CN1248055C - 烷基化氨基烷基哌嗪表面活性剂及其在光致抗蚀显影剂中的应用 - Google Patents

烷基化氨基烷基哌嗪表面活性剂及其在光致抗蚀显影剂中的应用 Download PDF

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Abstract

本发明提供了水基组合物，具体的说是涂料、油墨、湿润液、胶粘剂、农业的和光致抗蚀显影剂/电子清洗剂组合物，通过加入表面张力降低量的某些有下式结构的烷基化氨基烷基哌嗪化合物可降低其平衡和动态表面张力：其中R1和R2的其中之一是C5-C14的烷基或环烷基，而另一个是H，或者R1和R2都是C5-C8的烷基，n是2或3。

Description

烷基化氨基烷基哌嗪表面活性剂及 其在光致抗蚀显影剂中的应用
本申请是1999年10月12日申请的美国专利申请09/416429的序列申请，在此引入作为参考。
本发明涉及使用烷基化氨基烷基哌嗪降低水基系统的表面张力，尤其是在含水的光致抗蚀显影剂和电子清洗剂组合物中作为润湿剂的应用。
在水性涂料、油墨、胶粘剂及农业配合物中降低水的表面张力的能力非常重要，因为在实际配合物中降低的表面张力转化为提高的基质润湿性。通常是通过加入表面活性剂的方法降低水基系统的表面张力，加入表面活性剂带来的性能属性包括提高表面覆盖率、更少的缺陷及更均匀的分布。当系统静止时平衡的表面张力性能是重要的，但是，在使用高表面产生率的应用中在动态条件下降低表面张力的能力是非常重要的。这样的应用包括涂料的喷涂、滚涂及刷涂或农业配合物的喷涂或高速凹版印刷或喷墨印刷。动态表面张力是度量在这样的高速应用条件下表面活性剂降低表面张力的能力及产生润湿性能力的一个基本量。
传统的非离子表面活性剂如烷基酚或醇乙氧基化物和环氧乙烷(EO)/环氧丙烷(PO)的共聚物有优秀的平衡表面张力性能，但一般其降低动态表面张力的能力差。相反，某些阴离子表面活性剂如二烷基磺基琥珀酸钠能产生良好的动态效果，但是能产生大量泡沫并使形成的涂层产生水敏性，形成泡沫的问题在制造半导体时用的含水的光致抗蚀显影剂中尤其麻烦。
生产半导体时需要在光致抗蚀显影剂配合物中使用高性能表面活性剂和润湿剂。由于线型结构收缩成较小的尺寸，光致抗蚀基质材料在性质上更为脂肪族化(即有较低的表面能)，所以含水显影剂溶液要和降低表面张力的试剂配合在一起。对这些显影剂的另一个要求是其要有低的形成泡沫的趋势。这在其向较大的晶片尺寸移动时更重要。当使用喷涂搅炼技术时形成低泡沫特别重要因为溶液分布在兴致抗蚀剂表面时截留的微泡能导致缺陷。过去用于提高光致抗蚀剂润湿性的表面活性剂一般导致形成较多的泡沫。在大多数情况下工业界把注意力集中在表面活性剂对光致抗蚀性能的影响上，例如，对比度，临界尺寸及性能清晰度。尽管典型的表面活性剂能提高底层基质的清洗能力，但是泡沫的形成仍然是一个问题。
需要的能提供良好平衡和动态表面张力性能的表面活性剂是能形成低泡沫的，室温下是液体以易于处理，在碱性条件下是稳定的并能在水性涂料、油墨、胶粘剂、湿润液、农业和电子清洗剂配合物中广泛接受的表面活性剂。
本领域已很好地认识到在如涂料、油墨、胶粘剂、湿润液、农业配合物和电子清洗组合物如用于制备半导体器件的含水显影剂溶液的应用中降低平衡和动态表面张力的重要性。
低的动态表面张力在水性涂料的应用中非常重要，在Schwarz，J.“TheImportance of Low Dynamic Surface Tension in Waterborne Coatings”Journal ofCoatings Technology，September1992的文章中讨论了水性涂料中的表面张力性能和这种涂料中的动态表面张力。评价了几种表面活性剂的平衡和动态表面张力。该文章指出水性涂料中形成超级膜时低的动态表面张力是一个重要的因素，动态涂层应用方法需要低动态表面张力的表面活性剂以防止缺陷如收缩、小坑和泡沫的形成。
农业产品的有效应用也高度依赖于配合物的动态表面张力性能，在Wirth，W.；Storp，S；Jaoobsen，W.“Mechanisms Controlling Leaf Retention ofAgricultural Spray Solutions”，Pestic.Sci.1991，33，411-420文章中研究了农业配合物的动态表面张力和把这些配合物截留在叶面上的能力之间的关系。这些研究者发现载留值和动态表面张力有密切关系，更有效截留的配合物有低的动态表面张力。
低的动态表面张力在高速印刷中也是重要的，如”Using Surfactants toFormulate VOC Compliant Waterbased Inks”，Medina，S.W.；Sutovch，M.N.Am.InkMaker 1994，72(2)，32-38文章中所述。这篇文章认为平衡表面张力(ESTs)只在静止的油墨系统中是合适的，但是，EST值并不能作为使用油墨时的动态高速印刷环境下的性能指标。动态表面张力是更合适的性能。这种动态值是表面活性剂移动到新形成的油墨/基质界面以在高速印刷过程中提供润湿性能力的一个指标。
根据J.R.Sheats和B.W.Smith编辑的Microlithography，Science and Technology。Marcel Dekker，Inc.，1998，pp551-553，氢氧化四甲铵(TMAH)是显影光致抗蚀剂的含水碱性溶液中选择的一种化学物质。表面活性剂加入到含水TMAH溶液中可减少显影时间和泡沫形成，提高表面润湿性。
US5098478中公开的水基油墨组合物包括水、颜料、非离子表面活性剂及用于该非离子表面活性剂的增溶剂。公开的油墨组合物在凹版印刷时的动态表面张力必须降到约25-40dynes/cm，以确保不会出现印刷性问题。
US5562762公开了一种水、溶解的染料和有两个聚乙氧化物取代基的叔胺的含水喷射油墨，低动态表面张力在喷墨印刷中是重要的。
尽管报道过许多单烷基化氨基烷基哌嗪衍生物，但还没有认识到这些材料具有表面活性。
US3007929公开了下式的化合物：
其中R是C8-C16的直链烷基，对于食品容器和厨房用具来说，C12和C14的衍生物是有效的杀毒剂和消毒剂。
