CN118201881A - 多级反渗透膜处理系统 - Google Patents

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Abstract

纯水制造装置(1)具有储存被处理水(W0)的储存槽(2)和与该储存槽(2)连接的通水配管(3)，在该通水配管(3)中依次设置有送液泵(4)、每1MPa有效压力的透过通量为0.8m3/(m2·天)以上的第二反渗透膜(5)、每1MPa有效压力的透过通量为2.0m3/(m2·天)以上的第一反渗透膜(6)和离子交换装置(7)。在第一反渗透膜(6)的前级连接有NaOH水溶液添加机构(8)，通过控制机构能够根据通水配管(3)的流量和被处理水(W0)的pH来控制NaOH溶液的添加量，以使第一反渗透膜(6)的被处理水(W0)达到规定的pH。而且，由第二反渗透膜(5)、第一反渗透膜(6)以及NaOH水溶液添加机构(8)构成多级反渗透膜处理系统。如果是这样的多级反渗透膜处理系统，则能够在抑制运转能量的同时获得规定水平的水质的处理水。

Description

多级反渗透膜处理系统
技术领域
本发明涉及多级反渗透膜处理系统，特别是，涉及能够在抑制运转能量的同时获得规定水平的水质的处理水的多级反渗透膜处理系统。
背景技术
以往，作为半导体装置的制造工序或液晶显示装置的制造工序中的清洗水等的用途，使用高度去除了有机物、离子成分、微粒、细菌等的超纯水等纯水。在这样的纯水的制造中，由于通用性高，容易得到规定的水质，所以使用在串联连接两级以上的反渗透膜(RO膜)的多级反渗透膜处理系统的后级配置有离子交换装置的纯水制造装置。然而，由于反渗透膜的耗电量大，所以不一定适合近年来的节能的要求。
在该反渗透膜中，根据膜面有效压力、透过通量等，分别存在各种性能的反渗透膜，尝试组合不同性能的反渗透膜。例如，在专利文献1中提出了一种反渗透膜处理系统，所述反渗透膜处理系统具有：第一反渗透膜处理机构，使被处理水通入第一反渗透膜而得到第一透过水和第一浓缩水；以及第二反渗透膜处理机构，至少使所述第一透过水通入第二反渗透膜而得到第二透过水和第二浓缩水，所述第二反渗透膜的每1MPa有效压力的透过通量比所述第一反渗透膜的每1MPa有效压力的透过通量低，并且所述第二反渗透膜的每1MPa有效压力的透过通量为0.5m3/m2/天以下。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2018-79451号公报。
发明内容
发明要解决的课题
然而，专利文献1中记载的反渗透膜处理系统是以通过去除透过水中的IPA(异丙醇)来提高水质为目的，存在抑制运转能量的效果低的问题点。因此，虽然考虑组合使用运转能量少的反渗透膜，但是由此产生难以得到充分去除了硼或二氧化硅等弱酸性离子种类的处理水的问题点。
如此地，以往，没有能够在抑制运转能量的同时充分去除硼或二氧化硅等弱酸性离子种类的反渗透膜处理系统，即没有兼顾对运转能量的抑制和水质的反渗透膜处理系统。
本发明是鉴于上述课题而完成的，其目的在于，提供一种能够在抑制运转能量的同时获得规定水平的水质的处理水的多级反渗透膜处理系统。
解决课题的技术方案
鉴于上述目的，本发明提供一种多级反渗透膜处理系统，所述多级反渗透膜处理系统是串联配置两级以上的反渗透膜的多级反渗透膜处理系统，其中，所述两级以上的反渗透膜中的至少任意一者为每1MPa膜面有效压力(水温25℃，纯水(反渗透膜(RO)透过水))的透过通量为2.0m3/(m2·天)以上的反渗透膜(以下，称为第一反渗透膜)，将所述第一反渗透膜的被处理水的pH调整到碱性侧进行处理。
