CN1467039A - 间歇式散布装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种可减小散布的粉粒体的堆积层之间的时间间隔的粉粒体间歇式散布装置。其可间歇式地将粉粒体(M)散布在输送的部件上,其具有:传送供给的粉粒体(M),从开口(10)散布粉粒体(M)的主通路(1);开口作在上述主通路(1)的侧部上开口的分支通路(2);通过喷出压力气体(G),使气体横穿上述主通路(1),将上述主通路(1)内的粉粒体(M)的一部分分配至分支通路(2)的分配装置(5)。
Description
技术领域
本发明涉及间歇式散布装置。
背景技术
目前,已知有将粉粒体间歇式地散布在被输送的部件上的粉粒体间歇式散布装置(参见特开昭63~283777号,特开平4~341368号公报)。
图4表示这种散布装置的一个例子。
如图4所示,现有的间歇式散布装置具有将粉粒体M散布在部件8上的主通路101。在主通路101的侧面作出吸引孔100。这种现有的散布装置,通过在给定的时间内,从吸引孔100吸引粉粒体M,间歇式地散布粉粒体M。在部件8上间歇式地配置粉粒体M的堆积层C。
然而,在上述现有的技术中,由于是使主通路101的一部分形成负压进行吸引,在主通路101的一部分达到给定的负压之前需要一段时间,因此不能瞬间地得到大的吸引力,吸引力是慢慢增大的,这样,响应滞后。因此,粉粒体M的集合C彼此之间的时间间隔ΔT不可避免地增大。由此,当部件8的输送速度一定时,与上述时间间隔ΔT对应的图4(b)的间隙S1,即如图4(b)所示,间歇式散布的粉粒体M的堆积层C彼此之间的间隙S1增大。
为了得到大的吸引力,必须增大吸引孔100,这样,上述时间间隔ΔT也增大。
发明内容
因此,本发明的目的是提供一种可缩小散布的粉粒体之间的间隙的时间间隔,可使相邻的堆积层彼此之间的间隔减小的粉粒体的间歇式散布装置。
为了达到上述目的,本发明的粉粒体间歇散布装置,是间歇式地散布粉粒体的粉粒体间歇散布装置,它具有:传送供给的粉粒体并从开口输出粉粒体的主通路;在所述主通路侧部开口的分支通路;和通过间歇式喷出压力气体、使气体横穿所述主通路,将所述主通路内的一部分粉粒体分配至所述分支通路的分配装置。
在本发明中,通过喷出压力气体,使气体横穿主通路,可将粉粒体的一部分分配至分支通路中。加压的气体从小的开口大量地瞬间横穿主通路,流入分支通路中。因此,与吸引粉粒体的情况不同,几乎没有响应滞后,可以瞬间地实现分配。这样,可以显著缩短粉粒体集合中断时间的间隔。
另外,作为压力气体除空气以外可以采用情性气体等。
在本发明中,粉粒体为具有流动性的固体的紧合;也可以为粉状或粒状,或片状(粉碎物等),或两种以上这些物体的混合物。作为粉粒体的材料可以为高吸水性的聚合物(高分子吸收体)的粒子,用脱纤机将纸浆脱纤成纤维状的片状纸浆,或在该片状纸浆中混入上述高吸水性的聚合物粒子的材料。
在本发明中,堆积配置粉粒体的部件,可以为一次性使用的穿着物品的连续织物或不连续织物。在这种情况下,粉粒体为吸收体(芯子)。作为上述穿着用物品,可以为生理用卫生巾,一次性使用的尿布或衬裤。
附图说明
图1(a)为表示本发明的第一个实施方式的粉粒体间歇式散布装置的主要部分的概略结构图,图1(b)为主通路的纵截面图,图1(c)为吸引孔和分支通路的纵截面图。
图2(a)为表示本发明第二个实施方式的间歇式散布装置的概略结构图,图2(b)为表示粉粒体的堆积状态的平面图。
图3(a)表示变形例的间歇式散布装置的主要部分的概略结构图,图3(b)为其立体图。
图4(a)为表示现有的间歇式散布装置的概略纵截面图,图4(b)为表示利用该现有的装置,散布和配置在部件上的粉粒体的堆积状态的平面图。
