CN118159074A - 柔性显示装置 - Google Patents

Abstract

一种柔性显示装置，包括：包括在显示区域中的光学区域和正常区域以及在非显示区域中的弯曲区域和非弯曲区域的基板，设置在所述基板上的第一绝缘膜，设置在所述非弯曲区域的绝缘膜上的布线线路，设置在所述布线线路上的第二绝缘膜，设置在所述非弯曲区域的第二绝缘膜上并具有第一接触区域的连接线，设置在连接线上的第一平面化层，设置在第一平面化层上以延伸至弯曲区域并具有第二接触区域的链接线，设置在链接线上并包括开放区域的第二平面化层，以及设置在第二平面化层上并被填充在开放区域中的第三绝缘膜。

Description

柔性显示装置

对相关申请的交叉引用

本申请要求于2022年12月6日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2022-0168981号的优先权，其公开内容通过引用并入本文。

技术领域

本公开涉及一种柔性显示装置，更具体地说，涉及一种能够减小边框宽度的柔性显示装置。

背景技术

随着信息时代的到来，视觉表示电子信息信号的显示装置领域得到了快速发展，为了提高各种显示装置的性能，例如厚度薄、重量轻、功耗低等，相关研究也在不断进行。

具有代表性的显示装置可以包括液晶显示(LCD)装置、场发射显示(FED)装置、电润湿显示(EWD)装置、有机发光显示(OLED)装置等。

以有机发光显示装置为代表的电致发光显示装置是一种自发光显示装置，因此无需单独的光源，这一点与液晶显示装置不同。因此，电致发光显示装置可以被制造得重量轻、厚度小。此外，由于电致发光显示装置不仅由于低电压驱动而在功耗方面具有优势，而且在色彩实现、响应速度、视角、对比度(CR)等方面也非常出色，因此有望在各个领域得到应用。

电致发光显示装置通过在阳极电极和阴极电极的两个电极之间设置发射层来形成发光二极管。当阳极电极中的空穴被注入发射层中且阴极电极中的电子被注入发射层中时，注入的电子和空穴重新结合，在发射层中形成激子以发光。

与此同时，人们还在继续努力缩小作为显示区域外围的边框的面积，以在显示装置面积相同的情况下增加有效显示屏幕尺寸。

然而，在与非显示区域相对应的边框区域中，设置了用于驱动屏幕的布线线路和驱动电路，因此在缩小边框区域方面存在限制。

发明内容

最近，有关通过应用由例如塑料的柔性材料制成的柔性基板使得即使弯曲也能保持显示性能的柔性电致发光显示装置，人们努力通过弯曲柔性基板的非显示区域来减少边框面积，同时确保布线线路和驱动电路的面积。以下，为便于描述，将这种显示装置称为边框弯曲显示装置。

同时，在应用用于减小边框宽度的边框弯曲显示装置以施加两个线路层和两个平面化层的结构中，为了提高生产率，光丙烯酸(PAC)被施加为平面化层。在这种情况下，可能在邻近弯曲区域的接触孔附近的“栅极在面板中”(GIP)线路单元中产生腐蚀缺陷。

因此，本公开要实现的一个目的是提供一种柔性发光显示器，该显示器改善了GIP线路单元的腐蚀缺陷，同时提高生产率。

本公开的目的并不局限于上述目的，且本领域技术人员可以从以下描述中清楚地了解上述未提及的其他目的。

为了实现上述目的，根据本公开的一个方面，一种柔性显示装置可以包括：基板，该基板包括分为光学区域和正常区域(主区域)的显示区域以及分为弯曲区域和非弯曲区域的非显示区域；设置在基板上的绝缘膜；设置在非弯曲区域的绝缘膜上的布线线路；设置在布线线路上的另一绝缘膜；设置在非弯曲区域的另一绝缘膜上并具有与布线线路相连的第一接触区域的连接线；设置在连接线上的第一平面化层；设置在第一平面化层上以延伸至弯曲区域并具有与连接线相连的第二接触区域的链接线；设置在链接线上并包括通过去除部分区域以暴露链接线的第二接触区域而形成的开放区域的第二平面化层；以及设置在第二平面化层上并填充在开放区域中的另一绝缘膜。

示例实施例的其他详细事项包含在详细说明和附图中。

根据本公开，为平面化层施加光丙烯酸(PAC)基材料，以部分地去除GIP线路单元的接触孔上方的平面化层，并用聚酰亚胺(PI)基材料形成的堤部进行填充。这样做可以改善GIP线路单元的腐蚀缺陷，同时提高生产率。