Zagudullin和Balmetov[J.Gen Chem.USSR(Engl.Transl)1991，61，889-894；Zh.Obshch，Kbim，1991，61，978-985]报道了氨基乙基哌嗪与乙基氯化物、烯丙基和甲代烯丙基氯化物及氯丙烯的烷基化反应。根据反应条件和所用的烷基化试剂的量的不同，可以形成单、二和三烯丙基和甲代烯丙基衍生物：
其中R是H或CH3。研究者还报道了下式的化合物的形成：
这篇文章认为烷基化氨基乙基哌嗪化合物在聚亚胺酯、聚胺和环氧树脂的合成中与催化剂一样重要。据说他们在纺织工业中还可用作选择性溶剂和辅剂。
JP0138080公开了一类如下结构的化合物：
Figure C0013421700072
其中
R1可以是C3-C8的直链或支链脂肪族，
R2和R3可以是C3-C11的直链或支链脂肪族，
R3或R3中的一个必须是H或C1-C2，
R4是H或C1-C12的直链或支链烷基，
m和n都是0-3的整数且m+n≤3，
p是2-13的整数。
具体示出的是1-[3-[4-甲基-1-(3-甲基丁基)戊基氨基]丙基]哌嗪。这些化合物公开为中枢神经系统试剂和杀虫剂。
有一些文献描述了显影剂组合物中的低泡沫表面活性剂。JP10-319606公开了可商购的能产生良好润湿性和低泡沫的环氧乙烷(EO)/环氧丙烷(PO)的嵌段聚合物。
JP03-062034公开了在显影剂配合物中有低泡沫的好的表面活性剂聚氧化烯二甲基聚硅氧烷，已知聚硅氧烷在高PH值的条件下能重排或分解。
尽管有一些文献提到在光致抗蚀显影剂组合物中使用胺，但是没有涉及到表面活性剂的使用。US5252436公开了使用相对较高量的胺添加剂(3-30wt％)，US5039595中使用的胺添加剂的量是5-50wt％。这两篇公开文献好像使用胺来改变显影剂溶液的整体溶解性能。
US4997748公开了在光致抗蚀显影过程中用0.1-10wt％的环氮化合物以减少泡沫的形成并提高图像清晰度。其中所说的环氮化合物是环状脲1，3-二甲基-2-咪唑烷酮。因为氮化合物不是两性的，所以它们不可能在低浓度下降低表面张力并且使用它们好像不是基于其降低表面张力的性能。1，3二甲基-2-咪唑烷酮公知是一种非常好的溶剂但不是表面活性物质。
US4828965公开了使用浓度为0.40-5wt％的低级链烷醇胺(1-4个碳)和醇的结合。
US4741989公开了使用少量的胺以改善光致抗蚀剂中醌二嗪农光活性化合物的反应化学性，但是只能使用短链的胺并且没有提到表面活性胺。
US4628023公开了用水溶性胺作为显影剂溶液的碱源。因为优选的PH值大于12.5，所以必须使用高浓度的有机胺。
JP61-179651公开了表面张力为25-50dyne/cm的含胺的显影剂溶液的使用。使用相对大量的非表面活性胺(3-5wt％)与作为碱性物质的氢氧化四甲铵的结合得到这些表面张力值。
本发明提供含有一种有机或无机化合物的水基组合物，具体来说是含水的有机涂料、油墨、胶粘剂、湿润液、农业的和光致抗蚀显影剂/电子清洗剂组合物，通过加入有效量的有下面结构的烷基化氨基烷基哌嗪化合物使其具有降低的平衡和动态表面张力：
其中R1和R2的其中之一是C5-C14的烷基或环烷基，优选是C6-C8的烷基，而另一个是H，或者R1和R2都是C5-C8的烷基，n是2或3。希望烷基化氨基烷基哌嗪的含水溶液在23℃时在水中的浓度≤5wt％时的动态表面张力小于45dyne/cm并且根据最大气泡压力法测出1个气泡/秒。测定表面张力的最大气泡压力法在langmuir 1986，2，428-432中有描述，在此引入作为参考。
为了达到本发明的目的，我们用“水基的”、“含水的”或“含水介质”指的是一种含有至少90wt％，优选至少95wt％水的溶剂或液体分散介质。很明显并且最优选的是还包括全水介质。为了达到本发明的目的，术语“光致抗蚀显影”和“电子清洗”是可以互换的。
本发明还提供一种通过加入这些烷基化氨基烷基哌嗪化合物降低含水组合物的平衡和动态表面张力的方法。
本发明还提供一种将含有水基无机或有机化合物的组合物的涂料用于一表面上以用该水基组合物部分或全部地涂覆在该表面上的方法，该组合物含有有效量的有上面结构的烷基化氨基烷基哌嗪化合物以降低水基组合物的动态表面张力，并且允许水份蒸发。
本发明还提供一种通过在光致抗蚀剂表面上应用一种含有有效量的有上面结构的烷基化氨基烷基哌嗪化合物以降低显影剂组合物的动态表面张力的水基显影剂组合物使光致抗蚀剂受到辐射后显影的方法。
在水基有机涂料、油墨、胶粘剂、湿润液、农业组合物和电子清洗剂组合物中使用这些烷基化氨基烷基哌嗪有很多重要的优点，这些优点包括：
·能够配制成可适用于各种各样的有优秀润湿性的基质表面包括污染的和低能量表面的基质上的水性涂料、油墨、湿润液和农业组合物；
·能够减少涂层或印刷中的缺陷例如桔皮纹和流动/均化的不足；
·能够生成易挥发性的有机物含量低的水性涂料和油墨，因而使得这些表面活性剂有利于环境；
·能够配制成可适用于高速应用的涂料和油墨组合物；和
·能够配制成在强碱，高温环境下能够保持优秀的动态表面张力性能的组合物。
·能够配制成用在半导体生产工业中的有良好润湿性和极低泡沫的低表面张力的包括光致抗蚀显影剂溶液的电子清洗和处理溶液。
由于其优秀的表面活性剂性能和控制泡沫的能力，这些材料可能在许多降低动态和平衡表面张力和低泡沫是重要的应用中发现其用途。低泡沫是重要的应用包括许多湿法加工纺织品的操作，如纤维的染色，纤维的酸化及漂煮，在这些情况下，低泡沫性能尤其有利；它们还可以应用在肥皂、水基香料、香波及各种洗涤剂中，它们突出的作用是能降低表面张力，同时基本上不形成泡沫，这都是极其需要的。
在含水光致抗蚀显影剂配合物中使用这些材料尤为重要，因为即使在极端条件下他们也能够产生降低表面张力的优点和减少泡沫形成的突出性能，并能够应用于光致抗蚀显影领域时保持良好对比度的同时做到这一点。其他使用含水处理介质的电子工业领域也将因其良好的动态润湿性和低泡沫的性质而受益。
本发明涉及下式的化合物的应用：
Figure C0013421700101
其中R1和R2的其中之一是C5-C14的烷基或环烷基，而另一个是H，或者R1和R2都是C5-C8的烷基，n是2或3。其作用是降低含有有机化合物的水基组合物中的平衡和动态表面张力，具体地说是含有有机化合物如聚合树脂、有机碱、除草剂、杀菌剂、杀虫剂或植物生长调节剂的涂料、油墨、胶粘剂、农业和电子加工组合物。希望烷基化氨基烷基哌嗪的含水溶液在23℃时在水中的浓度≤5wt％时的动态表面张力小于45dyne/cm并且根据最大气泡压力法测出1个气泡秒。测定表面张力的最大气泡压力法在langmuir 1986，2，428-432中有描述，在此引入作为参考。