符号说明:1主通路;2分支通路;3控制装置;5分配装置;7供给量调整阀;8部件;10开口;40测定装置;50压力源;51加压孔;M粉粒体;G压力气体;V阀;W1第一宽度;W2第二宽度。
具体实施方式
以下,根据附图来说明本发明的实施方式。
图1表示第一个实施方式。
如图1(a)所示,间歇式散布装置具有主通路1,分支通路2和分配装置5。
粉粒体M供给至上述主通路1,该主通路1再将供给的粉粒体M的一部分,从设在该主通路1的下方的开口10排出。在上述主通路1的侧部,开设上述分支通路2。
如后所述,上述分配装置5喷出压力气体G,该气体横穿上述主通路1。利用该喷出的气体流动或冲击波,或两者的作用,将上述主通路1内的粉粒体M的一部分分配至上述分支通路2。根据情况的不同,剩余的一部分粉粒体也可以散布配置在部件上。
上述分配装置5具有压力源50,开闭阀V和加压孔51。上述压力源50由压缩机等构成。压力源50压送空气那样的气体G。另外,上述压力源50的压力可以设定为0.05兆帕以上。
上述加压孔51,向着上述分支通路2,在主通路1的侧面作出开口51a,喷出来自上述压力源50的气体G,使气体横穿主通路1。又如图1(b)所示,加压孔51也可以在主通路1的侧面作成狭缝状开口。上述狭缝状的开口51a可以设定成,使在上述主通路1的粉粒体M的流动方向Z上的第一宽度W1,比与上述流动方向垂直的第二宽度W2小。例如,上述第一宽度W1可以设定大约为0.05mm~3.0mm。第一宽度W1在3.0mm以上也可以。但当第一宽度W1太大时,气体G的消耗量大。另外,加压孔51也可以作成扩口喷嘴或缩口喷嘴形状。
上述压力源50可以向着主通路1内的粉粒体M,与上述气体G一起,喷出粉粒体M。
又如图1(c)所示,上述加压孔51也可具有从压力源通向多个开闭阀V的多支管51d;与上述开闭阀V连接的管51c;在一端连接着该管51c,并且,在另一端作出狭缝状开口51a的腔51b。
图1(a)中的上述开闭阀V,通过控制使来自压力源50的气体G喷出至上述主通路1,可在给定的时间内,分配粉粒体M的一部分。上述开闭阀V例如可以为电磁阀。
可将对该阀V进行开闭控制的控制装置3连接在上述开闭阀V上。控制装置3可以为微型计算机,它可以在给定的时间内控制开闭阀V的开闭。另外,控制装置3可以独立控制,使多个开闭阀V的开闭时间互不相同。
下面,简单地说明本装置的间歇式散布动作。
上述粉粒体M的一部分,通过主通路1,从开设在该主通路1下端的开口10排出。粉粒体M可以散布在图中没有示出的部件上。当在给定的时间内,打开上述开闭阀V时,几乎是在打开阀的同时,使来自上述压力源50的气体G,从加压孔51吹出,将在主通路1内落下的粉粒体M吹飞,使其向着分支通路2流动分配。当在上述分配后,经过短暂时间后关闭开闭阀V,则停止从加压孔51喷出气体G,然后,粉粒体M从主通路1的开口10散布在部件上。
这样,通过开闭阀V的开闭,可以间歇地从加压孔51喷出气体G。本装置可以进行粉粒体M的分配,从而可以间歇式地将粉粒体M散布配置在部件上。
本装置与依靠吸引进行分配的情况不同,由于是通过喷出气体G,将粉粒体M吹飞,进行分配,因此当打开开闭阀V时,气体G直接喷出在主通路1上,可以瞬间改变粉粒体M的流动方向,从而分配粉粒体M。这样,与现有的装置比较,响应滞后显著减小。另外,如果采用多个电磁阀作为开闭阀V,则可以独立控制相邻的粉粒体M的集合C根据电磁阀的种类不同,可以显著减小时间间隔ΔT。上述时间间隔ΔT可以为数msec至数十msec。如果可在这样小的时间间隔ΔT内控制开闭阀V,则开闭阀V不限于电磁阀。
