CN1203375C - 双侧曝光系统 - Google Patents

Abstract

一种双侧曝光系统(1)，其包括第1作业保持装置(21L)，该装置用于保持与曝光掩模(55)相对的基板(P)，以便通过该曝光掩模(55)对基板(P)的第1表面进行曝光；第2作业保持装置(21R)，其用于保持与另一曝光掩模(55)相对的该基板(P)，以便通过该曝光掩模(55)对基板(P)的第2表面进行曝光。可使未曝光的基板的接纳，转移和预处理操作阶段，以及具有一个已曝光表面的基板的接纳，转移和预处理操作阶段错开，以便防止在曝光操作过程中进行等待而造成的时间损失。

Description

双侧曝光系统

技术领域

本发明涉及双侧曝光系统。更具体地说，本发明涉及下述双侧曝光系统，该系统能够通过带有预定图案的、特别是带有一个灯曝光光源的掩模、对例如印刷电路用的基板，引线骨架用的薄板进行曝光。

背景技术

一般来说，在例如制造高密度印刷电路板的工艺中使用超高压水银灯作为曝光光源，以便获得高分辨率。这种类型的水银灯为价格昂贵的灯，其价格高达500000日元。上述工艺要求水银灯连续进行照明，该水银灯的使用期限仅仅为500个小时左右。于是，如果可能，这种类型的曝光系统必须带有一个单个光源，该光源必须以尽可能最高的经济效率来使用；也就是说，需要通过采用在其寿命期限内持续尽可能多的曝光循环的光源，将每个印刷电路板用的基板的曝光费用(光源的运行费用)降低到尽可能最低的程度。

为了提高光源的经济效率，重要的是提高机械机构的操作速度，并且将等待时间，比如曝光等待时间减少到几乎为零，上述机械机构包括用于传送基板的传送机构，用于将基板与曝光掩模对准的对准调整机构。

参照表示申请号为JP特愿平9-343971(JP特开平10-333337)号文献所描述的双侧曝光系统100的图13，用于以可拆卸的方式保持基板(P)的作业保持座101包括分别带有真空垫103的相对表面，该作业保持座101反复在原始位置，即作业接纳机构105和作业输送机构107之间的虚线所示的位置，以及曝光位置，即分别保持曝光掩模113的两个掩模保持机构109L和109R之间的实线所示的位置之间移动。

汞弧灯111，即光源发出的光通过左侧光路传送，落到通过左侧掩模保持机构109L保持的曝光掩模113的后表面上，或上述光通过右侧光路传送，落到通过右侧掩模保持机构109R保持的曝光掩模113的后表面上。图中未示出的光路选择机构将汞弧灯有选择地与左侧光路，或右侧光路连通。上述作业接纳机构105调节供给的未曝光的基板P的位置以便实现预备定位，将基板P转移到位于原始位置上的作业保持座101中的，图13所示的左侧表面上的真空垫103上。当保持未曝光的基板P的作业保持座101到达处于曝光位置的左侧表面上时，左侧掩模保持机构109L前进而使曝光掩模113与基板P相接触，从而曝光掩模113与基板P对准。在曝光掩蔽模113精确地与基板P对准之后，上述曝光掩模113与基板P固定接触。之后，进行曝光循环以便通过掩模113，对基板P的第1表面，即其中的一个表面进行曝光。

在曝光循环完成之后，将左侧掩模保持机构109L从基板P上取下，左侧掩模保持机构109L退回，左侧转移臂115L保持基板P，将其转移给右侧转移臂115R。同时，作业保持座101返回到原始位置，之后再次移动到曝光位置。接着，右侧转移臂115R将基板P转移给右侧真空垫103，右侧掩模保持机构109R前进而与基板P相接触，从而曝光掩模113与基板P对准。在曝光掩模113精确地与基板P对准之后，上述曝光掩模113与基板P固定地接触。之后，进行曝光循环以便通过曝光掩模113，对基板P的第2表面，即另一表面进行曝光。于是，完成对基板P的两个表面的曝光。

在曝光循环完成后，从基板P上取下右侧掩模保持机构109R，右侧掩模保持机构109R退回，作业保持座101返回到原始位置。之后，左侧真空垫103从作业接纳机构105接纳未曝光的基板P，作业供给机构107从右侧真空垫103接纳经双侧曝光的基板，并输送该基板。

