的保护以免损坏金属带和/或剥离机构,至少一个机械剥离装置(1)固定到带有朝向金属带边缘的弹性预应力的支撑件(2),其中支撑件(2)刚性连接到沿金属带边缘运动的间隔滚轮(6)的轴(3)。

Description

一种清除金属带边缘枝状晶的装置
技术领域
本发明涉及一种清除金属带边缘枝状晶的装置,包括金属带引导机构和至少一个机械剥离机构和可在至少一个金属带边缘调整剥离机构的调节机构。
背景技术
在电解处理金属带的过程中,晶体,所谓的枝状晶,在电场强度比的作用下在金属带的边缘析出。这就带来了金属带的加工问题,即枝状晶破裂并在金属带的表面留下痕迹。为了解决这个问题,已经作出了许多尝试,试图在可形成枝状晶的电解处理后即时消除枝状晶,特别是金属带边缘的枝状晶。为此目的,已经提出了多种器具,以机械方式来清除枝状晶,例如刀具、刷子、或类似器具,但是这些清除方式要求相对这些器具非常精确地引导金属带,以避免损坏金属带,同时要保证完全清除枝状晶。但是,在金属带宽度突然变化的情况下,机械剥离机构和/或金属带本身通常是不能调整的,或不能在要求的速度和精度下进行调整,从而导致损坏。
这就是提出一些已公开的工艺和装置的原因,例如欧洲专利EP O978 575 A1,其中的枝状晶是由直接射到金属带上的高压液体射流来进行清除。但是,这种方法要求相当多的设备和大量的循环液体。另外,被液体带走的与金属带脱离的枝状晶可再回到金属带。
因此,本发明的目的是提出如上所述的清除枝状晶的机械装置,其可使金属带边缘的枝状晶得到最大程度的清除,同时提供最好的保护,使金属带和/或剥离机构免于损坏,即使金属带宽度存在正和负变化的情况。
发明内容
为了实现这个目的,本发明提出将至少一个机械剥离机构,其固定到带有朝向金属带边缘的弹性预应力的支撑件上,该支撑件刚性连接到沿金属带边缘移动的间隔滚轮的轴上。这样可保证不必要采用手动调整,就可自动引导机械剥离机构在距金属带边缘的最佳距离处移动,由于支撑件和间隔滚轮是连接的,支撑件可跟着间隔滚轮移动。
根据本发明的具有优越性的结构,机械剥离机构、其支撑件和间隔滚轮可移动地固定在引导块和引导机构上,引导块和引导机构基本上位于与金属带的纵向轴线成直角的方向。这些特征使得可对剥离机构整体进行简单调整,与各个部件单独安装相比,可具有较长的横向于金属带轴向的路径。
为了防止在横向移动的同时出现倾斜,根据本发明另外的特征,设置了在两个平行导轨上移动的引导块。
经常需要重新调整剥离机构,例如,为了在金属带边缘宽度有很大变化时使剥离机构施加到金属带边缘上的压力基本上相同,补偿金属带中心相对剥离机构的纵向中心线的偏移。为了实现这个目的,根据本发明的装置的优选实施例,最好是采用气动驱动装置使引导块沿引导机构定位。
最好是通过直接控制阀对气动驱动装置进行控制。
根据本发明的另一个优选实施例,如果引导块及引导机构、以及气动驱动装置及另外的元件和控制元件都封闭在壳体中,就能够很好地保护装置的机械和气动部件,其中壳体设有平行于引导机构的槽,间隔滚轮和机械剥离机构的固定件可通过该槽突出到外面。在壳体中,所提到的部件受到保护免于机械损坏,并可防止与腐蚀性液体接触。
为了可靠地防止与腐蚀性气体介质接触,且不设置原理上可行但可由于其滞缓作用而阻碍剥离机构进行调整的壳体密封,根据本发明另外的优选实施例,壳体可设置保护性气体源,其内腔的压力保持在高于大气压。
附图说明
在下面的说明中,将通过参考附图中的示例更详细地介绍本发明,其中:
图1a显示了与金属带接触的机械剥离机构,和处于水平投影位置,即垂直于带平面的接触滚轮;
图1b显示了从平行于金属带轴线的方向看去的机械剥离机构;
图2是从与金属带轴线成直角的方向看去的带有整个支撑和引导结构的剥离机构的截面图;
图3是从垂直于金属带的方向看去的图2中的引导块附近区域的部件的水平投影;
图4a是从垂直于金属带平面的方向看去的支撑结构壳体内部与金属带移动方向成直角的支撑结构的一半的水平投影;
图4b是从下面即从金属带的方向看去的装置相同一半的支撑结构壳体,装置带有剥离机构的外支撑,剥离机构本身,和接触滚轮;
图5a到5c示出沿金属带轴向和从下方金属带看去的整个装置,即整个宽度上的装置;和从垂直于金属带平面的方向看去的整个装置,其中壳体顶部是敞开的。
具体实施方式