根据上述发明(发明1)，在具有离子交换装置的纯水制造系统中，来自供水的硼或二氧化硅等弱酸性离子种类在离子交换装置中难以去除，容易发生硼或二氧化硅的泄漏。因此，在该离子交换装置前设置多级反渗透膜，由此纯水制造系统的运转能量变大。因此，在本发明1中，通过使用每1MPa膜面有效压力的透过通量大(相同透过通量条件下的膜面有效压力小)的反渗透膜(第一反渗透膜)，与仅由透过通量比其更小的反渗透膜构成多级反渗透膜处理系统的情况相比，能够大幅(例如20％以上)削减运转能量。然后，通过将该第一反渗透膜的供水(被处理水)的pH调整到碱性侧进行处理，能够将硼或二氧化硅去除率维持在规定的水平以上。由此，能够兼顾对运转能量的抑制和水质。
在上述发明(发明1)中，优选的是，将所述第一反渗透膜串联配置两级，将该第一反渗透膜中的任意一者的被处理水的pH调整到碱性侧进行处理(发明2)。
根据上述发明(发明2)，通过将膜面有效压力低的第一反渗透膜串联连接两级而构成多级反渗透膜处理系统，能够进一步削减运转能量。
另外，在上述发明(发明1)中，也可以串联配置每1MPa膜面有效压力(水温25℃，纯水(RO透过水))的透过通量为0.8m3/(m2·天)以上的反渗透膜(以下，称为第二反渗透膜)和所述第一反渗透膜，将该第一反渗透膜的被处理水的pH调整到碱性侧进行处理(发明3)。
根据上述发明(发明3)，通过组合每1MPa膜面有效压力的透过通量大的第一反渗透膜和透过通量比其更小的反渗透膜，能够在一定程度上抑制运转能量的同时提高硼或二氧化硅的去除率。
另外，在上述发明(发明1～3)中，优选的是，所述多级反渗透膜处理系统的被处理水的水质为硼浓度1～500μg/L和/或二氧化硅浓度1～50mg/L(发明4)。
根据上述发明(发明4)，通过使用多级反渗透膜处理系统处理上述硼浓度、二氧化硅浓度的被处理水，能够以95％以上的高水平去除处理水中的硼、二氧化硅。
发明效果
根据本发明的多级反渗透膜处理系统，通过使用每1MPa有效压力的透过通量远大于通用的反渗透膜的第一反渗透膜，与仅组合透过通量比其更低的反渗透膜的情况相比，能够大幅(例如20％以上)消减运转能量。进一步，通过将该第一反渗透膜的供水的pH调整到碱性侧进行处理，能够将硼或二氧化硅的去除率维持在规定的水平以上。由此，能够提供兼顾对运转能量的抑制和水质的多级反渗透膜处理系统。
附图说明
图1是表示使用本发明的第一实施方式的多级反渗透膜处理系统的纯水制造装置的流程图。
图2是表示使用本发明的第二实施方式的多级反渗透膜处理系统的纯水制造装置的流程图。
图3是表示使用本发明的第三实施方式的多级反渗透膜处理系统的纯水制造装置的流程图。
图4是表示使用比较例1的多级反渗透膜处理系统的纯水制造装置的流程图。
图5是表示使用比较例2的多级反渗透膜处理系统的纯水制造装置的流程图。
图6是表示使用比较例3的多级反渗透膜处理系统的纯水制造装置的流程图。
具体实施方式
下面，参照附图对本发明的多级反渗透膜处理系统进行说明。
[第一实施方式]
(纯水制造装置)
图1示出了使用本发明的第一实施方式的多级反渗透膜处理系统的纯水制造装置。在图1中，纯水制造装置1具有储存作为原水的被处理水W0的储存槽2和与该储存槽2连接的通水配管3，在该通水配管3中依次设置有送液泵4、第二反渗透膜5、第一反渗透膜6和离子交换装置7。在该第一反渗透膜6的前级连接有作为碱添加机构的NaOH水溶液添加机构8，通过未图示的控制机构，能够根据通水配管3的流量和被处理水W0的pH来控制NaOH溶液的添加量，以使第一反渗透膜6的被处理水成为碱区域。而且，由第二反渗透膜5、第一反渗透膜6以及NaOH水溶液添加机构8构成多级反渗透膜处理系统。
(反渗透膜)
在本说明书中，第一反渗透膜～第三反渗透膜分别具有如下所述的性能。需要说明的是，虽然也存在每1MPa膜面有效压力的透过通量比上述第一反渗透膜～第三反渗透膜更小的反渗透膜，但针对于此，是指一般的反渗透膜。
<第一反渗透膜>
·膜面有效压力为0.3MPa(水温25℃，纯水(RO透过水))条件下的透过通量(flux)为0.6m3/(m2·天)以上，每1MPa膜面有效压力(水温25℃，纯水(RO透过水))的透过通量为2.0m3/(m2·天)以上；
·盐去除率：95％以上(膜面有效压力0.3MPa(水温25℃，供水500mg/L，以NaCl计)；
