CN1295765C - 光伏半导体薄膜渡液及光伏半导体薄膜的制备方法 - Google Patents
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Abstract
一种光伏半导体薄膜镀液及其制备方法,用于液相生长半导体薄膜技术领域。镀液为:CdCl20.07-5%,NH4NO3 0.1-4%,KOH 1-6%,CS(NH2)20.3-15%,聚乙二醇为0.1-1%,其余为去离子水。通过添加聚乙二醇的方式,制备了均匀致密的CdS薄膜。具体制备步骤进一步描述如下:基片依次经过丙酮、去离子水超声波清洗,烘干备用;溶液配置过程为在烧杯中依次加入CdCl2、KOH、NH4NO3溶液和聚乙二醇溶液搅拌均匀,利用KOH调节镀液到合适的pH值,放置20min;待溶液稳定后,水浴加热到60-90℃,加入事先配好的硫脲溶液,混合均匀后,竖直放入基片,镀膜过程开始;沉积结束后,通过超声波清洗的方式去除薄膜表面附着的CdS颗粒。在制备过程中无需强制搅拌,所制备CdS薄膜晶粒大小均匀、附着性好、光透过率高。
Description
技术领域
本发明涉及的是用于液相生长半导体薄膜技术领域,特别是一种光伏半导体薄膜镀液及其制备方法。
背景技术
CdS作为一种中等禁带宽度的n型半导体(Eg=2.4eV),在太阳能的化学转化、储存以及太阳能电池等方面引起了人们的广泛兴趣。多晶CdS薄膜通常作为窗口材料应用于CuInSe2及CdTe太阳能电池。在众多的制备方法中化学浴沉积,即CBD(Chemical bath deposition)制备CdS薄膜技术以其工艺简单、成本低廉、成膜均匀以及可大面积生产等优点受到了相当的关注。
CdS薄膜作为窗口材料通常只吸收波长低于510nm的光波。研究者在模拟计算的基础上提出,低厚度、致密CdS薄膜的制备是进一步提高CuInSe2类太阳能电池的关键之一。然而,采用化学浴沉积制备的CdS薄膜存在结构疏松、耐酸性差以及与SnO2和玻璃黏附力较差等问题。同时该方法在制备过程中对各种工艺条件如沉积温度、pH值、反应液浓度、以及搅拌速度、反应容器大小形状等较敏感,这些因素均对CdS最佳沉积时间和沉积质量有明显影响。工艺条件选择不恰当会造成所制CdS薄膜中第二相的生成或薄膜内夹杂有尺度不均的CdS晶粒,所有这些都将最终影响到CdS薄膜的附着及光电特性。
利用传统CdS薄膜制备工艺即磁力搅拌,沉积时间相差几秒种,便会在薄膜表面和膜内黏附或生长成大尺度的不均匀胶团。经对现有技术文献的检索,发现:中国专利申请号96123704.X,专利申请的名称为:溶液生长半导体薄膜的方法,专利申请人为:崔海宁,王荣等,该专利通过超声波搅拌的方式对原有工艺条件进行了改进,制备出致密的CdS薄膜。超声波搅拌能打碎溶液生长过程中出现的大尺寸胶团,达到均匀薄膜的效果,但超声波搅拌方式生长的CdS薄膜晶粒尺寸小。在光电转换过程中,晶界作为一种常见的载流子复合中心,晶粒尺寸对器件的性能有明显影响。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术中的不足,提供一种光伏半导体薄膜镀液及其制备方法。该制备过程中采用添加聚乙二醇的方法,无需强制搅拌,所制备CdS薄膜晶粒大小均匀、附着性好、光学透过率高。
本发明是通过以下技术方案实现的,镀液组分重量百分比为:CdCl20.06-0.3%,NH4NO3 1-3.32%,KOH 1.2-6%,CS(NH2)20.3-15%,聚乙二醇为0.2-0.8%,其余为去离子水。
该光伏半导体薄膜制备方法能制备较大晶粒尺寸的CdS薄膜,有效减少了CdS薄膜光学漫散射以及载流子在器件内的晶界复合。通过简单易行的添加聚乙二醇的方式,在简化原有工艺的基础上制备了均匀致密的CdS薄膜,同时所制薄膜表现出优良的光学特性。在化学浴沉积CdS薄膜过程中,沉积反应在溶液内部、基片表面同时进行,同时反应过程中有NH3副产物生成。原有工艺条件均为通过机械强制搅拌(磁力搅拌或超声波搅拌)的方式防止NH3在基片表面吸附、聚集,达到驱赶NH3的作用。NH3在基片表面的吸附、聚集会阻挡CdS在该区域的生长,是造成所制薄膜表面孔隙、针孔的主要原因。机械强制搅拌的主要缺点在于,随着CdS的沉积,液相生成的CdS颗粒在机械搅拌的带动下与基片表面不断碰撞,最终造成液相反应产物在薄膜中的夹杂,这种夹杂的CdS颗粒大小不一,会造成薄膜较多的光学漫散射,当工艺条件选择不合适时,还会是薄膜附着性减弱的关键因素,需要避免。
具体制备步骤进一步描述如下:
1、基片依次经过丙酮、去离子水超声波清洗,烘干备用。
2、镀液配置过程为在烧杯中依次加入一定体积的CdCl2、KOH、NH4NO3溶液和聚乙二醇溶液搅拌均匀,利用KOH调节镀液到合适的pH值,放置20min。