图14A为表示已有技术的双侧曝光系统100中的程序操作的时序图。在图14A中，时间在水平轴线以秒计算。一般来说，曝光时间约为3秒或更小。在该时序图中，曝光时间为3秒，循环时间，即进行从开始接纳未曝光的基板P，到开始接纳下一未曝光的基板的程序操作所需的时间为22秒。从图14A可知，当双侧曝光系统100的曝光时间为3秒时，在基板P的第1表面的曝光完成与开始基板P的第2表面的曝光之间，几乎没有等待时间。

敷设于基板P上的一些抗蚀剂要求较长的曝光时间。当需要较长的曝光时间时，即使在完成用于曝光的机械机构的预备操作的情况下，在完成对基板P的第1表面曝光的曝光操作之前，仍不能开始进行用于对基板的第2表面曝光的曝光操作，从而产生时间损失。

图14B为表示已有技术双侧曝光系统100的程序操作的时序图，其中对于基板P的两个表面，曝光时间为8秒。在此场合，完成基板P的第2表面的曝光预备操作与开始用于对第2表面进行曝光的曝光操作的曝光操作之间的等待时间为5.5秒，完成将基板P从作业保持座101的左侧转移给其右侧与开始将作业保持座101转移给原始位置之间，即用于对基板P的第2表面进行曝光的操作与后续操作之间的等待时间为5.5秒。因此，循环时间长达32秒，该时间为图14A所示的操作所需的循环时间的1.5倍，于是灯111的运行费用陡然地增加到接近图14A所示的操作所需的运行费用的1.5倍。

发明内容

本发明是针对上述问题而提出的，本发明的目的在于提供一种双侧曝光系统，即使在曝光时间增加的情况下，该系统仍能够控制时间损失的大量增加。

针对上述的目的，本发明提供一种双侧曝光系统，其用于通过一对分别带有所需曝光图案的曝光掩模，对板的一对相对的侧表面进行曝光，上述双侧曝光系统包括：第1掩模保持机构，其保持用于对板的第1表面进行曝光的第1曝光掩模；第1作业保持座，其能够在第1掩模保持机构的前部的第1曝光位置，以及其上设置有未曝光的板的第1原始位置之间移动；第2掩模保持机构，其保持用于对板的第2表面进行曝光的第2曝光掩模；第2作业保持座，其能够在第2掩模保持机构的前部的第2曝光位置，以及从其上取下经两侧曝光的板的第2原始位置之间移动；一个单个光源；光路选择光学系统，其用于有选择地将光源与指向第1曝光位置的第1光路，或指向第2曝光位置的第2光路连接；作业转移机构，其能够从第1作业保持座，接纳具有在第1曝光位置进行了曝光的第1表面的板，并且将该板转移给第2作业保持座，从而可对该板的第2表面进行曝光。

按照本发明，上述双侧曝光系统带有两个作业保持座，即专门用于对上述板的第1表面进行曝光的第1作业保持座和专门用于上述板的第2表面进行曝光的第2作业保持座。接纳、传送未曝光的板，对板的其中一个表面进行曝光的操作和预备步骤的阶段可相对对具有经曝光的表面的板进行传送，对板的另一表面进行曝光的操作和预备步骤的阶段转移。于是，第1处理机构(第1掩模保持机构和第1作业保持座)的操作阶段，以及第2处理机构(第2掩模保持机构和第2作业保持座)的操作阶段可相互转移，从而第2处理机构可进行曝光操作，而第1处理机构进行非曝光操作的操作。于是，即使在采用一个光源的情况下，仍可确实防止因等待曝光操作造成的时间损失。

通过下述方式，可防止因用于作业保持座的移动的时间间隔造成的时间损失，以及等待曝光造成的时间损失，该方式为：对上述部件的操作进行计时，从而在第1处理机构的曝光操作完成之后，在第2作业保持座到达第2曝光位置之前，作业转移机构能够将具有一个经曝光的表面的板安装到第2作业保持座上。

在本发明的双侧曝光系统中，最好上述第1作业保持座能够至少在对板的其中一个表面进行曝光的曝光操作过程中，沿竖向位置保持该板，第2作业保持座能够至少在对板的另一表面进行曝光的曝光操作过程中，沿竖向位置保持该板。