本发明的一个方面是上式的烷基化氨基烷基哌嗪在基本不产生泡沫的同时具有优秀的降低平衡和动态表面张力的能力。
这些材料可通过将母体氨基烷基哌嗪与醛和酮利用建立好的过程进行还原烷基化制得。制备的基本方法是醛或酮与氨基烷基哌嗪反应得到亚胺或烯胺中间体，该中间体接着在适宜的加氢催化剂存在下与氢反应生成相应的饱和衍生物：
亚胺或烯胺衍生物可以预先制备也可以当场制备。
还原烷基化过程是选择的制备这些材料的一种方法，但是，这些产物还可以通过氨基烷基哌嗪和烷基卤化物的反应制备。该反应用氨基乙基哌嗪和烷基氯化物的反应来演示：
在该产物中，R1和R2中的至少一个是R，另一个是R或H。
适用于还原烷基化反应的氨基烷基哌嗪的起始物质包括下式的化合物：
Figure C0013421700111
其中n是2或3。具体的例子包括氨基乙基哌嗪和氨基丙基哌嗪。
适用于本发明的烷基应当有足够多的碳原子数以使该材料具有表面活性(即降低水的表面张力的能力)，但碳原子不能多到使其溶解度降到该材料在具体应用中不具有充分降低表面张力的能力。一般来说，碳原子数增加，表面活性剂的效率提高(即降低表面张力需要较少的表面活性剂)，但是降低了其在高表面产生率时降低表面张力的能力。后者是因为碳原子数的增加使得该材料水溶解性或临界胶束浓度(CMC)降低，结果就减小了表面活性剂向新形成的表面的扩散量。在本发明的实际生产中，一般希望在总的含水配合物的溶解度极限或CMC为0.001g/100mL到约20g/100mL，优选0.01-10g/100mL，最优选0.05-5g/100mL时使用烷基化氨基烷基哌嗪。
单烷基化衍生物应当用含有5-14，优选6-8个碳原子的烷基取代。最优选的是，甲基异丁基酮和甲基异戊基酮的还原烷基化反应衍生得到的烷基，因为这些产品是最经济的，但是由C5-C14的醛或酮衍生得到的烷基也是合适的。合适的醛和酮的具体例子包括2-戊酮、3-戊酮、新戊醛、甲基异丙基酮、甲基异丁基酮、甲基异戊基酮、2-己酮、3-己酮、甲基叔丁基酮、乙基异丙基酮、2-甲基己醛、2-庚酮、3-庚酮、4-庚酮、2-辛酮、3-辛酮、4-辛酮、2-乙基己醛、环戊酮、环己酮、环庚酮、环辛酮、环癸酮、环十二酮、2-十二酮、1-十二醛、2-十四酮、8-十四酮等。烷基可以是直链的也可以是支链的，连接氮的点可以是在里面的碳原子或端基碳上。具体的羰基化合物的选择取决于具体应用中需要的表面活性剂的性能。用于单烷基化衍生物的烷基可以连接在烷基链上的氮或环氮原子上。使用环状和链状烷基化氨基烷基哌嗪的混合物是优选的，因为以后材料的合成和纯化将得到简化。
对于二烷基化氨基烷基哌嗪来说，烷基可以相同也可以不同，但是也应当有足够多的碳原子以产生表面活性，但碳原子不能多到使表面活性剂的溶解度降到该表面活性剂在具体应用中不具有充分降低水的表面张力的能力。总计有约10-16个烷基碳的二烷基化氨基烷基哌嗪一般是优选的。烷基取代基可以是直链的或支链的，连接氮的点可以是在里面的碳原子或端基碳上。最优选那些烷基是一样的衍生物，因为生产这些材料是最简单的。合适的R1和R2的具体例子包括n-戊基、2-戊基、3-戊基、异戊基、n-己基、2-己基、3-己基、环己基、2-(4-甲基戊基)、2-(5-甲基己基)、n-辛基、2-辛基、3-辛基、2-十二烷基、环十二烷基等。
加入一定量的氨基烷基哌嗪化合物以有效地降低水基的，含有有机化合物的组合物的平衡和/或动态表面张力。这种有效量是含水组合物的0.001-20g/100mL，优选0.01-10g/100mL，最优选0.05-5g/100mL。对于水基光致抗蚀显影剂/电子清洗剂组合物来说有效量是0.001-1g/100mL，优选0.002-0.8g/100mL，最优选0.005-0.5g/100mL。当然，最有效的量取决于具体的应用及烷基化氨基烷基哌嗪的溶解度或临界胶束浓度。
烷基化氨基烷基哌嗪适用于含水组合物，该组合物包括在水中的一种矿石或一种颜料的无机化合物或是一种颜料的有机化合物、一种如添加，缩合和乙烯基单体的可聚合单体、一种低聚合树脂、一种聚合树脂、一种洗涤剂、一种碱性清洗剂、一种如氢氧化四甲铵(TMAH)的溶剂、一种除草剂、一种杀菌剂、一种杀虫剂或一种植物生长调节剂。
在半导体工业中使用二烷基化氨基烷基哌嗪在光致抗蚀显影剂中作为表面活性剂特别有利。这样的显影剂及其应用在本领域中是公知的不须详述。以前没有预见的本发明的改进之处在于其涉及到某些含有氮原子上有5-14个碳原子的烷基的烷基化氨基烷基哌嗪及某些含有氮原子上每一个都有5-8个碳原子的烷基的二烷基化氨基烷基哌嗪在这些显影剂配合物中的应用。
在下面的含有本发明的烷基化氨基烷基哌嗪的水基有机涂料、油墨、胶粘剂、湿润液、农业的和光致抗蚀显影剂组合物中，列举的这些组合物中的其它组份是相关领域的普通技术人员所公知的材料。
一种典型的可加入本发明的烷基化氨基烷基哌嗪表面活性剂的水基保护性或装饰性的有机涂料组合物在含水介质中包括30-80wt％的有下列组分的涂料组合物：
                  水基有机涂料组合物
  0-50wt％   颜料分散剂/磨碎的树脂
  0-80wt％   着色剂/增量颜料/抗蚀颜料/其他类型颜料
  5-99.9wt％   水性/水散性/水溶性树脂
  0-30wt％   滑爽剂/杀菌剂/加工助剂/消泡剂
  0-50wt％   聚结或其他溶剂
  0.01-10wt％   表面活性剂/润湿剂/流动和均化剂
  0.01-20wt％   烷基化氨基烷基哌嗪
一种典型的可加入本发明的烷基化氨基烷基哌嗪表面活性剂的水基油墨组合物在含水介质中包括20-60wt％的有下列组分的油墨组合物：
                  水基油墨组合物
  1-50wt％   颜料
  0-50wt％   颜料分散剂/磨碎的树脂
  0-50wt％   在合适的树脂溶液载体中的粘土基
  5-99.9wt％   水性/水分散性/水溶性树脂
  0-30wt％   聚结溶剂
  0.01-10wt％   表面活性剂/润湿剂
  0.01-10wt％   加工助剂/消泡剂/溶剂
  0.01-20wt％   烷基化氨基烷基哌嗪
一种典型的可加入本发明的烷基化氨基烷基哌嗪表面活性剂的水基农业组合物在含水介质中包括0.01-80wt％的有下列组分的农业组合物：