根据本公开的效果并不局限于上述例示的内容，本说明书还包括更多不同的效果。

附图说明

从以下结合附图的详细描述中将更清楚地理解本公开的上述及其它方面、特征和其它优点，其中：

图1A至图1D是示意性示出根据本公开的一个示例性实施例的柔性显示装置的平面图；

图2A和图2B是作为示例示出的图1A至图1D的柔性显示装置的第一光学区域的视图；

图3是根据本公开的一个示例性实施例的柔性显示装置的子像素的等效电路图；

图4是示出根据本公开的一个示例性实施例中显示区域的子像素在显示面板中的放置的视图；

图5A是示出根据本公开的一个示例性实施例中信号线在显示面板中在第一光学区域和正常区域中的放置的视图；

图5B是示出根据本公开的一个示例性实施例中信号线在显示面板中在第二光学区域和正常区域中的放置的视图；

图6是示出在根据本公开的一个示例性实施例的柔性显示装置中的第一光学区域中的非透射区域和透射区域的横截面结构以及正常区域的横截面结构的视图；

图7是示出根据本公开的一个示例性实施例的柔性显示装置的横截面的一部分的视图；

图8是示出根据本公开的另一示例性实施例的柔性显示装置的横截面的一部分的视图；

图9是示出本公开的一个示例性实施例的GIP线路单元的平面图；

图10是沿图9的线C-C'截取的横截面视图；

图11是示出根据本公开的一个示例性实施例的柔性显示装置的第一光学区域的平面图；以及

图12是用于放大图11中X区域的视图。

具体实施方式

通过参考下文详细描述的示例性实施例和附图，本公开的优点和特征以及实现这些优点和特征的方法将一目了然。然而，本公开并不局限于本文所公开的示例性实施例，而是将以各种形式实施。示例性实施例仅以举例的方式提供，以便本领域技术人员能够充分理解本公开的公开内容和本公开的范围。

附图中用于描述本公开的示例性实施例的形状、尺寸、比例、角度、数量等仅仅是示例，且本公开并不限于此。在整个说明书中，相同的参考数字通常表示类似的元件。此外，在本公开的以下描述中，可以省略对已知相关技术的详细解释，以避免不必要地模糊本公开的主题。本文中使用的术语，如“包括”、“具有”和“包含”，总体上旨在允许添加其他元件，除非这些术语与“仅”一起使用。除非另有明确说明，否则对单数的提及也可包括复数。

即使没有明确说明，部件也被解释为包括普通误差范围。

当使用诸如“上”、“上方”、“下方”和“下一个”等术语描述两个部件之间的位置关系时，一个或多个部件可能位于这两个部件之间，除非这些术语与词语“立即”或“直接”一起使用。

当一个元件或层设置在另一个元件或层的“上”时，其他层或其他元件可以夹置于其间，除非这些术语与词语“立即”或“直接”一起使用。

虽然术语“第一”、“第二”等用于描述各种部件，但这些部件并不受限于这些术语。这些术语只是用来区分一个部件和其他部件，并且可以不限定顺序或次序。因此，在本公开的技术概念中，下文提及的第一部件可以是第二部件。

在整个说明书中，相同的参考数字通常表示相同的元件。

图中所示每个部件的尺寸和厚度是为了描述方便而示出的，本公开内容并不局限于所示的部件的尺寸和厚度。

本公开的各实施例的特征可以部分地或全部地相互粘附或组合，并且可以以技术上的各种方式连锁和操作，且各实施例可以独立地或相互关联地实施。

下面，将参照附图详细描述根据本公开的示例性实施例的显示装置。根据本公开的所有实施例的每个显示装置的所有部件被操作性地耦合和配置。

图1A至图1D是示意性示出根据本公开的一个示例性实施例的柔性显示装置的平面图。

参照图1A至1D，根据本公开的一个示例性实施例的柔性显示装置100可包括显示图像的显示面板DP以及一个或多个光学电子装置150、150a和150b。光学电子装置150、150a和150b可以包括接收光的光接收装置。

显示面板DP是用于向用户显示图像的面板。

显示面板DP可包括显示图像的显示元件、驱动显示元件的驱动元件以及向显示元件和驱动元件传输各种信号的布线线路。显示元件可以根据显示面板DP的类型以不同方式限定。例如，当显示面板DP是有机发光显示面板时，显示元件可以是包括阳极电极、有机层和阴极电极的有机发光二极管。例如，当显示面板DP是液晶显示面板时，显示元件可以是液晶显示元件。

