CN1326757C - 传送机构及其湿式处理设备 - Google Patents

Abstract

本发明是关于一种传送机构及其湿式处理设备，该传送机构适于传送矩形基板沿传送路径移动，传送机构包括：复数个第一转轴；复数个第一滚轮，第一滚轮分别设于第一转轴上，且沿传送路径排列，每一第一滚轮设有一滚轮面并与矩形基板底缘接触；复数个第二转轴；以及复数个第二滚轮，第二滚轮分别设于第二转轴上，并沿传送路径排列，且位于两相邻第一滚轮间，每一第二滚轮设有一滚轮面，滚轮面与矩形基板侧壁接触，使矩形基板保持沿传送路径移动。传送机构藉由在对应矩形基板侧壁处设有导正功能滚轮，可有效将矩形基板保持于传送路径上，并可避免造成矩形基板边缘破损。该湿式处理设备内设有上述传送机构，能可靠传送矩形基板，非常便于进行湿式处理制程，而具有产业利用价值。

Description

传送机构及其湿式处理设备

技术领域

本发明涉及一种传动装置领域的传送机构及其湿式处理设备，特别是涉及一种适于传送一矩形基板沿一传送路径移动，并能够有效避免传送过程中造成矩形基板边缘破损的传送机构及其湿式处理设备。

背景技术

针对多媒体社会的急速进步，多半受惠于半导体组件或人机显示装置的飞跃进步。就显示器而言，阴极射线管(Cathode Ray Tube，CRT)因具有优异的显示品质及其经济性，一直独占近年来的显示器市场。然而，对于个人在桌上操作多数终端机/显示器装置的环境，或是以环保的观点切入来看，若以节省能源的潮流加以预测，阴极射线管因空间利用以及能源消耗上仍存在很多问题，而对于轻、薄、短、小以及低消耗功率的需求无法有效的提供解决之道。因此，具有高画质、空间利用效率佳、低消耗功率、无辐射等优越特性的液晶显示器(LCD)已逐渐成为市场的主流。

液晶显示器主要是由两玻璃基板以及一液晶层所构成，其中玻璃基板通常需送入一湿式处理设备中进行一湿式处理制程，例如在玻璃基板上喷洒一反应液体(如蚀刻液或移除光阻的剥除液)，以在玻璃基板上制作图案化线路，之后并经过一清洗液(如去离子水或有机溶液)的清洗再进行后续的制程。值得注意的是，玻璃基板在进行上述湿式处理的过程中，是藉由一传送机构而达到传送玻璃基板的目的。

请同时参阅图1A、图1B所示，图1A是现有习知的传送机构的侧面示意图，图1B是现有习知的传送机构的正面示意图。该现有习知的传送机构100，主要是由多个第一转轴110、多个第一滚轮120、多个第二转轴130以及多个第二滚轮140所构成。其中，第一滚轮120配置设置于第一转轴110的两端，且第一滚轮120具有一滚轮部122及一导引部124，该滚轮部122具有一滚轮面122a，用以承靠一矩形基板10(例如是一矩形的玻璃基板)的底缘，而导引部124具有一朝向滚轮面122a倾斜的导引斜面124a。值得注意的是，第一滚轮120通常是主动滚轮，并借着矩形基板10本身的重力以及第一滚轮120转动时与矩形基板10间产生的摩擦力，使第一滚轮120可推动矩形基板10往一传送路径行进。

此外，第二滚轮140配置设置于第二转轴130上，且第二滚轮140对应于第一滚轮120的上方。第二滚轮140具有一滚轮面140a，该滚轮面140a用以压制矩形基板10的顶缘。换句话说，藉由第一滚轮120及第二滚轮140夹持矩形基板10，并进而推动矩形基板10，使矩形基板10沿着传送路径移动时能够更为稳固。