图2表示第二个实施方式。
粉粒体M从储存箱6,通过滑槽4导入主通路1中。由于滑槽4具有给定的宽度(与纸面垂直方向的宽度),而且是倾斜的,因此粉粒体M可在滑槽4的宽度方向上扩宽移动。通过改变滑槽4的角度;或在接受来自储存箱6的粉粒体M以后,直到主通路1的有效距离;或粉粒体M与滑槽4的摩擦系数等,可以在横穿主通路1的方向,使粉粒体M的扩宽的宽度W3、即从加压孔51喷出至分支通路2的气体G贯通粉粒体M的集合C的宽度为给定的宽度。通过使宽度W3成为给定的宽度,可以减小从加压孔51喷出的气体G的损失。另外,在滑槽4等上,也可在粉粒体M移动的表面上作出多条筋(槽),这样,粉粒体M的进行性好。
如图2(a)所示,在上述开口10的下方,例如也可以连续地输送织物那样的部件8。另外,也可以用传送带输送部件8。在这种情况下,也可以在上述传送带上形成按散布的粉粒体M的堆积层C的形状形成的图形,从部件8的内侧进行吸引。又如图2(b)所示,粉粒体M以给定的间隔S2,间歇式地散布在部件8上,并间歇式地堆积起来。
如图2(a)所示,本装置具有储存上述粉粒体M的储存箱6,上述分支通路2与上述储存箱6连接也可以。在这种情况下,可以将分支通路2内设定为负压。被来自加压孔51的气体G吹飞的粉粒体M,可以被吸引导入分支通路2内。另外,分支通路2也可以具有用于调整负压的开口。为了避免在主通路1中落下的粉粒体M不从加压孔51喷出,而被吸引至分支通路2中,可以调整上述开口的大小。吹入上述分支通路2内的粉粒体M,通过该分支通路2,回到储存箱6中。这样,可以再次使用分配的粉粒体M(回收)。另外,除了上述回收的粉粒体M,还可向上述储存箱6适当供给粉粒体M。
在给定的时间内,反复进行开闭阀V的开闭动作,可以与上述一样,间歇式地散布粉粒体M,并如图2(b)所示那样,可在具有给定间隔S2的状态下,使粉粒体M的堆积层C配置在部件8上。
再此,间隔S2随堆积层C移动的速度而变化。为了即使在堆积层C的移动速度变化,也能使间隔S2保持一定,可将关于堆积层C移动速度的信息送至控制装置3。例如,可将根据堆积层C的移动速度而生成速度信息的编码器20发出的速度信息送至控制装置3。控制装置3根据该速度信息开闭开闭阀V。因此,时间间隔ΔT可随开闭阀V打开的时间变化,可在总体上保持间隔S2一定。
另外,可以在储存箱6的底部设置供给量调整阀7。上述供给量调整阀7在给定的间隔上仅打开给定的时间或给定的大小(面积),即,可进行开闭乃至开度的调整。因此可以调整向该主通路1供给的粉粒体M的供给量。该供给量的调整,可以由操作者手动进行,也可以自动控制而达到给定的量。
在自动控制供给量的情况下,还可具有测定装置40和控制装置3。
上述测定装置40测定每单位时间供给主通路1的粉粒体M的流量。例如,可以在从储存箱6落下的粉粒体M通过滑槽4时,测定其重量。例如,也可以用测力传感器40支承上述滑槽4,利用由该测力传感器构成的测定装置40的检测值,测定从储存箱6供给的粉粒体M的重量。另外,测力传感器40也可配置在滑槽4的一部分上。
上述控制装置3与上述测定装置40和供给量调整阀7连接。控制装置3输入来自装置40的测量信号,根据该测量信号,计算每单位时间粉粒体M的流量(例如重量),然后根据该计算结果,对上述供给量调整阀7进行反馈控制,使供给量成为给定的量。
这样,可使从储存箱6通向主通路1的粉粒体M的供给量保持一定,因而可将给定量的粉粒体M间歇式地散布在部件8上。
然而当从储存箱6落下的粉粒体M直接碰撞滑槽4时,该粉粒体M的间歇式落下产生的振动,可能会在测力传感器上产生测量误差。为此,可使从储存箱6落下的粉粒体M落在与上述滑槽4分开的另一个预置滑槽上后,在该预置滑槽上移动,将粉粒体M供给上述滑槽4。并且为了消除振动,可以在上述滑槽4上安装一个虚拟传感器(震动吸收部件)。