·IPA去除率：60％以上(膜面有效压力0.3MPa(水温25℃，供水500mg/L，以IPA计)。
<第二反渗透膜>
·膜面有效压力为0.75MPa(水温25℃，纯水(RO透过水))条件下的透过通量(flux)为0.6m3/(m2·天)以上，每1MPa膜面有效压力(水温25℃，纯水(RO透过水))的透过通量为0.8以上且小于2.0m3/(m2·天)；
·盐去除率：98％以上(膜面有效压力0.75MPa(水温25℃，供水500mg/L，以NaCl计)；
·IPA去除率：80％以上(膜面有效压力0.75MPa(水温25℃，供水500mg/L，以IPA计)。
<第三反渗透膜>
·膜面有效压力为2.0MPa(水温25℃，纯水(RO透过水))条件下的透过通量(flux)为0.6m3/(m2·天)以上，每1MPa膜面有效压力(水温25℃，纯水(RO透过水))的透过通量为0.3以上且小于0.8m3/(m2·天)；
·盐去除率：99％以上(膜面有效压力2.0MPa(水温25℃，供水500mg/L，以NaCl计)；
·IPA去除率：90％以上(膜面有效压力2.0MPa(水温25℃，供水500mg/L，以IPA计)。
(离子交换装置)
在本实施方式中，作为离子交换装置7，只要具有去除被处理水中离子性的成分(阴离子及阳离子)的性能即可，没有特别限制，能够使用电去离子装置(EDI)、再生式离子交换装置、非再生式混床式离子交换装置等，在本实施方式中，使用再生式离子交换装置。
(纯水制造装置的运转方法)
以下，对如上所述的纯水制造装置的运转方法进行说明。
首先，驱动送液泵4并向第二反渗透膜5供给储存在储存槽2中的被处理水W0。在本实施方式的处理中，优选被处理水W0的硼浓度为1～500μg/L和/或二氧化硅浓度为1～50mg/L。用该第二反渗透膜5在一定程度上去除离子性杂质，得到一次处理水W1。另外，此时的来自送液泵4的被处理水W0的供水压力只要基于反渗透膜的构成和所期望的透过通量(flux)来设定即可。
例如，在作为第二反渗透膜5，使用膜面有效压力0.75MPa(水温25℃，纯水(RO透过水))条件下的透过通量(flux)为1.0m3/(m2·天)、每1MPa膜面有效压力(水温25℃，纯水(RO透过水))的透过通量为1.00m3/(m2·天)的反渗透膜，且作为第一反渗透膜6，使用在膜面有效压力0.3MPa(水温25℃，纯水(RO透过水))的条件下的透过通量(flux)为0.76m3/(m2·天)以上、每1MPa膜面有效压力(水温25℃，纯水(RO透过水))的透过通量为2.53m3/(m2·天)的反渗透膜的情况下，分别以透过通量(flux)为1.00m3/(m2·天)向第二反渗透膜5和第一反渗透膜6通水时，只要来自送液泵4的供水压力与该通量条件下的各个膜面有效压力之和近似即可。具体而言，第二反渗透膜5的透过通量(flux)为1.00m3/(m2·天)的膜面有效压力为0.75MPa，第一反渗透膜6的膜面有效压力为0.39MPa，因此设定为1.1(≒0.75+0.39)MPa即可。
接着，通过NaOH水溶液添加机构8向该一次处理水W1中添加NaOH水溶液，将用第一反渗透膜6处理的一次处理水W1的pH调整到碱性侧。具体而言，优选将一次处理水W1的pH设为8～11。通过将一次处理水W1的pH设为8～11，能够提高一次处理水W1中残留的硼、二氧化硅等弱酸性离子种类的去除率。而且，通过用该第一反渗透膜6处理，去除残留的离子性杂质，特别是硼或二氧化硅，得到二次处理水W2。
进一步，通过用离子交换装置7处理该二次处理水W2，进一步去除残留的离子性杂质，能够制造纯水W。
根据这样的本实施方式的多级反渗透膜处理系统，由于使用每1MPa有效压力的透过通量为2.0m3/(m2·天)以上的第一反渗透膜6，并且将用该第一反渗透膜6处理的一次处理水W1的pH调整到碱性侧，因此，能够将所得纯水W的硼以及二氧化硅的去除率维持在高水平(例如95％以上)。另外，由于多级反渗透膜处理系统的运转能量与来自送液泵4的被处理水W0的供水压力即送液泵4的输出大致成正比，因此，能够以此来比较运转能量的大小。例如，如果是与来自前述送液泵4的供水压力设定相同的条件，则在串联设置两级第二反渗透膜的情况下，送液泵4的供水压力在理论上为1.5(≒0.75×2)MPa，因此，运转能量的削减率约为27％((1.5－1.1)/1.5×100≒27)。