请参阅图2A、图2B所示，是现有习知的传送机构造成矩形基板偏移传送的俯视示意图。在此处为了明显表现矩形基板10的偏移情形，进而将上述所揭露的第二转轴130及第二滚轮140省略，由于第一滚轮120并未完全固定于第一转轴110上，故第一滚轮120在传送矩形基板10时，会发生向内(如图2A所示)或向外(如图2B所示)偏移的现象，如此矩形基板10则会因被挤压或接触不良而发生矩形基板10偏移的现象。换言之，矩形基板10发生偏移的现象时，会随着第一滚轮120滚动而使矩形基板10顺势沿着导引斜面124a上滑，导致矩形基板10的传送路径完全偏向一侧，而无法沿着原本设定的传送路径移动。

请参阅图3所示，是现有习知传送机构造成矩形基板破片的示意图。矩形基板10受到挤压或接触不良，是会顺势沿着导引斜面124a上滑，而当发生较大偏移量时，矩形基板10容易受到第一滚轮120及第二滚轮140所产生的力矩效应(即挟持力道)直接破坏矩形基板10的边缘，而造成不同程度的破片情形，从而严重影响产品的品质与安全。

由此可见，上述现有的传送机构及其湿式处理设备仍存在有缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决上述缺陷，相关厂商莫不费尽心思来谋求解决的道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，此显然是相关业者急欲解决的问题。

有鉴于上述现有的传送机构及其湿式处理设备存在的缺陷，本发明人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识，积极加以研究创新，以期创设一种新型的传送机构及其湿式处理设备，能够改进一般现有常规的传送机构及其湿式处理设备，使其更具有实用性。经过不断的研究、设计，并经反复试作样品及改进后，终于创设出确具实用价值的本发明。

发明内容

本发明的主要目的在于，克服上述现有的传送机构及其湿式处理设备存在的缺陷，而提供一种新的传送机构，所要解决的主要技术问题是使其藉由在对应于矩形基板的侧壁处配置设置有具有导正功能的滚轮，而可有效的将矩形基板保持于一传送路径上，并且可以避免在传送过程中造成矩形基板的边缘破损。

本发明的另一目的在于，提供一种湿式处理设备，所要解决的技术问题是使其在湿式处理设备内配置设有上述的传送机构，用以可靠的传送矩形基板，而可便于进行一湿式处理制程，从而更加适于实用，且具有产业上的利用价值。

本发明的目的及解决其主要技术问题是采用以下的技术方案来实现的。依据本发明提出的一种传送机构，适于传送至少一矩形基板沿着一传送路径移动，该传送机构包括：复数个第一转轴；复数个第一滚轮，该些第一滚轮分别配置设置于该些第一转轴上，且沿着该传送路径排列，每一该些第一滚轮设有一滚轮面并与该矩形基板的底缘相接触；复数个第二转轴；以及复数个第二滚轮，该些第二滚轮分别配置设置于该些第二转轴上，并沿着该传送路径排列，且设置位于任意两相邻的该些第一滚轮之间；复数个第三转轴；以及复数个第三滚轮，该些第三滚轮分别配置设置于该些第三转轴上，并沿着该传送路径排列，且设置位于该些第一滚轮的上方，其中每一该些第三滚轮设有一滚轮面，并与该矩形基板的顶缘相接触；其特征在于：每一该些第二滚轮设有一滚轮面，该滚轮面是与该矩形基板的侧壁约略相接触，以使该矩形基板呈为能保持沿着该传送路径移动的结构。