                    水基农业组合物
  0.1-50wt％   杀虫药、杀虫剂、除草剂或植物生长调节剂
  0.01-10wt％   表面活性剂
  0-5wt％   染料
  0-20wt％   增稠剂/稳定剂/共表面活性剂/凝胶抑制剂/消泡剂
  0-25wt％   防冻剂
  0.01-50wt％   烷基化氨基烷基哌嗪
一种典型的可加入本发明的烷基化氨基烷基哌嗪表面活性剂的水基湿润液组合物在含水介质中包括30-70wt％的有下列组分的湿润液组合物：
                  水基湿润液
  0.05-10wt％   可形成膜的，水溶性大分子
  1-25wt％   水溶性的或可制成水溶性的有2-12个碳原子的醇、二醇或多元醇
  0.01-20wt％   水溶性的有机酸，无机酸或其盐
  0.01-5wt％   烷基化氨基烷基哌嗪
一种典型的可加入本发明的烷基化氨基烷基哌嗪表面活性剂的水基胶粘剂组合物在含水介质中包括30-65wt％的含有下列组分的胶粘剂组合物：
              水基胶粘剂
  50-95wt％ 聚合树脂(SBR，VAE，丙烯酸的)
  0-50wt％ 增粘剂
  0-0.5wt％ 消泡剂
  0.5-2wt％ 烷基化氨基烷基哌嗪
一种典型的可加入本发明的烷基化氨基烷基哌嗪表面活性剂的水基光致抗蚀显影剂或电子清洗剂组合物包括含有下列组分的含水介质：
        水基光致抗蚀显影剂组合物
 0.1-3wt％ 氢氧化四甲铵
 0-4wt％ 酚类树脂
 10-10000ppm 烷基化氨基烷基哌嗪
简言之，生产集成电路的方法包括将光致抗蚀剂组合物的膜施用在合适的基质如硅片上，然后以设计的方式使其受到光化辐射使其对光致抗蚀剂产生影响。依光致抗蚀剂是正极或负极的工作方式，辐射增加或降低随后所用的显影剂溶液的溶解度。结果，正极工作的光致抗蚀剂显影后，暴露部分溶解掉的同时，屏蔽辐射的区域仍然存在。负极工作的光致抗蚀剂发生相反的结果。本发明的表面活性剂可用于这两种类型的光致抗蚀显影剂。显影剂的性能对于所形成电路的质量非常重要，精确地控制显影是必须的。为了通过显影剂达到更好的表面润湿性，一般要在该配合物中加入表面活性剂以降低溶液的表面张力。但是，这种加入，可能造成显影剂起泡沫导致电路缺陷。这种起泡沫问题在本领域已得到了认识，工业上已把大量的注意力投向了该问题的解决上。
使用烷基化氨基烷基哌嗪的含水显影剂或电子清洗剂溶液优选是氢氧化四甲铵(TMAH)的含水溶液，这些显影剂在本领域中是公知的。市场上的显影剂通常含有很低量的表面活性剂，其重量含量是50-1000ppm。为了得到所需表面张力的溶液，表面活性剂的量应当大于所需的量。例如，对于酚醛树脂清漆基光致抗蚀剂树脂来说，约40-45dyne/cm的表面张力是合适的，常常加入脂肪族基团的高级树脂可能需要低表面张力的显影剂以提高润湿性，本发明的表面活性剂的优点之一是使用比其他润湿剂少量的该表面活性剂就能得到合适的表面张力。这本身就是解决微电路生产中起泡沫问题的一个步骤。
                         实施例1A
该实施例说明了1-(2-氨基乙基)哌嗪(AEP)和甲基异戊基酮(MIAK)的还原烷基化产品的制备步骤。
在1升的不锈钢高压锅中加入AEP(1.0mol)，MIAK(1.1mol)和10％的Pd/C(总加入量是4wt％)。密封该反应器并先用氮气喷吹然后用氢气喷吹。将反应器的内容物在7bar(100psig)的氢气压力下加热到90℃。根据需要用一个圆顶调节器从1加仑(3.79升)的沙囊里加入氢气把压力增加到55bar(800psig)并在整个反应中(6小时)保持这个压力。用GC/FID分析反应器内的物质发现77.9部分％是单烷基化AEP，19.2部分％是二烷基化AEP。在142-145℃，4.0毫巴(3托)的条件下蒸馏分离出单烷基化产品。在148-150℃，0.53毫巴(0.4托)的条件下蒸馏纯化二烷基化产品。
用气相色谱/质谱分析法(gc-ms)和1H和13C核磁共振(NMR)分光法鉴定单烷基化衍生物，该衍生物是下式所示的链状与环状烷基化物质的比为5.2∶1的混合物：
Figure C0013421700151
                          AEP/MIAK1
用同样的分析技术鉴定的二烷基化物质的结构如下式所示：
Figure C0013421700161
                        AEP/MIAK2
                        实施例1B
此实施例说明了AEP和甲基戊基酮(MAK)的还原烷基化产品的制备。
在1升的不锈钢高压锅中加入AEP(1.25mol)，甲基戊基酮(1.37mol)和10％的Pd/C(总加入量是3wt％)。密封该反应器并先用氮气喷吹然后用氢气喷吹。将反应器的内容物在7bar(100psig)的氢气压力下加热到80℃。根据需要用一个圆顶调节器从1加仑(3.79升)的沙囊里加入氢气把压力增加到55bar(800psig)并在整个反应中(5小时)保持这个压力。真空除去反应的水，在155-160℃和14毫巴(11托)的条件下用4英寸(10.2cm)的维格娄(Vigreux)分馏柱蒸馏出粗制品，得到是无色液体的208.4克的AEP/MAK1。
用气相色谱/质谱分析法(gc-ms)和1H和13C核磁共振(NMR)分光法鉴定出该产品是下式表示的两种组分的混合物。13CNMR显示出该混合物是链状与环状烷基化物质的比为6∶1组成的混合物。
Figure C0013421700162
                       AEP/MAK1
                       实施例2
此实施例说明了AEP和2当量的甲基异丁基酮(MIBK)的还原烷基化产品的制备步骤。
在1升的不锈钢高压锅中加入AEP(0.8mol)，甲基异丁基酮(1.6mol)和5％的Pd/C(总加入量是4wt％)。与实施例1一样反应22小时。用GC/FID分析反应器内的物质发现97.9部分％是二烷基化AEP，在152-154℃，2.7毫巴(2托)的条件下蒸馏纯化该产品。
用气相色谱/质谱分析法(gc-ms)和1H和13C核磁共振(NMR)分光法鉴定出该产品的结构如下所示：
Figure C0013421700171