通过改变储存箱6的供给量调整阀7的横向宽度或滑槽4的横向宽度等,可将散布在部件8上的粉粒体M的宽度D(图2(b)),设定为任意的宽度。
另外,上述第二个实施方式的其他结构,与第一个实施方式相同,相同或相当的部分用同一个标号表示,省略其说明。
另外,如图3(a)所示,如果在加压孔51的主通路1的侧面附近设置上述开闭阀V,则可以使气体G更加灵敏地向主通路1内喷出和停止喷出。在这种情况下,如图3(b)所示,该开闭阀V可以作成棒状阀,利用该棒状阀的旋转,也可进行气体G的喷出和停止。
以上,参照附图说明了优选实施方式。业界人士在阅读本说明书后,可以在本发明的范围内容易作种种变化和修改。
例如,主通路不一定要设置在上下方向,如果与气体一起压送主通路内的粉粒体,则主通路的上游部分也可设置为水平。另外,分支通路也不一定要与主通路垂直地设置,分支通路与主通路倾斜设置也可以。
另外,配置粉粒体的间距大时,则也可使加压孔的宽度增大。
另外,加压的压力在0.05兆帕以下也可以。
被吹入分支通路内的粉粒体,不一定要返回储存箱。
因此,这些变化和修改都在权利要求书确定的本发明的范围内。
如上所述,根据本发明,通过喷出压力气体,利用该气体的流动或冲击波,或两者的作用,将粉粒体的一部分分配至分支通路中。因此,响应滞后可显著减小,由于压力气体横穿主通路,因此可瞬间地实现粉粒体的分配。这样,可显著减小粉粒体集合时的中断时间间隔。结果,即使部件的输送速度大,也可以显著地减小粉粒体的堆积层彼此之间的间隙。
另外,由于通过喷出气体进行分配,因此与吸引粉粒体的情况不同,即使减少喷出压力气体的加压孔,也可进行粉粒体的分配。这样,可以更加减小上述的时间间隔,因而可显著地减少上述堆积层彼此之间的间隔。
另外,如果通过设置测定每单位时间供给主通路的粉粒体的流量的测定装置,通过控制装置控制供给量调整阀,调整供给主通路的粉粒体的供给量,则可以给定的体积密度,高精度地散布和配置堆积的粉粒体。
Claims (6)
1.一种间歇式散布粉粒体的粉粒体间歇散布装置,其特征为,具有:
传送供给的粉粒体并从开口输出粉粒体的主通路;
在所述主通路侧部上开口的分支通路;和
通过间歇式喷出压力气体、使气体横穿所述主通路,将所述主通路内的一部分粉粒体分配至所述分支通路的分配装置。
2.如权利要求1所述的间歇散布装置,其特征为,所述分配装置具有:
压送所述压力气体的压力源;
向着所述分支通路,在所述主通路侧部开口,喷出来自所述压力源的压力气体,使该气体横穿所述主通路的加压孔;和
用于控制将来自所述压力源的压力气体间歇式地喷出至所述主通路的开闭阀。
3.如权利要求2所述的间歇散布装置,其特征为,所述加压孔在所述主通路的侧部上呈狭缝状地开口,该狭缝状开口设定为所述主通路中的粉粒体流动方向上的第一宽度比与上述流动方向垂直的第二宽度小。
4.如权利要求3所述的间歇散布装置,其特征为,所述狭缝状开口的第一宽度设置为大约0.05mm~3.0mm。
5.如权利要求2~4中任一项所述的间歇散布装置,其特征为,由所述压力源供给的压力气体的压力设定在0.05兆帕以上。
6.如权利要求1~5中任一项所述的间歇散布装置,其特征为,具有:
储存所述粉粒体的储存箱;
控制将所述粉粒体供给所述主通路的供给量的供给量调整阀;
测定每单位时间从所述储存箱供给所述主通路的粉粒体的流量的测定装置;和
根据所述测定装置给出的测定值,控制所述供给量调整阀的控制装置。
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