CN1294402C - 光源输出的稳定化方法 - Google Patents
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Abstract
本发明是关于一种光源输出的稳定化方法,算出得到的干涉条纹图像的调制值,在该值在阈值以下的情况下,通过每次微小量地变化LD的注入电流直至该值超过阈值,在由于模式跳跃现象导致干涉条纹对比度低下的情况下也能使对比度迅速恢复到良好的状态,稳定地进行被测体的自动干涉测定。取得被测体的干涉条纹图像(S1),解析取得的干涉条纹图像,算出每个像素的调制值γ(S2),判断调制值γ超过规定阈值的像素是否在规定数(规定比例)以上(S3)。如果判断结果是在规定数以上,则进行通常的干涉条纹图像解析处理例程(S4),另一方面,如果判断的结果是未达到规定数,则使LD11的注入电流仅变化规定的微小量(S5)。之后,返回步骤1(S1),反复进行上述一连串处理。
Description
技术领域
本发明涉及一种稳定半导体激光光源等由于驱动环境导致输出波长变化的光源的输出的方法,尤其涉及在使用干涉计装置自动检测被测体时能把由于所谓的模式跳跃现象而使图像对比度而陷入不佳状态的复归为良好状态的光源输出的稳定化方法。
背景技术
以前,通过干涉计装置取得被测体的干涉条纹图像,解析得到的干涉条纹图像,测定被测体的表面形状和内部应力畸变等的情况是广泛存在的。
在光学制品的检测工序中,一直在尝试将这种测定自动化。
另一方面,在上述的干涉计装置中,作为输出照射光的光源,例如,使用已知在本申请人已经公开的下述专利文献1中记载的半导体激光光源(LD)。该半导体激光光源具有通过注入电流变化而使波长变化的特征。因此,在通过照射光的波长变化来进行测定时或者用条纹扫描法等进行条纹解析时,尤其有用。
【专利文献1】特开2003-90765号公报
但是,这种半导体激光光源的输出光在单一模式振荡中有时出现突然移动为多模式振荡的模式跳跃现象。在扫描送给半导体激光光源的注入电流的情况下,模式跳跃现象也是作为输出光的振荡波长突然变化的现象已知的(如图3、图4所示),在振荡波长变化的迁移区间内,变为多模式振荡。
在发生这种模式跳跃现象的情况下,因为输出光有多个波长,所以,在此之前,即使通过光源输出的照明光得到对比度良好的干涉条纹图像,由于发生模式跳跃现象,对比度急剧下降,存在得到图7b所示对比度不好的干涉条纹图像的担心。
通常,这种半导体激光光源的输出光波长需要进行高精度地维持在规定值的控制,注入电流和光源温度也受到高精度的控制,但一旦发生上述模式跳跃现象,不能通过这种控制把干涉条纹的对比度返回到良好的状态,因此,很有可能之后得到的干涉条纹图像的对比度都不好。尤其是,在制品的检查工序中,判明此后大量制品处于未检查状态就成了问题。
由此可见,上述现有的光源输出的稳定化方法在方法与使用上,显然仍存在有不便与缺陷,而亟待加以进一步改进。为了解决光源输出的稳定化方法存在的问题,相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道,但长久以来一直未见适用的设计被发展完成,而一般方法又没有适切的方法能够解决上述问题,此显然是相关业者急欲解决的问题。
有鉴于上述现有的光源输出的稳定化方法存在的缺陷,本发明人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识,并配合学理的运用,积极加以研究创新,以期创设一种新的光源输出的稳定化方法,能够改进一般现有的光源输出的稳定化方法,使其更具有实用性。经过不断的研究、设计,并经反复试作及改进后,终于创设出确具实用价值的本发明。
发明内容
本发明的目的在于,克服现有的光源输出的稳定化方法存在的缺陷,而提供一种新的光源输出的稳定化方法,所要解决的技术问题是使其在用半导体激光光源发出的输出光进行干涉测量的干涉计装置中,即使在由于模式跳跃现象而使干涉条纹图像的对比度变差的情况下,也能将干涉条纹图像的对比度自动恢复到良好的状态,从而更加适于实用。