当第1和第2作业保持座能够沿竖向位置保持上述板时，可对曝掩模和保持在竖向位置的板进行曝光操作，这样便有效地防止灰尘粘附于板的表面上而造成的不良曝光。

在本发明的双侧曝光系统中，最好第1和第2掩模保持机构相对设置，在下述空间，上述作业转移机构将上述板从第1作业传送装置转移给第2作业传送装置，该空间指相对设置的第1掩模保持机构和第2掩模保持机构之间的空间，其中至少第1作业保持座和第2作业保持座中的一个设置在其原始位置。

于是，转移板的任何专门空间几乎是不需要的，因此可以较小的结构形成双侧曝光系统。

附图说明

根据参照附图进行的下面的描述，更加容易得出本发明的上述和其它目的，特征和优点。

图1为本发明的优选实施例的双侧曝光系统的剖面前视图，在该图中外壳局部剖开；

图2为图1所示的双侧曝光系统的主要部分的平面图；

图3为图1所示的双侧曝光系统的主要部分的透视图；

图4为用于说明图1所示的双侧曝光系统中的左侧作业升降器的未曝光基板接纳操作的示意性前视图；

图5为用于说明图1所示的双侧曝光系统中的第1处理机构的曝光操作的示意性前视图；

图6为用于说明图1所示的双侧曝光系统中的左侧转移臂的基板接纳操作的示意性前视图；

图7为用于说明图1所示的双侧曝光系统中的，在左右转移臂之间传递基板的作业传递操作的示意性前视图；

图8为用于说明图1所示的双侧曝光系统中的第1处理机构的曝光操作和右侧作业升降器的基板安装操作的示意性前视图；

图9为用于说明图1所示的双侧曝光系统中的左侧转移臂的基板接纳操作和第2处理机构的曝光操作的示意性前视图；

图10为用于说明图1所示的双侧曝光系统中的，第2处理机构的同步曝光操作和左右侧转移臂之间的转移操作的示意性前视图；

图11为用于说明图1所示的双侧曝光系统中的，第1处理机构的曝光操作和经双侧曝光的基板去除操作的示意性前视图；

图12为表示通过图1所示的双侧曝光系统进行的程序操作的时序图；

图13为已有技术的双侧曝光系统的主要部分的示意性前视图；

图14A和14B为表示图13所示的已有技术的双侧曝光系统的程序操作的时序图。

具体实施方式

下面参照图1～3，对用于通过曝光法对用于形成印刷电路板的基板进行处理的本发明的优选实施例的双侧曝光系统1的结构进行描述。

在图1中，假定纸的这一侧为前侧，纸的另一侧为后侧，图的左侧为左侧，图的右侧为右侧。参照图1～3，类似于墙的基板5沿竖向设置于外壳3的内部的中间区域，以便在基板5的后面形成光学系统腔7。水平隔板9在上述空间的高度中间位置，设置于基板5的前部空间。隔板9下面的空间用作接纳/输送腔11，隔板9上面的空间用作曝光腔13。在隔板9的中间部形成有孔9a。上述接纳/输送腔11和曝光腔13通过该孔9a连通。作业进口15和作业出口17分别形成于外壳3的左右侧壁上。左侧作业升降器(第1作业保持装置)21L和右侧作业升降器(第2作业保持装置)21R设置于外壳3中，以便沿竖向穿过上述孔9a移动。左侧掩模保持机构(第1掩模保持机构)23L和右侧掩模保持机构(第2掩模保持机构)23R分别设置于曝光腔13中的、左侧作业升降器21L和右侧作业升降器21R的路径的外侧。左侧作业升降器21L和左侧掩模保持机构23L构成第1处理机构25L。右侧作业升降器21R和右侧掩模保持机构23R构成第2处理机构25R。第1处理机构25L主要用于对用于形成印刷电路板的基板P的第1表面进行曝光，第2处理机构25R主要用于对上述基板P的第2表面进行曝光。

加载装置27设置于接纳/输送腔11中的左侧区域的，作业升降器21L的左侧。接纳传送器29具有面对作业进口15的左端。通过图中未示出的，在外壳3的左侧延伸的进给传送器将基板P经作业进口15供给到接纳传送器29。该基板P具有相对表面，该相对表面分别涂敷可被紫外线硬化的抗蚀膜。该基板P通过图中未示出的驱动辊从接纳传送器29传送到加载装置27上，该辊设置于接纳传送器29中。上述加载装置27具有通过吸力将基板P保持在加载台上的保持功能，另外具有调整基板P的前缘的位置而与预对准传感器31(图1)相配合的对准功能。在通过预先对准而使基板P正确地设置于加载装置27上之后，加载装置27旋转角度90°而位于图1中的双点划线所示的位置，并且沿水平方向移动。该加载装置27支承于从基板5向前伸出的轴33上。该轴33支承于图中未示出的移动机构上，该移动机构设置于基板5的后侧，并且能够沿侧向移动。