本发明的目的及解决其技术问题还可以采用以下的技术措施来进一步实现。

前述的传送机构，其中所述的该些第二滚轮是设置位于每两相邻的该些第一滚轮之间。

前述的传送机构，其另包括一第一环状弹性构件，其中该第一环状弹性构件是配置设置于每一该些第一滚轮的滚轮面上。

前述的传送机构，其中所述的该些第一滚轮为主动滚轮。

前述的传送机构，其中所述的该些第一滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被动滚轮。

前述的传送机构，其中所述的该些第二滚轮为主动滚轮。

前述的传送机构，其中所述的该些第二滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被动滚轮。

前述的传送机构，其中所述的该些第二滚轮为被动滚轮。

前述的传送机构，其中所述的第一滚轮另包括：一滚轮部，设有该滚轮面；以及一导引部，是与该滚轮部相连接，其中该导引部设有一朝向该滚轮面倾斜的导引斜面。

前述的传送机构，其中所述的该些第三滚轮为主动滚轮。

前述的传送机构，其中所述的该些第三滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被动滚轮。

前述的传送机构，其中所述的该些第三滚轮为被动滚轮。

前述的传送机构，其另包括一第二环状弹性构件，其中该第二环状弹性构件是配置设置于每一该些第三滚轮的滚轮面上。

本发明的目的及解决其主要技术问题还采用以下技术方案来实现。依据本发明提出的一种由传送机构制成的湿式处理设备，适于对至少一矩形基板进行一湿式处理制程，该湿式处理设备包括：一处理室，具有至少一输入端及至少一输出端；一传送机构，适于传送至少一矩形基板沿着一传送路径移动，该传送机构包括：复数个第一转轴；复数个第一滚轮，该些第一滚轮是分别配置设置于该些第一转轴上，且沿着该传送路径排列，每一该些第一滚轮设有一滚轮面并与该矩形基板的底缘相接触；复数个第二转轴；以及复数个第二滚轮，该些第二滚轮是分别配置设置于该些第二转轴上，并沿着该传送路径排列，且设置位于任意两相邻的该些第一滚轮之间；复数个第三转轴；复数个第三滚轮，该些第三滚轮分别配置设置于该些第三转轴上，并沿着该传送路径排列，且设置位于该些第一滚轮的上方，其中每一该些第三滚轮设有一滚轮面，并与该矩形基板的顶缘相接触；一反应液体供给装置，是配置设置邻近于该输入端，且设置位于该矩形基板的上方，该反应液体供给装置适于喷射一反应液体于该矩形基板的顶面；以及一清洗液供给装置，是配置设置于该酸液供给装置及该输出端之间，且设置位于该矩形基板的上方，该清洗液供给装置适于喷射一清洗液于该矩形基板的顶面，以将该矩形基板上的该反应液体洗除；其特征在于：每一该些第二滚轮设有一滚轮面，该滚轮面是与该矩形基板的侧壁约略相接触，以使该矩形基板呈为能保持沿着该传送路径移动的结构。

本发明的目的及解决其技术问题还可以采用以下的技术措施来进一步实现。

前述的湿式处理设备，其中所述的该些第二滚轮是设置位于每两相邻的该些第一滚轮之间。

前述的湿式处理设备，其另包括一第一环状弹性构件，其中该第一环状弹性构件是配置设置于每一该些第一滚轮的滚轮面上。

前述的湿式处理设备，其中所述的该些第一滚轮为主动滚轮。

前述的湿式处理设备，其中所述的该些第一滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被动滚轮。

前述的湿式处理设备，其中所述的该些第二滚轮为主动滚轮。

前述的湿式处理设备，其中所述的该些第二滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被动滚轮。

前述的湿式处理设备，其中所述的该些第二滚轮为被动滚轮。

前述的湿式处理设备，其中所述的第一滚轮另包括：一滚轮部，设有该滚轮面；以及一导引部，是与该滚轮部相连接，其中该导引部设有一朝向该滚轮面倾斜的导引斜面。

前述的湿式处理设备，其中所述的该些第三滚轮为主动滚轮。

面，并与该矩形基板的顶缘相接触。

前述的湿式处理设备，其中所述的该些第三滚轮为主动滚轮。

前述的湿式处理设备，其中所述的该些第三滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被动滚轮。

前述的湿式处理设备，其中所述的该些第三滚轮为被动滚轮。

前述的湿式处理设备，其另包括一第二环状弹性构件，其中该第二环状弹性构件是配置设置于每一该些第三滚轮的滚轮面上。

前述的湿式处理设备，其另包括一气体供应装置，其中该气体供应装置是配置设置于该反应液体供给装置及该清洗液供给装置之间，且位于该矩形基板的上方，该气体供给装置适于喷射一气体于该矩形基板的顶面，以将该矩形基板上的该反应液体吹除。

前述的湿式处理设备，其中所述的处理室是为一U型处理室。

本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。由以上技术方案可知，为了达到前述发明目的，本发明的主要技术内容如下：