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种光源输出的稳定化方法,在输出照射光的光源根据注入电流的变化而在上述照射光的波长中产生变化,并且用上述照射光得到被测体的干涉条纹图像的干涉计装置中,每隔规定定时取得上述干涉条纹图像,对所得到的干涉条纹图像实施图像解析处理,算出该图像的调制值,同时,在该调制值达规定阈值以下时,进行注入电流调整操作,使上述注入电流仅变化规定值,之后,在与上述得到的干涉条纹图像有关的上述调制值超过上述规定阈值为止,反复进行上述注入电流调整操作,以及上述的光源为半导体激光光源。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种光源输出的稳定化方法,在输出照射光的光源根据注入电流的变化而在上述照射光的波长中产生变化,并且在用上述照射光得到被测体的干涉条纹图像的干涉计装置中,每隔规定定时取得上述干涉条纹图像,对得到的干涉条纹图像实施图像解析处理,算出该图像的调制值,同时,在该调制值达规定阈值以下时,藉由帕元贴元件来改变光源的温度从而进行光源温度调整操作,使上述光源的温度仅变化规定值,之后,在与上述得到的干涉条纹图像有关的上述调制值超过上述规定阈值为止,反复进行上述光源温度调整操作,以及上述的光源为半导体激光光源。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
前述的光源输出的稳定化方法,每当发生新的模式跳跃现象时,其中所述的注入电流调整操作中作为注入电流变化量的规定值具有正负反转的符号。
前述的光源输出的稳定化方法,每当发生新的模式跳跃现象时,其中所述的光源温度调整操作中作为上述光源温度变化量的规定值具有正负反转的符号。
前述的光源输出的稳定化方法,其中所述的注入电流调整操作中作为注入电流变化量的规定值,是每次发生新的模式跳跃现象时求出的、缩小规定基准值和当前上述注入电流值之差的值。
前述的光源输出的稳定化方法,其中所述的光源温度调整操作中作为上述光源温度变化量的规定值,是每次发生新的模式跳跃现象时求出的、缩小规定基准值和当前上述光源温度值之差的值。
前述的光源输出的稳定化方法,其中所述的光源为半导体激光光源。
根据本发明涉及的光源输出的稳定化方法,对通过干涉计装置得到的干涉条纹图像实施图像解析处理,算出该图像的调制值,在该调制值小于规定阈值时,进行使上述注入电流仅变化规定值的注入电流调整操作或使上述光源的温度仅变化规定值的光源温度调整操作,在上述调制值超过规定阈值之前,反复进行上述注入电流调整操作或上述光源温度调整操作。
因此,具体地说,在半导体激光光源中发生了变成问题的模式跳跃现象,在干涉条纹图像的对比度下降的情况下,对比度也能迅速恢复到良好的状态,能通过干涉计装置稳定地进行被测体的自动测定。
用于测定上述调制值的被测体的干涉条纹图像最好原样使用本来的用于测定被测体的干涉条纹图像,因为不需要为了光源的稳定控制而另外获取数据,因此效率极高。
此外,在特开昭59-218903号公报中,在利用干涉光学系统的装置中,记载了降低光源的波长变动引起的测定误差的技术,但该技术并不是如同本发明,是用来解决改善干涉条纹图像的对比度低下这样的课题,且作为解决手法不具有基于干涉条纹图像的解析数据的构成两者的基本的技术思想是不相同的。
经由上述可知,本发明是关于一种光源输出的稳定化方法,算出得到的干涉条纹图像的调制值,在该值在阈值以下的情况下,通过每次微小量地变化LD的注入电流直至该值超过阈值,在由于模式跳跃现象导致干涉条纹对比度低下的情况下也能使对比度迅速恢复到良好的状态,稳定地进行被测体的自动干涉测定。取得被测体的干涉条纹图像(S1),解析取得的干涉条纹图像,算出每个像素的调制值γ(S2),判断调制值γ超过规定阈值的像素是否在规定数(规定比例)以上(S3)。如果判断结果是在规定数以上,则进行通常的干涉条纹图像解析处理例程(S4),另一方面,如果判断的结果是未达到规定数,则使LD11的注入电流仅变化规定的微小量(S5)。之后,返回步骤1(S1),反复进行上述一连串处理。
借由上述技术方案可知,本发明光源输出的稳定化方法至少具有下列优点:在用半导体激光光源发出的输出光进行干涉测量的干涉计装置中,即使在由于模式跳跃现象而使干涉条纹图像的对比度变差的情况下,也可以将干涉条纹图像的对比度自动恢复到良好的状态。