卸载装置35设置于作业升降器31R的路径的右侧，供给传送器37设置于卸载装置35的右侧。该卸载装置35具有顶面，当需要时，可通过图中未示出的真空装置在该顶面产生真空。该卸载装置35可设置于图1中的实线所示的水平位置，可从水平位置旋转90°而到达其顶面朝向左侧的竖向位置。该卸载装置35支承于相对基板5向前伸出的轴33’上。该轴33’支承于图中未示出的移动机构上，该移动机构设置于基板5的后侧，能够沿侧向移动。

释放传送器37包括朝向作业出口17的右端。当保持基板P的右侧作业升降器21R下降到原始位置时，位于竖向位置的上述卸载装置35从右侧作业升降器21R接纳基板P，之后该卸载装置35旋转到水平位置。通过驱动辊，将该基板P从卸载装置35转移到释放传送器37上，该驱动辊在图中未示出，并且设置于卸载装置35中。该释放传送器37使基板P穿过作业出口17，转移给图中未示出的传送器，以便将该基板P传送到下一步骤，比如显影步骤。

如图2所示，沿侧向，在基板5的后面的中间部连接有一对保持平行的右侧竖向导轨36，以及一对保持平行的左侧竖向导轨36。滑动座39分别沿左右侧竖向导轨36滑动。水平臂41分别穿过形成于基板5中的槽5a而相对滑动座39向前伸出。上述作业升降器21L和21R分别与水平臂41的前端固定。

上述作业升降器21L和21R能够通过吸力将基板P保持在竖向位置，并且沿竖向移动。虽然在图中上述作业升降器21L和21R是按典型方式以简单的矩形平板示出的，但是实际上，每个作业升降器21L和21R具有呈竖向壁形状的移动座；真空垫，该真空垫上设置有多个抽吸孔，真空垫与一个侧面固定，即与移动座中的，左侧作业升降器21L的左侧面或右侧作业升降器的右侧面固定；真空系统，该真空系统与上述真空垫连接。基板P可以拆卸的方式通过吸力保持在真空垫上。

上述滑动座39分别通过因图中未示出的伺服马达的旋转而驱动的滚珠螺旋而被移动，以便使作业升降器21L和21R沿竖向穿过隔板9中的孔9a。上述作业升降器21L和21分别在加载装置27和卸载装置35之间的，图1中的实线所示的原始位置，以及掩模保持机构23L和23R之间的，图1中的双点划线所示的曝光位置之间移动。

如图2所示，水平导轨45与竖向导轨36的左右侧上的基板5的后表面的一部分固定，以便沿侧向延伸。滑动座47沿水平导轨45滑动。臂49分别穿过形成于基板5上的孔5b而相对滑动座47向前水平伸出。每个滑动座47上设置有图中未示出的滚珠螺旋、即螺母，螺杆53通过滚珠轴承与螺母连接。上述螺杆53通过伺服马达51的旋转而驱动。使上述螺杆53旋转从而使滑动座47沿侧向移动。掩模保持机构23L(23R)在与作业升降器21L(21R)的路径间隔开的后部位置，以及下述前部位置之间移动，在该前部位置，通过掩模保持机构23L(23R)保持的掩模与保持在作业升降器21L(21R)上的基板P相接触。虽然掩模保持机构23L和23R在附图中是按照典型方式以简单的矩形平板示出的，但是实际上，每个掩模保持机构23L和23R具有矩形座；对准机构，该机构与一个测面固定，即与上述座中的，左侧掩模保持机构23L的右侧面，或右侧掩模保持机构23R的左侧面固定；曝光掩模55，其由图3中的点所示；检测对准误差的照相机。对上述对准机构中的竖向平面的位置进行调整，以便精细地调整曝光掩模55的位置。

上述曝光掩模55带有预定的透明图案，光掩模标记(未示出)形成于预定位置。上述光掩模标记相对形成于基板P中的参照孔的对准度是通过上述照相机测定的，以便使曝光掩模55与基板P对准。