本发明提出一种传送机构，适于传送至少一矩形基板沿着一传送路径移动，该传送机构主要是由多个第一转轴、多个第一滚轮、多个第二转轴以及多个第二滚轮所构成。第一滚轮配置设置于第一转轴上，且沿着传送路径排列，第一滚轮具有一滚轮面，是与矩形基板的底缘接触。第二滚轮配置设置于第二转轴上，并沿着传送路径排列，且设置位于任意两相邻的第一滚轮之间。第二滚轮具有一滚轮面是与推顶矩形基板的侧壁接触，以使矩形基板能保持沿着传送路径移动。

本发明另提出一种湿式处理设备，适于对至少一矩形基板进行一湿式处理制程，该湿式处理设备主要是由一处理室、上述所提及的传送机构、一反应液体供给装置以及一清洗液供给装置所构成。其中，该处理室具有至少一输入端及至少一输出端，而传送机构配置设置于该处理室内。该反应液体供给装置是配置设置邻近于输入端，且设置位于矩形基板的上方，该反应液体供给装置适于喷射一反应液体于矩形基板的顶面。该清洗液供给装置是配置设置于反应液体供给装置及输出端之间，且设置位于矩形基板的上方，该清洗液供给装置适于喷射一清洗液于矩形基板的顶面，以将矩形基板上的反应液体洗除。

在发明较佳实施例中，其可进一步在第一滚轮的滚轮面上配置设有一第一环状弹性构件，以避免矩形基板的底缘直接与该滚轮面相接触而刮伤矩形基板。此外，上述的第二滚轮例如是设置位于每两相邻的第一滚轮之间，而与第一滚轮呈交错的排列。另外，第一滚轮例如全部是主动滚轮，或一部分是主动滚轮，另一部分是被动滚轮，而第二滚轮例如全部是主动滚轮或被动滚轮，或是一部分是主动滚轮，另一部分是被动滚轮。

在发明另一较佳实施例中，第一滚轮另包括一滚轮部及一导引部。其中该滚轮部具有上述的滚轮面，而导引部是与滚轮部相连接，且该导引部具有一朝向该滚轮部倾斜的引导斜面，用以引导些微的偏移的矩形基板，由该引导斜面滑回滚轮面上。

在发明另一较佳实施例中，上述的传送机构另包括多个第三转轴及多个第三滚轮，该第三滚轮配置设置于第三转轴上，并沿着传送路径排列，且设置位于第一滚轮的上方，其中该第三滚轮具有一滚轮面，是与矩形基板的顶缘相接触。此外，其可进一步在第三滚轮的滚轮面上配置设有一第二环状弹性构件，以避免矩形基板的顶缘直接与该滚轮面接触而刮伤矩形基板。另外，该第三滚轮例如全部是主动滚轮或被动滚轮，或是一部分是主动滚轮，另一部分是被动滚轮。

在发明另一较佳实施例中，上述的湿式处理设备另包括一气体供应装置，其中气体供应装置是配置设置于反应液体供给装置及清洗液供给装置之间，且设置位于矩形基板的上方，该气体供给装置适于喷射一气体于矩形基板的顶面，以将矩形基板上的反应液体吹除。此外，该湿式处理设备的处理室例如是一U型处理室，用以节省整体的使用空间。

因此可知，本发明是关于一种传送机构及其湿式处理设备，该传送机构，适于传送至少一矩形基板沿一传送路径移动，其主要由多个第一转轴、多个第一滚轮、多个第二转轴以及多个第二滚轮所构成。第一滚轮是配置设置于第一转轴上，且沿着传送路径排列。每一第一滚轮具有一滚轮面，是与矩形基板的底缘相接触。第二滚轮配置设置于第二转轴上，且沿着传送路径排列，并设置位于任意两相邻的第一滚轮之间。第二滚轮具有一滚轮面，藉由该滚轮面推顶矩形基板的侧壁，而使矩形基板能够沿着传送路径移动。本发明的传送机构因为在对应于矩形基板的侧壁处配置设有具有导正功能的滚轮，使得矩形基板在传送过程中若发生偏移时，能够藉由具有导正功能的滚轮推顶矩形基板的侧壁，而可以有效的将矩形基板保持于既定的传送路径上，并可以避免在传送过程中造成矩形基板的边缘破损的情形发生。此外，将该传送机构运用于一湿式处理设备中来传送矩形基板，而可以非常方便于进行一湿式处理制程。