                       AEP/MIBK2
用制备AEP/MIBK2中所用的相似的方法制备单烷基化衍生物，不同之处是只用了1.1当量的MIBK。在102-104℃，1.0托的条件下蒸馏以纯化该产品。用气相色谱/质谱分析法(gc-ms)和1H和13C核磁共振(NMR)分光法鉴定该产品的结构。GC显示出该产品是链状与环状单烷基化物质的比为3.3∶1的混合物组成的产品。
Figure C0013421700172
                         AEP/MIBK1
                         实施例3
此实施例说明了AEP和环十二酮(CDD)的还原烷基化产品的制备。
在1升的不锈钢高压锅中加入AEP(0.4mol)，环十二酮(0.42mol)，四氢呋喃(100mL)和10％的Pd/C总加入量是4wt％)。密封该反应器并先用氮气喷吹然后用氢气喷吹。将反应器的内容物在7bar(100psig)的氢气压力下加热到90℃。根据需要用一个圆顶调节器从1加仑(3.79升)的沙囊里加入氢气把压力增加到55bar(800psig)并在整个反应中(24小时)保持这个压力。把反应器内容物冷却到室温并过滤除去催化剂。真空除去溶剂和水，用4英寸(10.2cm)的维格娄(Vigreux)分馏柱蒸馏粗制品，先得到8.8g的CDD馏分，然后在180-182℃和0.2毫巴的条件下得到是无色液体的52.1g的AEP/CDD1。
用气相色谱/质谱分析法(gc-ms)和1H和13C核磁共振(NMR)分光法鉴定出该产品是下式表示的两种化合物的混合物。13C NMR显示出该混合物是链状与环状烷基化物质的比为12∶1组成的混合物。
Figure C0013421700181
                           AEP/CDD1
在下面的实施例中，在气泡速率是0.1个气泡/秒(b/s)到20b/s的情况下用最大气泡压力法得到各种化合物的含水溶液的动态表面张力数据。这些数据反映出表面活性剂在从近于平衡(0.1b/s)的条件下到极高表面产生率(20b/s)的条件下的性能。在实际情况下，高气泡产生率对应于平板印刷中的高印刷速率，涂层应用中的高喷涂速率或辊涂速率及用于农业产品的快速应用速度。
                           实施例4
用上述方法得出氨基乙基哌嗪和1当量的甲基异丁基酮的还原烷基化产品(AEP/MIBK1)的含水溶液的动态表面张力数据。这些数据示于表1。
                         表1
                 动态表面张力(dyne/cm)-AEP/MIBK1
  浓度( wt％) 0.1b/s 1b/s 6b/s 15b/s 20b/s
  1.02.05.0   47.042.234.1   48.343.037.4   49.743.938.1   50.244.738.6   49.844.738.6
这些数据示出：AEP/MIBK1能有效地降低水的表面张力，用5wt％的量就能得到低于40dyne/cm的表面张力。正如20b/s条件下得到的数据所表示的那样，高表面产生率条件下的性能尤其好。这种在不同条件下能降低水的表面张力的突出性能当然能用于水基涂料、油墨、胶粘剂和农业配合物。
                     实施例5
制备氨基乙基哌嗪和1当量的甲基异戊基酮的还原烷基化产品(AEP/MIAK1)及氨基乙基哌嗪和1当量的甲基戊基酮的还原烷基化产品(AEP/MAK1)在蒸馏水中的溶液并用上述方法测定其动态表面张力性能。表2A和2B分别示出AEP/MIAK1和AEP/MAK1的数据。
                               表2A
                    动态表面张力(dyne/cm)-AEP/MIAK1
  浓度( wt％) 0.1b/s 1b/s 6b/s 15b/s 20b/s
  0.10.51.02.0   48.234.831.028.2   54.637.833.028.4   57.541.635.931.3   58.244.438.233.3   58.345.238.834.1
                                表2B
                      动态表面张力(dyne/cm)-AEP/MAK1
  浓度( wt％) 0.1b/s 1b/s 6b/s 15b/s 20b/s
  0.10.51.02.0   54.239.031.227.8   56.244.031.028.3   58.345.437.331.8   58.546.340.435.2   58.646.440.835.3
这些结果显示：对于1.0wt％的AEP/MIAK1溶液，0.1b/s时的表面张力是31.0dyne/cm，20b/s时表面张力只增加到38.8dyne/cm。用量是2wt％时，0.1b/s时测定的表面张力降到28.2dyne/cm并且在20b/s时保持在35dyne/cm以下。对于1.0wt％的AEP/MAK1溶液，0.1b/s时的表面张力是312dyne/cm，20b/s时表面张力只增加到40.8dyne/cm。用量是2wt％时，0.1b/s时测定的表面张力降到27.8dyne/cm并且在20b/s时保持在36dyne/cm以下。在如此快速应用条件下本发明的表面活性剂能保持如此极低的表面张力，也能用于高速涂料和油墨工艺中，特别是当基质具有低能量的表面时。在这些高表面产生率下这种突出的性能能使水基涂料、油墨和农业配合物有高印刷速度或应用速度从而能产生很高的生产率。
                        实施例6
制备氨基乙基哌嗪和1当量的环十二酮的还原烷基化产品(AEP/CDD1)在蒸馏水中的溶液并用上述方法测定其动态表面张力性能。表3示出其数据。
                              表3
                     动态表面张力(dyne/cm)-AEP/CDD1
  浓度( wt％) 01b/s 1b/s 6b/s 15b/s 20b/s
  0.050.1   39.234.9   41.136.2   46.039.7   50.542.9   50.743.5