在外壳3中的光学系统腔7的底部中间区域设置有一个灯(光源)61。该灯61为汞弧灯。该灯61向正上方发出光。半透明的可旋转反射镜(光路选择光学系统)63设置于上述灯61的上方。可旋转的反射镜63可设置于图中的虚线所示的第1位置，以便将由灯61发出的光朝向左侧反射；图1中的双点划线表示的第2位置，以便将由灯61发出的光朝向右侧或中间位置、即水平位置反射。

照明反射镜65L设置于左侧掩模保持机构23L的左侧，照明反射镜65R设置于掩模保持机构23R的右侧。反射镜67设置于光学系统腔7中的左右端。复眼(自由眼)透镜69分别设置在一个反射镜67和可旋转的反射镜63之间，以及另一反射镜67和可旋转的反射镜63之间。在可旋转的反射镜63设置于第1位置的状态，灯61发出的光通过左侧反射镜67和左侧照明反射镜65L朝向曝光掩模55反射，该曝光掩模55通过左侧掩模保持机构23L保持。在可旋转的反射镜63设置于第2位置的状态，灯61发出的光通过右侧反射镜67和右侧照明反射镜65R朝向曝光掩模55反射，该掩模55通过右侧掩模保持机构23R保持。

当保持基板P的左侧作业升降器21L位于曝光位置，并且可旋转的反射镜63旋转而设置于第1位置时，左侧曝光掩模55与基板P的第1表面相接触，该基板P的第1表面通过左侧曝光掩模曝露在灯61发出的光下，从而在基板P的第1表面上形成左侧曝光掩模的曝光图案的潜像。当保持基板P的右侧作业升降器21R位于曝光位置，并且可旋转的反射镜63旋转而设置于第2位置时，右侧掩模55与基板P的第2表面相接触，基板P的第2表面通过右侧曝光掩模55曝露在灯61发出的光下，从而在基板P的第2表面上形成右侧曝光掩模55的曝光图案的潜像。

参照图3，转移机构75L和75R分别具有转移臂77L和77R，以及滑动座79。顶部基板71位于基板5上，导轨73在顶部基板71上沿侧向延伸。滑动座79呈长条的平板状，其朝向前方沿水平方向延伸，并且具有以可滑动的方式支承于导轨73上的后端部。左侧滑动座79通过气动驱动器81沿侧向移动较短的距离(图1)，右侧滑动座79通过因伺服马达83旋转而驱动的滚珠螺旋85而沿侧向移动较长的距离。转移臂驱动机构87分别与滑动座79的前端部连接。转移臂驱动机构87分别设置有平行连杆89。转移臂77L和77R分别与平行连杆89中的操作端连接。转移臂77L(77R)为空心结构，该结构具有带抽吸凸部的相对侧边部件。转移臂77L和77R中的空腔与图中未示出的抽吸机构连通。当将上述空腔排空时，在抽吸凸部的顶表面上产生负压。

平行连杆89可在该平行连杆89沿水平方向向前延伸的水平位置，以及该平行连杆89沿竖向向下延伸的竖向位置之间旋转以90°。当平行连杆89旋转时，保持在水平位置的转移臂77L和77R沿竖向在高出图3所示的掩模保持机构23L和23R的位置的等待位置，以及稍高出图1所示的掩模保持机构23L和23R中的中间部的位置的较低位置之间移动。

下面参照图4～12对双侧曝光系统1的操作进行描述。图4～11为用于说明双侧曝光系统1的时间程序操作的图，图12为表示双侧曝光系统1的程序操作的时序图。在初始操作阶段，仅仅第1处理机构25L操作，图12中的星号(※)表示的操作不进行，直至第1处理机构25L完成第1曝光循环。在图12中，竖向虚线之间的间距与1秒相对应。

在初始状态，作业升降器21L和21R分别位于其原始位置，掩模保持机构23L和23R分别保持在后部位置，加载装置27和卸载装置35保持在水平位置，其中其顶面朝上，转移臂77L和77R分别位于其等待位置。可旋转的反射镜63设置于中间位置。当双测曝光系统1启动时，灯61打开。灯61保持打开，直至双侧曝光系统停止。之后，将基板P传送给接纳传送器29，将基板P从接纳传送器29转移给加载装置27，对该基板P在加载装置27上的位置进行调节以便实现预先对准。接着，如图4所示，将加载装置27设置于竖向位置，使其朝向作业升降器21L移动，从而通过吸力使作业升降器21L保持基板P(图12中的“接纳”)。