综上所述,本发明特殊的光源输出的稳定化方法,在用半导体激光光源发出的输出光进行干涉测量的干涉计装置中,即使在由于模式跳跃现象而使干涉条纹图像的对比度变差的情况下,也能将干涉条纹图像的对比度自动恢复到良好的状态。其具有上述诸多的优点及实用价值,并在同类方法中未见有类似的设计公开发表或使用而确属创新,其不论在方法上或功能上皆有较大的改进,在技术上有较大的进步,并产生了好用及实用的效果,且较现有的光源输出的稳定化方法具有增进的多项功效,从而更加适于实用,诚为一新颖、进步、实用的新设计。
上述说明仅是本发明技术方案的概述,为了能够更清楚了解本发明的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂,以下特举出多个较佳实施例,并配合附图,详细说明如下。
附图说明
图1是根据本发明一个实施例的光源输出的稳定化方法的概要流程图。
图2是实施根据本发明一个实施例的光源输出的稳定化方法的干涉计装置的概要结构图。
图3是扫描注入电流时发生的模式跳跃现象的一例曲线。
图4是输出光的波长变化对各温度的LD光源的注入电流变化的曲线。
图5是发生模式跳跃现象时用于说明图1所示实施例的注入电流调整处理的模式时间图。
图6是发生模式跳跃现象时用于说明另一个实施例的温度调整处理的模式时间图。
图7a是对比度良好的状态的干涉条纹图像。
图7b是发生模式跳跃现象、对比度变差的状态的干涉条纹图像。
1:干涉计装置 10:干涉计本体
11:半导体激光光源 12:准直透镜
13:发散透镜 14:分束器
15:准直透镜 16:基准板
16a:基准面 17:被测体
17a:被测面 18:摄像透镜
19:CCD摄像装置 20:计算机
21:监视器 22:LD电源
24:压电元件 30:激光
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例,对依据本发明提出的光源输出的稳定化方法其具体实施方式、步骤、特征及其功效,详细说明如后。
以下,参考附图详细说明根据本发明的实施例。本实施例的光源输出的稳定化方法是:对通过搭载半导体激光光源(以下称为LD)的干涉计装置得到的干涉条纹图像实施图像解析处理,算出该图像的调制值γ,同时,在该调制值γ小于规定阈值p时,进行注入电流调整操作,使上述注入电流仅变化规定值,之后,在与上述得到的干涉条纹图像有关的上述调制值γ超过规定阈值p之前,反复进行上述注入电流调整操作。
首先,对实施上述实施例方法的干涉计装置的结构进行说明。
请参阅图2所示,是根据实施例的干涉计装置的结构概略图。
如图所示,干涉计装置1具备:斐索型干涉计本体10,通过干涉条纹观察被测体17的被测面17a的表面形状;计算机20;监视器21;半导体激光光源(以下称为LD)11的电源(LD电源)22。
上述干涉计本体10具备:准直透镜12,把来自LD11的可干涉光变成平行光;发散透镜13;分束器14;准直透镜15;基准板16,通过和被测体17间的工作空间相对的基准面16a;拍摄由光干涉得到的干涉条纹的摄像透镜18和CCD摄像装置19。
在干涉计本体10中,来自LD11的激光30入射到基准板16的基准面16a上,在该基准面16a上2分割为透过光束和反射光束,使透过光束入射到被测体17的被测面17a上,使其反射光作为物体光,同时,把基准面16a的反射光作为参照光,这些由物体光和参照光的光干涉产生的干涉光经准直透镜15、分束器14和摄像透镜18导入CCD摄像装置19中,在CCD摄像装置19中拍摄干涉条纹。
在计算机20中解析拍摄的干涉条纹,从而测出被测面17a的表面形状。此外,在监视器上显示拍摄到的干涉条纹和解析后的被测面17a的表面形状。
在本实施例的方法中,构成为通过公知的边缘扫描法进行干涉条纹解析,基准板16通过与未图示的PZT驱动电路连接的压电元件24支持在未图示的基准板支持部件上。这样,根据计算机20发出的指示,驱动在压电元件24上施加规定电压的该压电元件24,从而,使基准板16仅向光轴Z方向移动规定相位。由于这种移动而变化的干涉条纹的图像数据输出到计算机20中,对这些多个图像数据进行条纹图像解析。
上述LD11使用了实施温度控制功能的方法,基本上,振荡得到上述单一纵模式的激光(例如波长入在654nm附近)。而且,当改变注入电流时,输出的激光的波长和光强度就变化,具有作为一般LD的特征。
上述CCD摄像装置19用1个光累积期间为1/30(秒)的CCD。
于是,LD11的输出光突然从一个单一模式移动为另一个单一模式,有时发生模式跳跃现象。