这些数据显示：AEP/CDD1比实施例4和5的表面活性剂的效率更高，即使用较少的量就可得到同样的性能。因此，即使使用相对较少的量，也能在含水配合物中得到有效的性能。
                     实施例7
制备氨基乙基哌嗪和2当量的甲基异丁基酮的还原烷基化产品(AEP/MIBK2)在蒸馏水中的溶液并用上述方法测定其动态表面张力性能。表4示出其数据。
                          表4
                  动态表面张力(dyne/cm)-AEP/MIBK2
  浓度( wt％) 0.1b/s 1b/s 6b/s 15b/s 20b/s
  0.010.050.10.2   49.638.735.233.3   53.639.735.833.8   61.742.337.235.2   68.446.039.136.8   69.946.740.137.4
这些数据显示：二烷基化材料AEP/MIBK2比实施例4中对应的单烷基化产品AEP/MIBK1有效的多。
                    实施例8
制备氨基乙基哌嗪和2当量的甲基异戊基酮的还原烷基化产品(AEP/MIAK2)在蒸馏水中的溶液并用上述方法测定其动态表面张力性能。表5示出其数据。
                                表5
                     动态表面张力(dyne/cm)-AEP/MIAK2
  浓度( wt％) 0.1b/s 1b/s 6b/s 15b/s 20b/s
  0.010.10.2   39.834.333.5   47.539.438.5   61.351.649.6   69.858.450.6   70.151.739.8
AEP/MIAK2也显示出良好的降低含水组合物中动态表面张力的能力。
                        实施例9
用基于ASTMD 1173-53的方法检测0.1wt％的本发明的烷基化氨基烷基哌嗪表面活性剂溶液的起泡性能。在这种测试中，用高位泡沫移液管将0.1wt％的表面活性剂溶液加入盛有同样溶液的泡沫接收器中，测定加入完成时的泡沫高度(“初始泡沫高度”)和泡沫分散在空气-液体界面上需要的时间(“到零泡沫的时间”)并记录下来。这种测试能对不同的表面活性剂溶液的起泡性能作出比较，一般来说，在涂料、油墨和农业配合物中，泡沫是不需要的，因为它使处理复杂化并导致涂层和印刷缺陷、农业材料的应用无效。数据示于表6。
                      表6
                    泡沫测试数据
  化合物   初始泡沫高度(cm) 到零泡沫的时间(秒)
  AEP/MIBK1AEP/MIAK1AEP/MIBK2AEP/MIAK2   2.72.01.71.0 12323
表6的数据显示本发明的化合物形成的泡沫很少并且能迅速分散。
                         实施例10
用商购的光致抗蚀剂(OCG 82520cS，Olin Corporation)在4英寸的硅片上涂上约1微米的膜。这种抗蚀剂设计成在显影剂溶液中是非常可溶的并和0.131M的TMAH一起使用。这种光致抗蚀剂通过各种各样的透射滤波器(Opto-LineAssociates，Wilmington MA制造)受到365nm(汞i线)波段的紫外线辐射，这种滤波器由石英板的圆形区域组成，该面板打碎成不同的透射程度的楔子，然后不同区域的抗蚀剂通过在光圈下放置硅片和操作快门受到不同强度的紫外射线辐射。表7列出了这种曝光后的抗蚀剂在0.131M TMAH的含水溶液中的溶解度，该溶液使用AEP/MAK1(0.1wt％；1000ppm)配制，使其表面张力达到44.1dyne/cm。该数据显示出显著的选择性，甚至在这种高灵敏性的抗蚀剂配合物中。
          表7
           AEP/MAK1
  剂量(mL/cm2)   标准化膜的厚度
  3.5   0.99
  5.3   0.98
  8.8   0.97
  12.3   0.92
  15.8   0.83
  19.3   0.74
  24.5   0.51
  31.5   0.40
  40.4   0.21
  50.8   0.10
  63.1   0.01
                       实施例11
对用AEP/MAK1作表面活性剂配成的TMAH显影剂溶液和三种市售的含有表面活性剂的显影剂溶液进行起泡测试。利用泡沫产生装置收集数据，其中氮气通过一种玻璃料并在50ml/min下通过100mL的溶液鼓泡。除了用作接收的市售显影剂溶液以外，含有AEP/MAK1的溶液在水中包含2.4wt％TMAH有足够的表面活性剂使其表面张力降低到约43dyne/cm。结果示于表8。
                        表8-泡沫体积(mL)
  时间(min)   AEP/MAK1   OCG934 3：2a   MF-702b   MF-319b
  0   0   0   0   0
  1   12.4   15.6   39.5   51.1
  2   12.4   17.2   72.6   91.4
  3   12.4   24.2   107.4   135.3
  4   12.4   22.9   156.4   176.8
  5   12.4   22.3   172.8   237.8
  6   12.4   22.0   236.2   275.1
  7   12.4   25.8   287.0   321.3
  8   12.4   25.8   307.6   372.6
  9   12.4   25.5   326.9   416.7
  10   12.4   26.2   301.3   460.6
  11   12.4   26.5   340.2   502.0
  12   12.4   26.9   404.8   544.9
  13   12.4   26.9   438.6   594.7
  14   12.4   26.9   488.6   647.5
  15   12.4   27.3   514.9   681.1
a商购自Olin(现在的Arch Chemical)的显影剂溶液