综上所述，本发明特殊的传送机构及其湿式处理设备，该传送机构藉由在对应于矩形基板的侧壁处配置设置有具有导正功能的滚轮，适于传送一矩形基板沿一传送路径移动，而可有效的将矩形基板保持于一传送路径上，并且可以避免在传送过程中造成矩形基板的边缘破损。另其在湿式处理设备内配置设有上述的传送机构，而能够可靠的传送矩形基板，进而可以非常便于进行一湿式处理制程，从而更加适于实用，且具有产业上的利用价值。

本发明具有上述诸多的优点及实用价值，其在传送机构及湿式处理设备上确属创新，较现有的传送机构及设备具有增进的多项功效，具有产业的广泛利用价值。其不论在传送机构、湿式处理设备的结构或功能上皆有较大改进，且在技术上有较大进步，并产生了好用及实用的效果，而确实具有增进的功效，从而更加适于实用，诚为一新颖、进步、实用的新设计。

上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本发明的较佳实施例并配合附图详细说明如后。

附图说明

图1A是现有习知的传送机构的侧面示意图。

图1B是现有习知的传送机构的正面示意图。

图2A及图2B是现有习知的传送机构造成矩形基板偏移传送的俯视示意图。

图3是现有习知的传送机构造成矩形基板破片的示意图。

图4是本发明一较佳实施例的湿式处理设备的结构配置示意图。

图5A是本发明一较佳实施例的传送机构的结构侧面示意图。

图5B是本发明一较佳实施例的传送机构的结构俯视示意图。

图6A是本发明一较佳实施例的传送机构的结构正面示意图。

图6B是本发明另一较佳实施例的传送机构的结构正面示意图。

10：矩形基板                       100：传送机构

110：第一转轴                      120：第一滚轮

122：滚轮部                        122a：滚轮面

124：导引部                        124a：导引斜面

130：第二转轴                      140：第二滚轮

140a：轮面                         200：湿式处理设备

210：处理室                        212：输入端

214：输出端                        220：反应液体供给装置

230：清洗液供给装置                 240：气体供应装置

20：矩形基板                       300：传送机构

310：第一转轴                      320：第一滚轮

320：滚轮部                        320b：第一弹性肋条

322：滚轮部                        322a：滚轮面

322b：第一弹性肋条                  324：导引部

324a：导引斜面                     330：第二转轴

340：第二滚轮                      340a：滚轮面

350：第三转轴                   360：第三滚轮

360a：滚轮面                    360b：第二弹性肋条

具体实施方式

以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的传送机构及其湿式处理设备其具体结构、特征及其功效，详细说明如后。

请参阅图4所示，是本发明一较佳实施例的湿式处理设备的配置结构示意图。本发明较佳实施例的湿式处理设备200，适于对至少一矩形基板20(例如是一矩形的玻璃基板)进行一湿式处理制程，该湿式处理设备200，主要是由一处理室210、一反应液体供给装置220、一清洗液供给装置230以及一传送机构(图中未示)所构成，其中：

上述的处理室210，具有至少一输入端212及至少一输出端214，且该处理室210例如是为一U型处理室，用以节省整体的使用空间；

上述的反应液体供给装置220，是配置设置邻近于输入端212，且设置位于矩形基板20的上方，该反应液体供给装置220适于喷射一酸液(如蚀刻液或移除光阻的剥除液)于矩形基板20的顶面，以在该矩形基板20上制作图案化线路；

上述的清洗液供给装置230，是配置设置于反应液体供给装置220及输出端214之间，且设置位于矩形基板20的上方，该清洗液供给装置230适于喷射一清洗液(如去离子水或有机溶液)于矩形基板20的顶面，以将矩形基板20上的反应液体洗除。

此外，上述的湿式处理设备200另包括一气体供应装置240，是配置设置于反应液体供给装置220及清洗液供给装置230之间，且设置位于矩形基板20的上方，其中，该气体供应装置240适于喷射一气体于矩形基板20的顶面，以将矩形基板20上的部分反应液体吹除，并使后续的清洗动作更为简便。