请参阅图3所示,其是一例扫描注入电流时发生的模式跳跃现象的曲线。即,在LD11的注入电流为39mA之前的范围内,注入电流增加,因此有些输出光的波长也变为有比例地增加(例如,注入电流增加1mA时,波长增加8pm)的单一模式区域,当注入电流超过39mA后,发生模式跳跃现象,形成波长显著增大的多模式区域。当注入电流增加至40mA时,模式完全变化,注入电流增加,因此,输出光的波长再次变为有比例地增加的单一模式区域。
即使高精度地控制例如LD11的注入电流和LD11的温度,也会突然发生这种模式跳跃现象,从而,干涉条纹图像的对比度变差,不可能通过这种控制自动返回到对比度良好的状态。
请参阅图4所示,仍然是扫描注入电流时发生的模式跳跃现象例子的曲线,在控制温度是24℃、25℃或26℃的情况下,看到扫描注入电流时,反复多次发生波长大变化的现象(黑色箭头表示的区域)。
在发生这种模式跳跃现象时,输出光变成多模式振荡,因为存在多个振荡波长,所以在此之前,即使通过从LD11输出的照明光得到对比度良好的干涉条纹图像,由于模式跳跃现象的发生,担心对比度急剧下降。
这里,在本实施例的方法中,通过进行图1的流程图所示的处理解决上述问题。
即,首先,通过干涉计装置取得被测体的干涉条纹图像(S1),解析取得的干涉条纹图像,算出每个像素的调制值γ(S2),判断调制值γ超过规定阈值的像素是否在规定数(规定比例)以上(S3)。如果判断结果是在规定数(规定的比例)以上,则移至通常的干涉条纹图像解析处理例程(S4),另一方面如果判断的结果是未达到规定数(规定的比例),则使LD11的注入电流仅变化规定的微小量(S5)。之后,返回步骤1(S1),反复进行上述一连串处理。
所谓上述规定的阈值可以根据使用用途等适当选择可良好进行图像解析的值,例如,最佳对比度值的20%。
在步骤3(S3)中,对于作为判断基准的像素的规定数,可以根据使用用途等适当选择能进行良好图像解析的值,例如,如果全像素数是100万,则把90万作为规定数(这时的规定比例是90%)。
在步骤5(S5)中,所谓的注入电流的变化量可以根据由于模式跳跃而使输出光波长变化的迁移区域(多模式区域)的宽度等进行适当选择,例如为0.1mA。
接着,说明上述调制值γ。调制值γ和干涉条纹振幅(对比度)有大致相关关系,在采用4步的边缘扫描法的情况下,具体用下述式(1)表示。
这里,x、y表示展开拍摄的条纹图像的规定坐标系上的坐标,例如在设定为与CCD摄像元件的像素排列对应的坐标系上,表示各像素位置的离散坐标,Io表示各坐标(各像素)的平均光强度,I1,I2,I3,I4分别表示4次边缘扫描后各定时的干涉条纹强度。
这4次边缘扫描后各定时的干涉条纹强度I1,I2,I3,I4用以下各式(2)、(3)、(4)、(5)表示。
I1(x,y)=I0(x,y){1+γcos[φ(x,y)]} ……(2)
I3(x,y)=I0(x,y){1+γcos[φ(x,y)]+π}=I0(x,y){1-γcos[φ(x,y)]} ……(4)
这里,φ(x,y)表示各坐标(各像素)的相位。
上述注入电流的变化方向可以是电流增大方向或电流减少方向,但在由于1次模式跳跃现象而变化的波长复原之前,在同一方向上反复改变注入电流。但是,在下面发生模式跳跃现象的情况下,可以在和上次发生模式跳跃现象时注入电流的增加方向相反的方向上改变注入电流。从而,即使发生多次模式跳跃现象,也能防止注入电流发生大变化的事态。而且,把规定值例如LD11的注入电流的初始设定值作为基准,判断随着上次模式跳跃现象的发生而变化的注入电流的最终设定值位于该基准值的正侧还是位于负侧,结果,如果判断为位于正侧,则随着下次模式跳跃现象的发生而导致的注入电流的变化方向是使注入电流减少的方向,另一方面,如果上述结果判断为位于负侧,则随着下次模式跳跃现象的发生而导致的注入电流的变化方向是使注入电流增加的方向。
上述注入电流的变化量可以作成恒定量(例如0.1mA),也可以逐次改变其变化量。
上述注入电流的控制通过计算机20对LD电源发出的指示来进行。
请参阅图5所示,是发生模式跳跃现象时用于说明本实施例方法的注入电流调整处理的模式时间图。在该时间图中,纵轴是LD11的注入电流值,横轴是时间(任意单位)。