b商购自Shipley的商标为Microposist的显影剂
表8中的上述数据显示：含有AEP/MAK1作表面活性剂的TMAH显影剂溶液比含有其它类型表面活性剂的商购的显影剂溶液产生的泡沫少得多。令人相当吃惊的是含有C5-C8烷基的烷基化氨基烷基哌嗪在TMAH显影剂溶液中提高了这些材料降低表面张力和降低形成泡沫趋势的能力，同时在光致抗蚀显影领域中能保持良好的对比度。降低到需要的表面张力所需要的烷基化氨基烷基哌嗪的用量减少的同时还能实现这些目标。
                          实施例12
表9的数据表示与用Ross-Miles技术得到的用AEP/MAK1润湿剂在0.262N的TMAH中的溶液相关的低起泡性能。
                           表9
  聚胺   浓度(ppm)   R-M泡沫起始高度(到0高度的时间)
  AEP/MAK1   3000   2.0厘米(3秒)
作为对比，一种有长线性侧链的衍生物-N-十二烷基二亚乙基三胺(DETA/DDA1)在其浓度只有40ppm时起初始泡沫高度是8.3cm，在这个高度上几乎完全稳定5分钟，在第5分钟时的泡沫高度仍然有7.5cm。
在含水系统中的表面活性剂在平衡和动态条件下都能降低表面张力的能力在水基涂料、油墨、胶粘剂、湿润液、农业配合物和光致抗蚀显影剂和电子清洗组合物的性能中非常重要。低的平衡表面张力能使随后的应用具有优秀的性能。低的动态表面张力能在应用的动态条件下提高润湿性和分布性，能使该配合物的使用更为有效，产生的缺陷更少。在水性涂料、油墨、胶粘剂、湿润液、农业的和光致抗蚀显影剂和电子清洗组合物中，一般不希望有泡沫形成，因为它使处理复杂化并导致缺陷或应用无效。本发明的烷基化氨基烷基哌嗪表面活性剂在基本不产生泡沫的同时显示出在含水配合物中显著的降低平衡和动态表面张力的能力。控制泡沫的能力在光致抗蚀显影剂/电子清洗组合物中是特别重要的一个性能。在光致抗蚀显影剂的应用中，本发明在保持良好的对比度的同时能产生这些性能。因此这些材料可望用于含水涂料、油墨、胶粘剂、湿润液、农业配合物和光致抗蚀显影剂和电子清洗配合物。
本发明提供了能降低水基涂料、油墨、胶粘剂、湿润液、农业组合物和光致抗蚀显影剂/电子清洗组合物中的平衡和动态表面张力的组合物。

Claims (21)

1、一种含有表面活性剂的含水光致抗蚀显影剂组合物，其特征在于其包括用下式结构的一种烷基化氨基烷基哌嗪化合物作为表面活性剂：
Figure C001342170002C1
其中R1和R2的其中之一是C5-C14的烷基或环烷基，而另一个是H，或者R1和R2都是C5-C8的烷基，n是2或3，所述烷基化氨基烷基哌嗪化合物的含量为0.001-1g/100mL。
2、权利要求1的显影剂组合物，其中R1和R2的其中之一是C5-C14的烷基或环烷基，而另一个是H。
3、权利要求1的显影剂组合物，其中R1和R2的其中之一是C6-C8的烷基，而另一个是H。
4、权利要求1的显影剂组合物，其中R1和R2都是C5-C8的烷基。
5、权利要求1的显影剂组合物，其中n是2。
6、权利要求3的显影剂组合物，其中n是2。
7、权利要求1的显影剂组合物，其中烷基化氨基烷基哌嗪是氨基乙基哌嗪和甲基异丁基酮的单烷基化产品，氨基乙基哌嗪和甲基异丁基酮的二烷基化产品，氨基乙基哌嗪和甲基戊基酮的单烷基化产品，氨基乙基哌嗪和甲基戊基酮的二烷基化产品，氨基乙基哌嗪和甲基异戊基酮的单烷基化产品或氨基乙基哌嗪和甲基异戊基酮的二烷基化产品。
8、权利要求1的显影剂组合物，其中含有氢氧化四甲铵。
9、权利要求3的显影剂组合物，其中含有氢氧化四甲铵。
10、权利要求7的显影剂组合物，其中含有氢氧化四甲铵。
11、一种通过在光致抗蚀剂表面上应用一种含有降低表面张力的表面活性剂的水基的显影剂溶液使光致抗蚀剂受到辐射后显影的方法，其特征在于其包括用下式结构的一种烷基化氨基烷基哌嗪化合物作为表面活性剂：
Figure C001342170002C2
其中R1和R2的其中之一是C5-C14的烷基或环烷基，而另一个是H，或者R1和R2都是C5-C8的烷基，n是2或3，所述烷基化氨基烷基哌嗪化合物的含量为0.001-1g/100mL。
12、根据权利要求11的方法，其中R1和R2的其中之一是C5-C14的烷基或环烷基，而另一个是H。
13、根据权利要求11的方法，其中R1和R2的其中之一是C6-C8的烷基，而另一个是H。
14、根据权利要求11的方法，其中R1和R2都是C5-C8的烷基。
15、根据权利要求11的方法，其中n是2。
16、根据权利要求13的方法，其中n是2。
17、根据权利要求11的方法，其中烷基化氨基烷基哌嗪是氨基乙基哌嗪和甲基异丁基酮的单烷基化产品，氨基乙基哌嗪和甲基异丁基酮的二烷基化产品，氨基乙基哌嗪和甲基戊基酮的单烷基化产品，氨基乙基哌嗪和甲基戊基酮的二烷基化产品，氨基乙基哌嗪和甲基异戊基酮的单烷基化产品或氨基乙基哌嗪和甲基异戊基酮的二烷基化产品。
18、根据权利要求11的方法，其中含有氢氧化四甲铵。
19、根据权利要求13的方法，其中含有氢氧化四甲铵。
20、根据权利要求17的方法，其中含有氢氧化四甲铵。
21、一种含水电子清洗剂组合物，其特征在于该组合物包括在水中的下列组分：
0.1-3wt％的氢氧化四甲铵，
0-4wt％的酚类化合物；及
10-10000ppm的烷基氨基烷基哌嗪，
该烷基氨基烷基哌嗪化合物的结构为：
Figure C001342170003C1
其中R1和R2的其中之一是C5-C14的烷基或环烷基，优选是C6-C8的烷基，而另一个是H，或者R1和R2都是C5-C8的烷基，n是2或3。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6290762B1 (en) 1996-09-10 2001-09-18 Macdermid-Acumen, Inc. Method of selecting an ink set of an ink jet printer
US6235820B1 (en) * 1999-10-12 2001-05-22 Air Products And Chemicals, Inc. Alkylated aminoalkylpiperazine surfactants