本发明的传送机构，是配置设置于处理室210内，其主要功能是用以水平传送矩形基板20，以进行上述的湿式处理制程，而该传送机构的结构将在下文中进行详细的说明。

请参阅图5A、图5B所示，图5A是本发明一较佳实施例的传送机构的结构侧面示意图，图5B是本发明一较佳实施例的传送机构的结构俯视示意图。本发明较佳实施例的传送机构300，适于传送至少一矩形基板20沿着一传送路径A移动。该传送机构300，主要是由多个第一转轴310、多个第一滚轮320、多个第二转轴330以及多个第二滚轮340所构成，其中：

上述的第一滚轮320，配置设置于第一转轴310上，并沿着传送路径A排列；

上述的第二滚轮340，配置设置于第二转轴330上，并沿着传送路径A排列，且设置位于任意两相邻的第一滚轮320之间。以图5A及图5B为例该第二滚轮340例如是设置位于每两相邻的第一滚轮320之间，而与第一滚轮320呈交错的排列；

此外，该第二滚轮340具有一滚轮面340a，该滚轮面340a是与矩形基板20的侧壁接触。另外，该第一滚轮320例如全部是主动滚轮，或一部分是主动滚轮，另一部分是被动滚轮，而第二滚轮340例如全部是主动滚轮或被动滚轮，或一部分是主动滚轮，另一部分是被动滚轮。

请参阅图6A所示，是本发明一较佳实施例的传送机构的结构正面示意图。上述的第一滚轮320，是为一外径相等的滚轮，其具有一滚轮面320a，该滚轮面320是与矩形基板20的底缘相接触，而该滚轮面320a上更可进一步套设有一第一环状弹性构件320b，以避免矩形基板20的底缘直接与滚轮面320a接触而刮伤矩形基板20。

此外，本发明的传送机构300，另可配置设有多个第三转轴350及多个第三滚轮360，该第三滚轮360是配置设置于第三转轴350上，并沿着传送路径A排列，且设置位于第一滚轮320的上方。

该第三滚轮360，具有一滚轮面360a，其是与矩形基板20的顶缘相接触，藉由第一滚轮320及第三滚轮360夹持矩形基板20，并进而推动矩形基板20，使矩形基板20在传送时更为稳固。

另外，该第三滚轮360的滚轮面360a上可进一步套设有一第二环状弹性构件360b，以避免矩形基板20的顶缘直接与滚轮面360a接触而刮伤矩形基板20。

当然，本实施例并不限定配置上述的第三转轴350及第三滚轮360，因为矩形基板20本身的重量以及进行湿式处理时所喷洒的液体的重量，以使得矩形基板20与滚轮面320a上的第一环状弹性构件320b间有足够的摩擦力，足以带动矩形基板20。

值得注意的是，由于在对应于矩形基板20的侧壁处配置设置具有导正功能的第二滚轮340，使得矩形基板20在传送过程中当发生些微的偏移现象时，能藉由该第二滚轮340的滚轮面340a推顶矩形基板20的侧壁，而可有效的将矩形基板20保持于既定的传送路径A上。此外，用以传送矩形基板20的第一滚轮310因设计为外径相同的滚轮，当第一滚轮310与第三滚轮360共同挟持矩形基板20时，能够避免现有习知结构在传送过程中造成矩形基板20的边缘破损的情形发生。

请参阅图6B所示，是本发明另一较佳实施例的传送机构的结构正面示意图。本发明另一较佳实施例的传送机构，其主要结构大致与前述实施例结构相同，其相同处在此则不再赘述，而其不同之处为前述的第一滚轮320是沿用现有习知结构的滚轮，该第一滚轮320具有一滚轮部322及一导引部324，其中该滚轮部322与导引部324相连接。该滚轮部322具有一滚轮面322a，是与矩形基板20的底缘相接触，而导引部324具有一朝向面倾斜的导引斜面324a，用以导引些微偏移的矩形基板20由该导引斜面324a下滑至滚轮面322a上。