请参阅图5所示,在时间轴方向上设定每隔规定期间进行划分的采样区间(t1,t2…t99,t100,t101,…)。在各采样区间内,进行被测体的干涉条纹测定,取得干涉条纹图像(图1的S1),进行该图像的解析,求出调制值γ(图1的S2),判断调制值γ在规定值以上的像素数是否在规定数以上(图1的S3)。如果判断为调制值γ在规定值以上的像素数是在规定数以上(对比度良好),则不改变LD11的注入电流,等待至变成下一个采样区间。另一方面,如果判断为调制值γ在规定值以上的像素数未达到规定数(对比度不佳),则使LD11的注入电流仅改变微小量,等待至变成下一个采样区间。
具体地说明图5,在区间t1,因为判断为调制值γ高(白箭头:γ高),所以移至不改变LD11的注入电流(仍为37.0mA)的区间t2。在区间t2中,因为判断为调制值γ高(白箭头:γ高),所以移至不改变LD11的注入电流的区间t3。但是,在区间t2中,在取得干涉条纹图像后发生了模式跳跃现象,在区间t3中判断为调制值γ低(黑箭头:γ低),因此,在LD11的注入电流仅增加0.1mA后,移至区间t4。与增加注入电流无关,在区间t4,因为判断为调制值γ低(黑箭头:γ低),所以在LD11的注入电流再次仅增加0.1mA后移至区间t5。
之后,在到达区间t7之前,反复使注入电流仅增加0.1mA的处理,在注入电流值变为37.4mA的时刻,来自LD11的输出模式变为单一模式,在区间t7,因为判断为调制值γ高(白箭头:γ高),所以移至不改变LD11的注入电流(仍为37.4mA)的区间t8。
之后,直至区间t99,不发生模式跳跃现象(图5中省略了一部分),在各区间中,因为判断为调制值γ高(白箭头:γ高),所以LD11的注入电流原样不变为37.4mA。
可是,在区间t99,再次发生模式跳跃现象,在区间t100中判断为调制值γ低(黑箭头:γ低),因此和上次相反,在使LD11的注入电流仅减少0.1mA后,移至区间t100。这时,连续改变LD11的注入电流直至判断为调制值γ高(白箭头:γ高),在向作为判断为调制值γ高(白箭头:γ高)的区间t102的下一个区间的区间t103移动时,不改变注入电流。
这样,在本实施例方法中,为了判断是否发生了模式跳跃现象,以调制值γ为基准,如果判断为调制值γ低(对比度不佳),则每次微小量地改变LD11的注入电流,直至判断为调制值γ高(对比度良好),因此,根据突发的模式跳跃现象,能使干涉条纹图像的对比度返回良好状态,从而能对被测体继续进行自动干涉条纹测定。
作为和上述实施例方法不同的另一个实施例方法,手法是通过每次微小量地改变LD11的温度,来应对模式跳跃现象。
即,在上述实施例方法中,每次微小量地改变LD11的注入电流直至判断为调制值γ良好,代替这种方法,每次微小量地改变LD11的温度直至判断为调制值γ良好,应对突发的模式跳跃现象,使干涉条纹图像的对比度恢复良好的状态。
具体地说,在图1所示的流程图的步骤5(S5)中,用每次微小量地改变LD11的温度来代替每次微小量地改变LD11的注入电流。这里,LD11的温度是在LD11中附设帕而帖元件等,根据计算机20发出的指示信号调整驱动电流量。
另一点是,因为可以用和上述实施例方法相同的顺序,这里,省略重复的说明。但是,在用帕而帖元件等改变LD11的温度时,和改变上述LD11的注入电流的情况不同,在稳定之前需要时间,因此,从进行温度变化操作开始到进行被测体的干涉条纹测定为止,需要设定规定的等待时间。
请参阅图6所示,是用于说明上述另一个实施例方法的光源温度调整处理的模式时间图。在该时间图中,纵轴是LD11的温度(光源温度),横轴是时间(任意单位)。
用图6所示的时间图表示的顺序基本和图5所示的时间图表示的顺序一样。即,以调制值γ为基准判断模式跳跃现象的发生,如果判断为调制值γ低(对比度不佳),则每次微小量地增加LD11的温度,直至判断为调制值γ高(对比度良好)。这里,初始设定温度是25℃,温度变化幅度是0.1℃。温度的变化方向可以和上述实施例方法中说明的注入电流的变化方向一样。
如上所述,在用帕而帖元件等改变LD11的温度时,因为在稳定之前需要时间,所以设置从进行温度变化操作开始到进行被测体的干涉条纹测定为止的规定等待区间(区间t4,区间t6)。若适当选择该等待区间,例如可以是20秒间。其他的采样期间例如若为1秒左右,则与此相对,用于等待的等待区间(区间t4,区间t6)变得很长,实际上,在图6表示的各区间内,区间t4和区间t6是比其他区间长很多的期间。