3、待镀液稳定后,水浴加热到60-90℃,加入事先配好的硫脲溶液,混合均匀,竖直放入基片,镀膜过程开始。
4、沉积结束,通过超声波清洗的方式去除薄膜表面附着的CdS颗粒。
根据所需薄膜的厚度,整个沉积过程为0.5-1hr。如需要较厚的CdS薄膜,可重复施镀,以达到所需厚度的薄膜。
与现有技术比较,本发明具有实质性特点和显著进步,其有益的效果是:
1、进一步简化了现有技术,利用表面活性剂聚乙二醇的加入取代了原有强制搅拌。强制搅拌的去除有效抑制了液相沉积CdS颗粒在CdS薄膜中的夹杂,所制薄膜颗粒大小均匀,附着性好。
2、静置的生长方式有利于大颗粒CdS薄膜的生长,与现有技术相比,本发明所制CdS薄膜的晶粒尺寸较大。这将有利于提高薄膜的光电转换效率,减少载流子晶界复合。
3、所制薄膜晶粒大小均匀,减少了原有工艺所制薄膜晶粒大小不均造成的漫散射。在同一条件下,与现有技术相比,本发明所制薄膜有明显更高的光透过率。
4、本发明所制薄膜附着力好、无针孔、致密、均匀。整个工艺所制薄膜质量稳定,成品率高。
具体实施方式
下面举出四个实施例作为进一步的说明:
实施例1
光伏半导体薄膜镀液组分重量百分比为:氯化镉(CdCl2)0.06%,硝酸胺(NH4NO3)3.32%,氢氧化钾(KOH)6%,硫脲(CS(NH2)2)0.3%,聚乙二醇0.2%,镀液温度控制为60℃,沉积时间为40min,基片尺寸为2cm×4cm载玻片和去除过油圬的铝片.沉积结束后,利用超声清洗去除薄膜表面附着的CdS颗粒。
所制玻璃基片的CdS薄膜在520-1100nm范围内光透过率高,吸收带陡峭。对两种不同基片的CdS薄膜进行强力胶带附着力测试,薄膜无任何剥落现象发生,CdS薄膜表面光亮、均匀。
实施例2
光伏半导体薄膜渡液组分重量百分比为:氯化镉(CdCl2)0.18%,硝酸胺(NH4NO3)2.16%,氢氧化钾(KOH)3.6%,硫脲(CS(NH2)2)15%,聚乙二醇0.2%,镀液温度控制为75℃,沉积时间为40min,基片尺寸为2cm×4cm载玻片。沉积结束后,利用超声清洗去除薄膜表面附着的CdS颗粒。
所制CdS薄膜在520-1100nm范围内光透过率高。对CdS薄膜进行强力胶带附着力测试,薄膜无任何剥落现象发生,CdS薄膜表面光亮、均匀。
实施例3
光伏半导体薄膜渡液组分重量百分比为:氯化镉(CdCl2)0.3%,硝酸胺(NH4NO3)2.16%,氢氧化钾(KOH)3.6%,硫脲(CS(NH2)2)7.65%,聚乙二醇0.8%,镀液温度控制为75℃,沉积时间为40min,基片尺寸为2cm×4cm载玻片。沉积结束后,利用超声清洗去除薄膜表面附着的CdS颗粒。
所制CdS薄膜在520-1100nm范围内光透过率高。对薄膜进行强力胶带附着力测试,薄膜无任何剥落现象发生,CdS薄膜表面光亮、均匀。
实施例4
光伏半导体薄膜渡液组分重量百分比为:氯化镉(CdCl2)0.07%,硝酸胺(NH4NO3)1%,氢氧化钾(KOH)1.2%,硫脲(CS(NH2)2)0.3%,聚乙二醇0.5%,镀液温度控制为90℃,沉积时间为40min,基片尺寸为2cm×4cm载玻片。沉积结束后,利用超声清洗去除薄膜表面附着的CdS颗粒。
所制CdS薄膜在520-1100nm范围内光透过率高。对薄膜进行强力胶带附着力测试,薄膜无任何剥落现象发生,CdS薄膜表面光亮、均匀。
Claims (3)
1、一种光伏半导体薄膜镀液,其特征在于,其组分重量百分比为:CDCl20.06-0.3%,NH4NO3 1-3.32%,KOH 1.2-6%,CS(NH2)2 0.3-15%,聚乙二醇为0.2-0.8%,其余为去离子水。
2、一种光伏半导体薄膜的制备方法,其特征在于,光伏半导体薄膜镀液的组分重量百分比为:CdCl2 0.06-0.3%,NH4NO3 1-3.32%,KOH 1.2-6%,CS(NH2)2 0.3-15%,聚乙二醇为0.2-0.8%,其余为去离子水,通过添加聚乙二醇的方式,无需磁力或超声波等强制搅拌,制备了均匀致密的CdS薄膜,具体制备步骤如下:
(1)基片依次经过丙酮、去离子水超声波清洗,烘干备用;
(2)溶液配置过程为在烧杯中依次加入CdCl2、KOH、NH4NO3溶液和聚乙二醇溶液搅拌均匀,利用KOH调节镀液到合适的pH值,放置20分钟;
(3)待溶液稳定后,水浴加热到60-90℃,加入事先配好的硫脲溶液,混合均匀后,竖直放入基片,镀膜过程即开始;
(4)沉积结束后,通过超声波清洗的方式去除薄膜表面附着的CdS颗粒。
3、按照权利要求2所述的光伏半导体薄膜的制备方法,其特征是,根据所需薄膜的厚度,整个沉积过程为0.5-1小时。
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