值得注意的是，以应力的观点观之，当矩形基板20发生微偏移而滑上导引斜面324a时，若矩形基板20对第一滚轮320所产生的横向应力Fgt大于矩形基板20侧向挤压力Fr，矩形基板20可藉由本身的重力Fg由导引斜面324a上自动下滑至滚轮面322a上，反之若矩形基板20对第一滚轮320所产生的横向应力Fgt小于矩形基板20侧向挤压力Fr，矩形基板20会受该横向应力Fgt的推挤继续向导引斜面324a偏移，当横向应力Fgt超过矩形基板20的重力Fg的临界点B时，矩形基板20则无法再滑回滚轮面322a上，而容易受到第一滚轮320及第三滚轮360所产生的力矩效应(即挟持力道)直接破坏矩形基板20的边缘，故从以上可得知，导引斜面324a是现有习知技术中造成矩形基板20破片的主要因素之一。

此外，若将本发明的第二滚轮340同样配置设置于任意两相邻的第一滚轮320之间的位置上，则当矩形基板20的两侧尚未超过上述的临界点B时，即受到第二滚轮340的滚轮面340a的推顶而滑回滚轮面322a上，故能有效的将矩形基板20保持于既定的传送路径A上，并可避免传送过程中造成矩形基板20的边缘破损的情形发生。

本实施例亦可将第三滚轮360省略，并藉由矩形基板20本身的重量以及进行湿式处理时所喷洒的液体的重量，以使矩形基板20与滚轮面322a上之间有足够的摩擦力，而带动矩形基板20。

此外，为了避免矩形基板20在传送过程中其表面受到刮伤，同样可如同前述的较佳实施例，在第一滚轮320的滚轮面322a以及第三滚轮360的滚轮面360a上对应配置设有一第一环状弹性构件(图中未示)及第二环状弹性构件(图中未示)。

综由上述，本发明的传送机构因为在对应于矩形基板的侧壁处配置设置具有导正功能的滚轮，使矩形基板在传送过程中若发生偏移的情形，能藉由具有导正功能的滚轮推顶矩形基板的侧壁，而可有效的将矩形基板保持于一既定的传送路径上，故可以避免传送过程中造成矩形基板的边缘破损的情形发生。

以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的结构及技术内容作出些许的更动或修饰为等同变化的等效实施例，但是凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (28)

1、一种传送机构，适于传送至少一矩形基板沿着一传送路径移动，该传送机构包括：

复数个第一转轴；

复数个第一滚轮，该些第一滚轮分别配置设置于该些第一转轴上，且沿着该传送路径排列，每一该些第一滚轮设有一滚轮面并与该矩形基板的底缘相接触；

复数个第二转轴；

复数个第二滚轮，该些第二滚轮分别配置设置于该些第二转轴上，并沿着该传送路径排列，且设置位于任意两相邻的该些第一滚轮之间；

复数个第三转轴；以及

复数个第三滚轮，该些第三滚轮分别配置设置于该些第三转轴上，并沿着该传送路径排列，且设置位于该些第一滚轮的上方，其中每一该些第三滚轮设有一滚轮面，并与该矩形基板的顶缘相接触；

其特征在于：每一该些第二滚轮设有一滚轮面，该滚轮面是与该矩形基板的侧壁约略相接触，以使该矩形基板呈为能保持沿着该传送路径移动的结构。

2、根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于其中所述的该些第二滚轮是设置位于每两相邻的该些第一滚轮之间。

3、根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于其另包括一第一环状弹性构件，其中该第一环状弹性构件是配置设置于每一该些第一滚轮的滚轮面上。

4、根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于其中所述的该些第一滚轮为主动滚轮。

5、根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于其中所述的该些第一滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被动滚轮。

6、根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于其中所述的该些第二滚轮为主动滚轮。

7、根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于其中所述的该些第二滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被动滚轮。

8、根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于其中所述的该些第二滚轮为被动滚轮。

9、根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于其中所述的第一滚轮另包括：

一滚轮部，设有该滚轮面；以及

一导引部，是与该滚轮部相连接，其中该导引部设有一朝向该滚轮面倾斜的导引斜面。

10、根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于其中所述的该些第三滚轮为主动滚轮。

11、根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于其中所述的该些第三滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被动滚轮。