TW558736B (en) * 2000-02-26 2003-10-21 Shipley Co Llc Method of reducing defects
US6855480B2 (en) 2001-04-19 2005-02-15 Shipley Company, L.L.C. Photoresist composition
US7764308B2 (en) 2002-05-27 2010-07-27 Nikon Corporation Image transmission system, image relay apparatus, and electronic image device
EP2261742A3 (en) * 2003-06-11 2011-05-25 ASML Netherlands BV Lithographic apparatus and device manufacturing method.
US20050161644A1 (en) 2004-01-23 2005-07-28 Peng Zhang Immersion lithography fluids
TWI259319B (en) 2004-01-23 2006-08-01 Air Prod & Chem Immersion lithography fluids
US7880860B2 (en) 2004-12-20 2011-02-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20070299176A1 (en) * 2005-01-28 2007-12-27 Markley Thomas J Photodefinable low dielectric constant material and method for making and using same
US20070196773A1 (en) * 2006-02-22 2007-08-23 Weigel Scott J Top coat for lithography processes
US20080264672A1 (en) * 2007-04-26 2008-10-30 Air Products And Chemicals, Inc. Photoimprintable Low Dielectric Constant Material and Method for Making and Using Same

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3007929A (en) * 1959-02-16 1961-11-07 Givaudan Corp Germicidal piperazine derivatives
US4628023A (en) * 1981-04-10 1986-12-09 Shipley Company Inc. Metal ion free photoresist developer composition with lower alkyl quaternary ammonium hydrozide as alkalai agent and a quaternary ammonium compound as surfactant
JPS59182444A (ja) * 1983-04-01 1984-10-17 Sumitomo Chem Co Ltd ポジ型フオトレジストの改良現像液
JPS60131535A (ja) * 1983-12-20 1985-07-13 エッチエムシー・パテンツ・ホールディング・カンパニー・インコーポレーテッド ポジのホトレジスト用のストリツピング組成物
US4828965A (en) * 1988-01-06 1989-05-09 Olin Hunt Specialty Products Inc. Aqueous developing solution and its use in developing positive-working photoresist composition
DE3827567A1 (de) * 1988-08-13 1990-02-22 Basf Ag Waessrige entwicklerloesung fuer positiv arbeitende photoresists
US4997748A (en) * 1988-08-26 1991-03-05 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Developer solution for positive-working resist composition
JP2582901B2 (ja) * 1989-07-31 1997-02-19 富士写真フイルム株式会社 半導体製造用のポジ型フォトレジスト用現像液
US5252436A (en) * 1989-12-15 1993-10-12 Basf Aktiengesellschaft Process for developing a positive-working photoresist containing poly(p-hydroxystyrene) and sulfonium salt with an aqueous developer containing basic organic compounds
US5098478A (en) * 1990-12-07 1992-03-24 Sun Chemical Corporation Water-based ink compositions
JPH0773772B2 (ja) * 1992-10-23 1995-08-09 旭サナック株式会社 圧造機におけるワーク排出装置
JP3062034B2 (ja) 1995-02-23 2000-07-10 株式会社イノアックコーポレーション ヘッドレストの製造方法
US5562762A (en) * 1995-05-17 1996-10-08 Lexmark International, Inc. Jet ink with amine surfactant

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