保持基板P的左侧作业升降器21L上升到图4中的双点划线所示的曝光位置(图12中的“上升”)。之后，加载装置27回到原始位置，进行接纳基板P的处理，保持等待状态，直至左侧作业升降器21L下降到等待位置。

当左侧作业升降器21L下降到曝光位置时，基板P的第1表面位于与左侧掩模保持机构23L相对的位置。然后，左侧掩模保持机构23L移动到前方位置(图12中的“前进”)，从而曝光掩模55与基板轻轻接触，并且与基板P对准(图12中的“对准”)。接着，曝光掩模55与基板P紧密接触(图12中的“接触”)。之后，可旋转的反射镜63旋转而位于第1位置(图12中的“第1位置”)。因此，灯61发出的紫外线辐射穿过图5所示的基板P的第1表面上的，通过掩模保持机构23L保持的曝光掩模55(图12中的“曝光”)。在紫外线对基板P的第1表面辐射所需时间，比如8秒之后，可旋转的反射镜63返回而位于中间位置，将该曝光掩模55从基板P去除(图12中的“脱离”)，然后左侧掩模保持机构23L退回到后部位置(图12中的“退回”)。

接着，左侧转移臂77L通过底部位置而向右移动，通过吸力保持基板P，移动到图6所示的底部位置(图12中的“转移”)。这样将具有经曝光的第1表面的基板P从左侧作业升降器21L转移到左侧转移臂77L上。然后，左侧作业升降器21L下降到图6中的双点划线所示的原始位置(图12中的“下降”)。左侧作业升降器21L在原始位置，从加载位置27接纳下一基板P。

同时，在左侧作业升降器21L到达原始位置之后，右侧转移臂77R移动到等待位置的左侧，并且下降到底部位置，从而从右侧，朝向通过左侧转移臂77L保持的基板P。接着，基板P从左侧转移臂77L转移到右侧转移臂77R(图12中的“转移”)。然后，保持基板P的右侧转移臂77R水平移动到，位于左侧作业升降器21L和右侧作业升降器21R之间的，图7中的双点划线所示的位置。右侧转移臂77R在上述位置处于等待状态(图12中的“接纳和等待”)。

接着，第1处理机构25L反复进行上升操作，前进操作，对准操作和曝光操作。同时，在第1处理机构25L开始对准操作之后，右侧转移臂77R马上移动到右侧作业升降器21R和掩模保持机构23R之间的位置(图12中的“向右移动”)。开始进行对准操作的时间与在第2和下面的曝光循环中右侧作业升降器21R完成从曝光位置到原始位置的移动的时间相对应。然后，右侧作业升降器21R上升到曝光位置(图12中的“上升”)。

接着，右侧转移臂77R向左移动，将具有已曝光第1表面的基板P转移给右侧作业升降器21R，并且该右侧作业升降器21R通过吸力保持该基板P，如图8所示(图12中的“固定”)。该基板P通过吸力保持在右侧作业升降器21R上，其中该基板P的第2表面朝向右侧；也就是说，在将基板P从左侧作业升降器21L转移给右侧作业升降器21R的过程中，将基板P插入。然后，右侧转移臂77R返回到等待位置。

当第1处理机构25L处于曝光位置，第2处理机构25R中的右侧掩模保持机构23R移动到前方位置(图12中的“前进”)，从而使曝光掩模55与基板P的第2表面轻轻接触，掩模55与基板P对准(图12中的“对准”)。刚好在对准操作完成之前，第1处理机构25L完成曝光操作，可旋转的反射镜63旋转而位于中间位置。

在第2处理机构25R中，在完成对准操作之后，通过右侧掩模保持机构23R保持的曝光掩模55与基板P紧密接触(图12中的“紧密接触”)。然后，可旋转的反射镜63旋转而位于第2位置(图12中的“第2位置”)，从而使灯61发出的紫外线，穿过通过右侧掩模保持机构23R保持的曝光掩模，对基板P的第2表面进行辐射(图12中的“曝光”)，如图9所示。在第1处理机构25L中，具有通过曝光操作而曝光的第1表面的基板P从作业升降器21L转移给转移臂77L，作业升降器21L向下移动到原始位置以便接纳下一基板P。