12、根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于其中所述的该些第三滚轮为被动滚轮。

13、根据权利要求1所述的传送机构，其特征在于其另包括一第二环状弹性构件，其中该第二环状弹性构件是配置设置于每一该些第三滚轮的滚轮面上。

14、一种由传送机构制成的湿式处理设备，适于对至少一矩形基板进行一湿式处理制程，该湿式处理设备包括：

一处理室，具有至少一输入端及至少一输出端；

一传送机构，适于传送至少一矩形基板沿着一传送路径移动，该传送机构包括：复数个第一转轴；复数个第一滚轮，该些第一滚轮是分别配置设置于该些第一转轴上，且沿着该传送路径排列，每一该些第一滚轮设有一滚轮面并与该矩形基板的底缘相接触；

复数个第二转轴；

复数个第二滚轮，该些第二滚轮是分别配置设置于该些第二转轴上，并沿着该传送路径排列，且设置位于任意两相邻的该些第一滚轮之间；

复数个第三转轴；

复数个第三滚轮，该些第三滚轮分别配置设置于该些第三转轴上，并沿着该传送路径排列，且设置位于该些第一滚轮的上方，其中每一该些第三滚轮设有一滚轮面，并与该矩形基板的顶缘相接触；

一反应液体供给装置，是配置设置邻近于该输入端，且设置位于该矩形基板的上方，该反应液体供给装置适于喷射一反应液体于该矩形基板的顶面；以及

一清洗液供给装置，是配置设置于该酸液供给装置及该输出端之间，且设置位于该矩形基板的上方，该清洗液供给装置适于喷射一清洗液于该矩形基板的顶面，以将该矩形基板上的该反应液体洗除；

其特征在于：每一该些第二滚轮设有一滚轮面，该滚轮面是与该矩形基板的侧壁约略相接触，以使该矩形基板呈为能保持沿着该传送路径移动的结构。

15、根据权利要求14所述的湿式处理设备，其特征在于其中所述的该些第二滚轮是设置位于每两相邻的该些第一滚轮之间。

16、根据权利要求14所述的湿式处理设备，其特征在于其另包括一第一环状弹性构件，其中该第一环状弹性构件是配置设置于每一该些第一滚轮的滚轮面上。

17、根据权利要求14所述的湿式处理设备，其特征在于其中所述的该些第一滚轮为主动滚轮。

18、根据权利要求14所述的湿式处理设备，其特征在于其中所述的该些第一滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被动滚轮。

19、根据权利要求14所述的湿式处理设备，其特征在于其中所述的该些第二滚轮为主动滚轮。

20、根据权利要求14所述的湿式处理设备，其特征在于其中所述的该些第二滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被动滚轮。

21、根据权利要求14所述的湿式处理设备，其特征在于其中所述的该些第二滚轮为被动滚轮。

22、根据权利要求14所述的湿式处理设备，其特征在于其中所述的第一滚轮另包括：

一滚轮部，设有该滚轮面；以及

一导引部，是与该滚轮部相连接，其中该导引部设有一朝向该滚轮面倾斜的导引斜面。

23、根据权利要求14所述的湿式处理设备，其特征在于其中所述的该些第三滚轮为主动滚轮。

24、根据权利要求14所述的湿式处理设备，其特征在于其中所述的该些第三滚轮包括复数个主动滚轮及复数个被动滚轮。

25、根据权利要求14所述的湿式处理设备，其特征在于其中所述的该些第三滚轮为被动滚轮。

26、根据权利要求14所述的湿式处理设备，其特征在于其另包括一第二环状弹性构件，其中该第二环状弹性构件是配置设置于每一该些第三滚轮的滚轮面上。

27、根据权利要求14所述的湿式处理设备，其特征在于其另包括一气体供应装置，其中该气体供应装置是配置设置于该反应液体供给装置及该清洗液供给装置之间，且位于该矩形基板的上方，该气体供给装置适于喷射一气体于该矩形基板的顶面，以将该矩形基板上的该反应液体吹除。

28、根据权利要求14所述的湿式处理设备，其特征在于其中所述的处理室是为一U型处理室。

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