[第二实施方式]
(纯水制造装置)
图2示出了使用了本发明的第二实施方式的多级反渗透膜处理系统的纯水制造装置，由于具有基本上与前述的第一实施方式相同的结构，所以对相同的结构标注相同的符号，并省略其详细说明。本实施方式的纯水制造装置具有在通水配管3中串联设置三级第一反渗透膜6A、6B、6C且在第二级的第一反渗透膜6B的前级设置NaOH水溶液添加机构8的构成。而且，由第一反渗透膜6A、6B、6C和NaOH水溶液添加机构8构成多级反渗透膜处理系统。
(纯水制造装置的运转方法)
下面对如上所述的纯水制造装置的运转方法进行说明。
首先，驱动送液泵4并将储存在储存槽2中的被处理水W0供给至第一反渗透膜6A。在本实施方式的处理中，优选被处理水W0的硼浓度为1～500μg/L和/或二氧化硅浓度为1～50mg/L。用该第一反渗透膜6A在一定程度上去除离子性杂质，得到一次处理水W1。需要说明的是，此时的来自送液泵4的被处理水W0的供水压力只要考虑反渗透膜6A、6B、6C的结构来设定即可。例如，当对于第一反渗透膜6A、6B、6C以透过通量(flux)为1.00m3/(m2·天)通水时，与前述第一实施方式同样地，只要基于各个膜面有效压力设定为1.2(≒0.39×3)MPa即可。
接着，通过NaOH水溶液添加机构8向该一次处理水W1中添加NaOH水溶液，将一次处理水W1的pH调整到碱性侧。具体而言，优选将一次处理水W1的pH设为8～11。通过将一次处理水W1的pH设为8～11，能够提高一次处理水W1中残留的硼、二氧化硅等弱酸性离子种类的去除率。通过用第二级的第一反渗透膜6B处理如上所述的一次处理水W1，去除残留的离子性杂质，特别是硼和二氧化硅，得到二次处理水W2。然后，通过用第三级的第一反渗透膜6C处理该二次处理水W2，进一步去除残留的离子性杂质，得到三次处理水W3。
接着，通过用离子交换装置7处理该三次处理水W3，进一步去除残留的离子性杂质，从而能够制造纯水W。
根据如上所述的本实施方式的多级反渗透膜处理系统，在膜面有效压力0.3MPa(水温25℃，纯水(RO透过水))的条件下，将每1MPa有效压力的透过通量为2.0m3/(m2·天)以上的第一反渗透膜6A、6B、6C串联组合三级，并且将用第二级的第一反渗透膜6B处理的一次处理水W1的pH调整到碱性侧，因此，能够将得到的纯水W的硼和二氧化硅的去除率维持在95％以上。另外，与在相同条件下串联设置两级第二反渗透膜的情况相比，例如，如果是来自前述送液泵4的供水压力的设定条件，则在串联设置两级第二反渗透膜的情况下，送液泵4的供水压力在理论上为1.5(≒0.75×2)MPa，因此，运转能量的削减率约为20％((1.5－1.2)/1.5×100＝20)。
[第三实施方式]
(纯水制造装置)
图3示出了使用了本发明的第三实施方式的多级反渗透膜处理系统的纯水制造装置，由于具有基本上与前述的第一实施方式相同的结构，所以对相同的结构标注相同的符号，并省略其详细说明。本实施方式的纯水制造装置具有在通水配管3中串联设置两级第一反渗透膜6D、6E，且在第一级的第一反渗透膜6D的前级设置作为碱添加机构的NaOH水溶液添加机构8的构成。然后，由第一反渗透膜6D、6E以及NaOH水溶液添加机构8构成多级反渗透膜处理系统。
(纯水制造装置的运转方法)
下面，对如上所述的纯水制造装置的运转方法进行说明。
首先，驱动送液泵4并将储存在储存槽2中的被处理水W0供给至第一反渗透膜6D。在本实施方式的处理中，优选被处理水W0的硼浓度为1～500μg/L和/或二氧化硅浓度为1～50mg/L。需要说明的是，此时的来自送液泵4的被处理水W0的供水压力只要考虑反渗透膜6D、6E的结构来设定即可。例如，如果对于第一反渗透膜6D、6E以透过通量(flux)为1.00m3/(m2·天)通水时，则与前述的第一实施方式同样地，基于各自的膜面有效压力设定为0.8(≒0.39×2)MPa即可。