未在图中显示的可沿金属带边缘移动的刀具1或类似的剥离或铲刮器具固定到支撑臂2,最好通过螺纹连接到支撑臂并能够取下和进行更换。连接刀具的支撑臂2安装在可移动的支撑件4上,可绕基本上正交于金属带轴线的轴3在金属带的平面上摆动。支撑件4安装到围绕基本上平行于轴3的第二轴5的中心支承上,支撑结构将在下面进一步解释。
间隔滚轮6最好安装成可绕支撑臂2的轴3转动,在移动通过整个装置时沿金属带边缘移动,因此保证了轴3到金属带边缘的距离总是保持不变,保证了支撑臂2到金属带边缘的距离不变,不管是否金属带宽度变化或金属带尺寸的任何其他改变。支撑臂2的轴也可以设置成与间隔滚轮6的轴3有恒定距离。要想实现这个目的,可将支撑臂2加工成绕轴3枢轴转动的双臂杆,刀具1固定在一个杆臂上,以轴3为中心的相对侧上的另一杆臂连接到弹簧7或类似的弹性件。作用于支撑臂2上的弹簧7或弹性件可使支承刀具1的杆臂受到朝金属带边缘的推力,使得刀具1压在金属带边缘上沿边缘移动,其中刀具具有以杠杆率传递的力,可将金属带边缘的枝状晶剥离。支撑臂2与弹簧连接的杆臂上的限位止动件8限制了刀具1朝金属带的枢轴转动。
图1b显示出间隔滚轮6最好设有凹槽6a。其优点在于,如果凹槽具有可保持与金属带边缘接触的沿滚轮圆周的V形,就可保证可靠的金属带引导。间隔滚轮6附近的梁4最好是设计成可以叉状绕滚轮6延伸,以便牢固地固定滚轮6和支撑臂2。支撑臂2的结构还可以相同方式设置成具有在间隔滚轮6上和下方延伸的两个臂,最好在梁4中心面的上方和下方设置两个弹簧7,以便保证有对称的力作用在支撑臂2上。
图2的截面图显示了上面介绍的部件1、2和6的支撑结构,其中固定到第二轴5的梁4的端件4a设有基准面。端件4a防扭转地固定到螺栓9的端部,螺栓9最好通过两个滚柱轴承或球轴承11可枢轴转动地固定到引导块10。引导块10以及螺栓9和与金属带接触的整个机构可移动地固定到两个导轨12上,导轨最好具有圆形的断面,基本上与金属带移动方向成直角。
为了使与金属带接触的整个构件压在所述金属带上,在螺栓9的顶端设置了包括另一弹簧13或类似弹性件的机构,弹簧作用于盘14,盘14突出于螺栓9顶端或防扭转地固定到螺栓顶端。弹簧13作用于螺栓9可使其转动,并带动间隔滚轮6和支撑臂2及固定其上的刀具沿朝金属带边缘的方向移动并压在金属带边缘上。
为了能够不只是靠螺栓9转动来适应金属带宽度的进一步变化,将引导块10设置在引导导轨12上,以便能够沿正交于金属带移动方向的方向移动。本发明的弹簧机构最好包括在导轨12平面上方和下方的两个预拉伸弹簧15,以保证引导块10施加作用于金属带中心的力,从而沿此方向压在金属带上。
图3的水平投影图显示了盘14沿部分圆周延伸的细长孔16。当盘14转动以及相连接的螺栓9随之转动时,细长孔沿设置在引导块10的止动销17移动。止动销17和细长孔16共同限制了盘14的转动范围,因此与金属带接触的间隔滚轮6和连接其上的部件不能朝金属带中心有过大的摆动。
图4a是根据本发明的装置的壳体18打开时的水平投影图。图4b是从下方,即从金属带的位置,看去的视图。除了细长孔19之外,处于操作状态的壳体是完全封闭的,细长孔基本上位于相对金属带移动方向的直角方向的位置,螺栓9通过该孔从壳体18突出。壳体18还设置了压缩空气或保护气体的输送机构(未示出),这样使得壳体18内腔的压力保持大于大气压,避免了电解液或类似化合物的蒸气、飞溅等进入壳体,防止了腐蚀或在内部形成晶体损害装置的功能。
另外,在壳体18内部为每个引导块10都设置了最好是气动驱动的调节气缸20,引导块通过气缸在力的作用下移动。这点是非常有优越性的,一方面可以提供较长的调节路径,另一方面当引导块沿装置移动没有准确地位于中心时,可以在金属带的两侧提供相同的压力。调节气缸20固定在壳体18上,其活塞杆21作用于引导块10,最好是作用于位于导轨平面侧面突出的臂上,该臂最好是位于弹簧15的附近。
从图5a到5c可以看到根据本发明的整个装置具有对称结构,使得可同时清除金属带两侧的枝状晶,作用于金属带边缘的部件产生的侧向力基本上是均衡的。带有导轨12和调节气缸20的壳体18固定在支撑件22上,并位于金属带的上方,使得连接清除枝状晶的间隔滚轮6和刀具1的梁4在金属带区域上方延伸。因此,基本上避免了金属带具有的腐蚀性液体进入壳体18内部的危险,壳体内压力大于大气压的保护性气体或密封气体进一步减少了上述危险。