当第2处理机构25R处于曝光操作时，右侧转移臂77R从左侧转移臂77L接纳具有已曝光处理的第1表面的基板P，如图10所示。

接着，第1处理机构25L中的作业升降器21L提高以便实现“上升”，对掩模保持机构23L进行操作以便实现“前进”和“对准”，第2处理机构25R完成曝光操作，掩模保持机构23R撤回而实现“退回”，作业升降器21R移动到原始位置，卸载装置35从作业升降器21R接纳具有已曝光处理的相对表面的基板P，如图11所示。通过释放传送器37将由此处理的基板P传送到外壳3的外侧。然后，反复进行与图8，9，10有关的上述的操作。

从图12中的时序图显然知道，没有不进行任何操作的任何空闲时间。图12所示的曝光操作的循环时间为26.5秒，该时间比下述循环时间少17％，该下述循环时间指其中的曝光时间为8秒的已有曝光系统100的，图14B示的曝光操作的32秒的循环时间。换言之，虽然一个表面的曝光时间相对3秒增加了5秒，并且两个表面的曝光时间增加10秒，但是两个表面的增加时间可限制在4.5秒(吸收了图14A中的0.5秒的时间损失)。

虽然按照应用于对基板的两个表面上形成的抗蚀膜进行曝光的双侧曝光系统的方式对本发明进行了描述，但是本发明不限于其具体的应用场合，本发明可用于各种类型的双侧曝光系统，该系统用于对两个板状表面进行曝光，该表面是通过带有预定的曝光图案的曝光掩模进行曝光的。

虽然上述的本发明的双侧曝光系统带有沿竖向移动的升降器，但是本发明可用于带有与作业升降器相对应的，并且用于沿水平方向移动的作业保持机构的双侧曝光系统。

虽然通过具体的优选实施例对本发明进行了描述，但是显然许多改进和变换是可能的。于是应知道，本发明可在不离开本发明的请求保护范围和实质的情况下，以非上面的具体描述的方式实施。

Claims (5)

1.一种双侧曝光系统(1)，用于通过一对分别带有所需曝光图案的曝光掩模(55，55)，对板(P)的一对相对的侧表面进行曝光，其特征在于，上述双侧曝光系统(1)包括：

第1掩模保持机构(23L)，其保持用于对板(P)的第1表面进行曝光的第1曝光掩模(55)；

第1作业保持装置(21L)，其适用于在第1掩模保持机构(23L)的前部的第1曝光位置和第1作业保持装置(21L)上安装未曝光的板(P)的第1原始位置之间移动；

第2掩模保持机构(23R)，其保持用于对板(P)的第2表面进行曝光的第2曝光掩模(55)；

第2作业保持装置(21R)，其适用于在第2掩模保持机构(23R)的前部的第2曝光位置和从所述第2作业保持装置(21R)上取下两侧已曝光的板(P)的第2原始位置之间移动；

一个光源(61)；

光路选择光学系统(63)，用于有选择地将光源(61)与指向第1曝光位置的第1光路，或指向第2曝光位置的第2光路连接；以及

作业转移机构，其适用于从第1作业保持装置(21L)，接纳具有在第1曝光位置进行了曝光的第1表面的板(P)，并且将该板(P)转移给第2作业保持装置(21R)，从而对该板(P)的第2表面进行曝光。

2.根据权利要求1所述的双侧曝光系统，其特征在于第1作业保持装置(21L)在对板(P)的第1表面进行曝光的曝光操作过程中，沿竖向位置保持该板(P)。

3.根据权利要求1所述的双侧曝光系统，其特征在于第2作业保持装置(21R)在对板(P)的第2表面进行曝光的曝光操作过程中，沿竖向位置保持该板(P)。

4.根据权利要求1所述的双侧曝光系统，其特征在于第1掩模保持机构(23L)和第2掩模保持机构(23R)相对设置，上述转移机构包括第1作业传送装置(75L)和第2作业传送装置(75R)，在下述空间，上述作业转移机构将上述板(P)从第1作业传送装置(75L)转移给第2作业传送装置(75R)，该空间指相对设置的第1掩模保持机构(23L)和第2掩模保持机构(23R)之间的空间，其中第1作业保持机构(21L)和第2作业保持机构(21R)中的至少一个设置于其原始位置。

5.根据权利要求1所述的双侧曝光系统，其特征在于上述板为用于制造印刷电路板的基板，所述基板具有一对分别涂敷有抗蚀剂膜的相对的侧表面。

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