此时，从NaOH水溶液添加机构8向被处理水W0中添加NaOH水溶液，将被处理水W0的pH调整到碱性侧。具体而言，优选将被处理水W0的pH设为8～11。通过使被处理水W0的pH为8～11，能够提高被处理水W0中存在的硼或二氧化硅等弱酸性离子种类的去除率。通过用第一级的第一反渗透膜6D处理如上所述的被处理水W0，去除残留的离子性杂质，特别是去除硼、二氧化硅，得到一次处理水W1。然后，通过用第三级的第二反渗透膜6E处理一次处理水W1，进一步去除残留的离子性杂质，得到二次处理水W2。
接着，通过用离子交换装置7处理该二次处理水W2，进一步去除残留的离子性杂质，从而能够制造纯水W。
根据如上所述的本实施方式的多级反渗透膜处理系统，在膜面有效压力为0.3MPa(水温25℃，纯水(RO透过水))条件下，仅将每1MPa有效压力的透过通量为2.00m3/(m2·天)以上的第一反渗透膜6进行组合，并且将用第一级的第一反渗透膜6D处理的一次处理水W1的pH调整到碱性侧，因此能够将得到的纯水W的硼和二氧化硅的去除率维持在95％以上。另外，与在相同条件下串联设置两级第二反渗透膜的情况相比，例如，如果是来自前述送液泵4的供水压力的设定条件，则在串联设置两级第二反渗透膜的情况下，送液泵4的供水压力在理论上为1.5(≒0.75×2)MPa，因此运转能量的削减率约47％((1.5－0.8)/1.5×100≒47)。
以上，基于上述各实施方式对本发明进行了说明，但本发明不限于上述实施方式，能够实施各种变形。例如，在上述实施方式中，对第一反渗透膜和第一反渗透膜串联连接的例子、以及串联连接第二反渗透膜和第一反渗透膜的例子进行了说明，但本发明在串联连接复数级反渗透膜的多级反渗透膜处理系统中，只要使用第一反渗透膜作为任一反渗透膜，且在其前级将被处理液的pH调整到碱性侧即可，也可以组合第一反渗透膜和第三反渗透膜。
实施例
以下，基于具体的实施例更具体地说明本发明，但本发明并不限定于下述的实施例。
[反渗透膜的硼去除率的确认试验]
作为第一反渗透膜～第三反渗透膜，使用以下反渗透膜，在这些反渗透膜单体中，在纯水中加入500μg/L的硼，并且测定对调整了pH的两种被处理水W0进行处理的情况下的硼浓度，计算出硼去除率。表1中一同示出了使用该结果的反渗透膜的膜面有效压力、通量(flux)。
[表1]
[实施例1]
在使用了图1示出的多级反渗透膜处理系统的纯水制造装置中，供给在纯水中添加了500μg/L硼的被处理水W0以达到规定的单位水量(通量＝1.0m3/(m2·天)，在25℃条件下)，并且在第一反渗透膜6的前级将pH调整为11来运行纯水制造装置1。基于此时的离子交换装置7的前级(最后级的反渗透膜的出口)的硼浓度的测定结果，计算出硼去除率。将结果与通量(flux)、获得相同通量(flux)所需要的膜面有效压力一同显示在表2。
[实施例2]
在使用了图2所示的多级反渗透膜处理系统的纯水制造装置中，供给在纯水中添加了500μg/L硼的被处理水W0以达到规定的单位水量(通量＝1.0m3/(m2·天)，在25℃条件下)，并且在第一反渗透膜6B的前级将pH调整为11来运行纯水制造装置1。基于此时的离子交换装置7的前级(最后级的反渗透膜出口)的硼浓度的测定结果，计算出硼去除率。将结果与通量(flux)、获得相同通量(flux)所需要的膜面有效压力一同显示在表2。
[实施例3]
在使用了图3所示的多级反渗透膜处理系统的纯水制造装置中，供给在纯水中添加了500μg/L硼的被处理水W0以达到规定的单位水量(通量＝1.0m3/(m2·天)，在25℃条件下)，并且在第一反渗透膜6D的前级将pH调整为11来运行纯水制造装置1。基于此时的离子交换装置7的前级(最后级的反渗透膜出口)的硼浓度的测定结果，计算出硼去除率。将结果与通量(flux)、获得相同通量(flux)所需要的膜面有效压力一同显示在表2。