Claims (7)

1.一种清除金属带边缘枝状晶的装置,包括金属带引导机构、至少一个机械剥离机构、可在至少一个金属带边缘调节所述剥离机构的调节机构;其特征在于,至少一个机械剥离装置(1)固定到带有朝向金属带边缘的弹性预应力的支撑件(2)上,其中所述支撑件(2)刚性连接到沿金属带边缘运动的间隔滚轮(6)的轴(3)。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述机械剥离机构(1)、所述支撑件(2)和所述间隔滚轮(6)可运动地固定到位于与所述金属带纵轴线基本成直角位置的引导块(10)和引导机构(12)。
3.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,所述引导块(10)在两个平行的导轨(12)上移动。
4.根据权利要求2或3所述的装置,其特征在于,所述引导块(10)最好通过气动驱动装置(20,21)沿所述引导机构(12)定位。
5.根据权利要求4所述的装置,其特征在于,所述气动驱动装置(20,21)通过直接控制阀进行控制。
6.根据权利要求2到5中任一项所述的装置,其特征在于,所述引导块(10)、所述引导机构(12)、和气动驱动装置(20,21)及其另外的和控制元件都封闭在壳体(18)中,所述壳体上设有平行于所述引导机构(12)延伸的槽(19),所述间隔滚轮(6)和所述机械剥离机构(1)的固定件(9)穿过所述槽突出到外面。
7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述壳体(18)设有保护气体源,其内腔压力保持在高于大气压。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2386663A (en) * 1944-11-16 1945-10-09 Carnegie Illinois Steel Corp Edge scraper for electrolytic tinning lines and the like
US4787112A (en) * 1987-08-28 1988-11-29 Usx Corporation Edge brush for electroplated strip
US5837120A (en) * 1994-09-30 1998-11-17 Electroplating Technologies, Inc. Method and apparatus for electrochemical processing
US5476578A (en) * 1994-01-10 1995-12-19 Electroplating Technologies, Ltd. Apparatus for electroplating
JPH07243087A (ja) * 1994-03-04 1995-09-19 Nippon Steel Corp 電気めっき鋼板の両側端面研削方法及び両側端面が研削された電気めっき鋼板
JP3169576B2 (ja) * 1998-02-09 2001-05-28 川崎製鉄株式会社 電気めっき鋼帯の製造方法及び装置
DE19834759C2 (de) * 1998-08-01 2002-02-21 Salzgitter Ag Verfahren und Vorrichtung zum Entfernen von Dendriten

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