这样,在上述另一个实施例方法中,为了判断是否发生了模式跳跃现象,调制值γ为基准,如果判断为调制值γ低(对比度不佳),则每次微小量地增加LD11的温度,直至判断为调制值γ高(对比度良好),因此,能应对突发的模式跳跃现象,例如如图7a所示,将干涉条纹图像的对比度恢复到良好的状态,从而,能对被测体继续自动进行干涉条纹测定。
在本实施例的光源输出的稳定化方法中,可以有种种变形,例如,在干涉条纹解析处理中,可以用公知的傅立叶变换法(例如参考1995年5检测论文集第75~82页)来代替上述边缘扫描法。
而且,上述干涉计装置10可以是斐索型,本发明方法还适用于迈克尔逊型等光路长型干涉计装置。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,虽然本发明已以较佳实施例揭露如上,然而并非用以限定本发明,任何熟悉本专业的技术人员,在不脱离本发明技术方案范围内,当可利用上述揭示的方法及技术内容作出些许的更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本发明技术方案的内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。
Claims (6)
1、一种光源输出的稳定化方法,在输出照射光的光源根据注入电流的变化而在上述照射光的波长中产生变化,并用上述照射光得到被测体的干涉条纹图像的干涉计装置中,其特征在于:
每隔规定定时取得上述干涉条纹图像,对得到的干涉条纹图像实施图像解析处理,算出该图像的调制值,同时,在该调制值达规定阈值以下时,进行注入电流调整操作,使上述注入电流仅变化规定值,
之后,在与上述得到的干涉条纹图像有关的上述调制值超过上述规定阈值为止,反复进行上述注入电流调整操作,以及
上述的光源为半导体激光光源。
2、根据权利要求1所述的光源输出的稳定化方法,其特征在于每当发生新的模式跳跃现象时,其中所述的注入电流调整操作中作为注入电流变化量的规定值具有正负反转的符号。
3、根据权利要求1所述的光源输出的稳定化方法,其特征在于其中所述的注入电流调整操作中作为注入电流变化量的规定值,是每次发生新的模式跳跃现象时求出的、缩小规定基准值和当前上述注入电流值之差的值。
4、一种光源输出的稳定化方法,在输出照射光的光源根据注入电流的变化而在上述照射光的波长中产生变化,并用上述照射光得到被测体的干涉条纹图像的干涉计装置中,其特征在于:
每隔规定定时取得上述干涉条纹图像,对得到的干涉条纹图像实施图像解析处理,算出该图像的调制值,同时,在该调制值达规定阈值以下时,藉由帕元贴元件来改变光源的温度从而进行光源温度调整操作,使上述光源的温度仅变化规定值,
之后,在与上述得到的干涉条纹图像有关的上述调制值超过上述规定阈值为止,反复进行上述光源温度调整操作,以及
上述的光源为半导体激光光源。
5、根据权利要求4所述的光源输出的稳定化方法,其特征在于每当发生新的模式跳跃现象时,其中所述的光源温度调整操作中作为上述光源温度变化量的规定值具有正负反转的符号。
6、根据权利要求4所述的光源输出的稳定化方法,其特征在于其中所述的光源温度调整操作中作为上述光源温度变化量的规定值,是每次发生新的模式跳跃现象时求出的、缩小规定基准值和当前上述光源温度值之差的值。
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Patent Citations (4)
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EP0498575A2 (en) * | 1991-02-08 | 1992-08-12 | Hughes Aircraft Company | Stabilized two color laser diode interferometer |
KR940010168B1 (ko) * | 1991-06-04 | 1994-10-22 | 재단법인 한국원자력연구소 | 2부분 광다이오드의 간섭무늬 이동검지에 의한 펄스형 레이저의 주파수 안정화 방법과 장치 |
JPH11351814A (ja) * | 1998-06-08 | 1999-12-24 | Toshihiko Yoshino | 安定化干渉計測装置 |
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