(比较例1)
在使用了图4所示的多级反渗透膜处理系统的纯水制造装置中，供给在纯水中添加了500μg/L硼的被处理水W0(pH6～7)以达到规定的单位水量(通量＝1.0m3/(m2·天)，在25℃条件下)来运行纯水制造装置1。基于此时的离子交换装置7的前级(最后级的反渗透膜出口)的硼浓度的测定结果，计算出硼去除率。将结果与通量(flux)、获得相同通量(flux)所需要的膜面有效压力一同显示在表2。
(比较例2)
在使用了图5所示的多级反渗透膜处理系统的纯水制造装置中，供给在纯水中添加了500μg/L硼的被处理水W0(pH6～7)以达到规定的单位水量(通量＝1.0m3/(m2·天)，在25℃条件下)来运行纯水制造装置1。基于此时的离子交换装置7的前级(最后级的反渗透膜出口)的硼浓度的测定结果，计算出硼去除率。将结果与通量(flux)、获得相同通量(flux)所需要的膜面有效压力一同显示在表2。
(比较例3)
在使用了图6所示的多级反渗透膜处理系统的纯水制造装置中，供给在纯水中添加了500μg/L硼的的被处理水W0以达到规定的单位水量(通量＝1.0m3/(m2·天)，在25℃条件下)，并且在第二反渗透膜12D的前级将pH调整为11来运行纯水制造装置1。基于此时的离子交换装置7的前级(最后级的反渗透膜的出口)的硼浓度的测定结果，计算出硼去除率。将结果与通量(flux)、获得相同通量(flux)所需要的膜面有效压力一同显示在表2。
[表2]
由表2可知，根据实施例1～3的多级反渗透膜处理系统，能够以小于1.5MPa的膜面有效压力运转，并且能够维持99％以上的高硼去除率。膜面有效压力与泵4的输出(运转能量)大致成正比。即，将作为膜面有效压力最高的实施例的实施例2与作为膜面有效压力最低且硼去除率最高的比较例的比较例3进行对比，膜面有效压力在比较例3中为1.5MPa，相对于此，实施例2的膜面有效压力为1.2MPa，因此，通过以下计算可知，运转能量能够削减20％。
运行能量削减率＝(1.5－1.2)/1.5×100＝20(％)。
附图标记说明
1：纯水制造装置；
2：储存槽；
3：通水配管；
4：送液泵；
5：第二反渗透膜；
6、6A、6B、6C、6D、6E：第一反渗透膜；
7：离子交换装置；
8：NaOH水溶液添加机构(碱添加机构)；
W0：被处理水；
W1：一次处理水；
W2：二次处理水；
W3：三次处理水；
W：纯水。

Claims (4)

1.一种多级反渗透膜处理系统，所述多级反渗透膜处理系统是串联配置有两级以上的反渗透膜的多级反渗透膜处理系统，其中，
所述两级以上的反渗透膜中的至少任意一者为水温25℃、纯水时的每1MPa膜面有效压力的透过通量为2.0m3/(m2·天)以上的反渗透膜，以下，称为第一反渗透膜，将所述第一反渗透膜的被处理水的pH调整到碱性侧进行处理，所述纯水为反渗透膜透过水。
2.根据权利要求1所述的多级反渗透膜处理系统，其中，
将所述第一反渗透膜串联配置两级，将该第一反渗透膜中的任意一者的被处理水的pH调整到碱性侧进行处理。
3.根据权利要求1所述的多级反渗透膜处理系统，其中，
将水温25℃、纯水时的每1MPa膜面有效压力的透过通量为0.8m3/(m2·天)以上的反渗透膜与所述第一反渗透膜串联配置，将该第一反渗透膜的被处理水的pH调整到碱性侧进行处理，所述纯水为反渗透膜透过水，以下，所述水温25℃、纯水时的每1MPa膜面有效压力的透过通量为0.8m3/(m2·天)以上的反渗透膜称为第二反渗透膜。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的多级反渗透膜处理系统，其中，
所述多级反渗透膜处理系统的被处理水的水质为硼浓度1～500μg/L和/或二氧化硅浓度1～50mg/L。
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