在下文中，虽然假定显示面板DP为有机发光显示面板，但显示面板DP并不限于有机发光显示面板。

同时，显示面板DP可配置为包括基板、以及位于基板上的多个绝缘膜、晶体管层和发光二极管层。显示面板DP可包括用于显示图像的多个子像素和用于驱动多个子像素的各种信号线。信号线可包括多条数据线、多条栅极线、多条电源线等。此时，多个子像素中的每个子像素可以包括位于晶体管层上的晶体管和位于发光二极管层上的发光二极管。

显示面板DP可包括显示区域DA和非显示区域NDA。

显示区域DA是在显示面板DP中显示图像的区域。

在显示区域DA中，可设置形成多个像素的多个子像素和用于驱动多个子像素的电路。多个子像素是形成显示区域DA的最小单元，且可在多个子像素中的每个子像素中设置显示元件。所述多个子像素可形成一个像素。例如，可在多个子像素中的每个子像素中设置包括阳极电极、有机层和阴极电极的有机发光二极管，但并不限于此。此外，用于驱动多个子像素的电路可包括驱动元件、布线线路等。例如，电路可由薄膜晶体管、存储电容器、栅极线和数据线配置，但不限于此。

非显示区域NDA是不显示图像的区域。

非显示区域NDA被弯曲成使得不会从前表面看到或被外壳(未图示)挡住，也称为边框区域。

即使在图1A至1D中示出了非显示区域NDA包围四边形显示区域DA，但显示区域DA和非显示区域NDA的形状和位置并不限于图1A至1D中示出的示例。也就是说，显示区域DA和非显示区域NDA可以具有适合于包括柔性显示装置100在内的电子装置的设计的形状。例如，显示区域DA的示例形状可以是五边形、六边形、圆形、椭圆形或类似形状。

在非显示区域NDA中，可以设置用于驱动显示区域DA的有机发光二极管的各种布线线路和电路。例如，在非显示区域NDA中，可以设置向显示区域DA的多个子像素和电路传输信号的链接线、“栅极在面板中”(GIP)线或驱动集成电路IC(例如栅极驱动器IC或数据驱动器IC)，但并不限于此。

柔性显示装置100还可进一步包括各种附加元件，以生成各种信号或驱动显示区域DA中的像素。用于驱动像素的附加元件可包括逆变器电路、多路复用器或静电放电(ESD)电路。柔性显示装置100还可进一步包括与像素驱动功能以外的功能相关的附加元件。例如，柔性显示装置100可进一步包括提供触摸传感功能、用户验证功能(例如指纹识别)、多级压力传感功能或触觉反馈功能的附加元件。上述附加元件可位于与非显示区域NDA和/或连接接口连接的外部电路中。

参考图1A至1D，显示区域DA可包括第一光学区域DA1和第二光学区域DA2，但不限于此。

在图1A至图1D中，一个或多个光学电子装置150、150a和150b是显示面板DP下方(观察表面的相反侧)的电子部件。

光线进入显示面板DP的前表面(观察表面)并穿过显示面板DP以被传输到位于显示面板DP下方(观察表面的相反侧)的一个或多个光学电子装置150、150a和150b。

一个或多个光学电子装置150、150a和150b可以是接收穿过显示面板DP的光的装置，以根据接收到的光执行预定功能。例如，光学电子装置150、150a和150b可以包括图像捕捉装置如照相机(图像传感器)、照明传感器、感测传感器和接近传感器中的一个或多个。

如上所述，光学电子装置150、150a和150b是需要接收光的装置，但可以设置在显示面板DP的后面(下方)。也就是说，光学电子装置150、150a和150b可以位于显示面板DP的观察表面的相反侧。光学电子装置150、150a和150b不暴露在柔性显示装置100的前表面。因此，当用户观看柔性显示装置100的前表面时，看不到光学电子装置150、150a和150b。

例如，位于显示面板DP后方(下方)的照相机是前置照相机，可捕捉前方图像，且也可视作为照相镜头。

光学电子装置150、150a和150b可以布置成与显示面板DP的显示区域DA重叠。也就是说，光学电子装置150、150a和150b可以设置在显示区域DA中。

参考图1A至1D，显示区域DA可包括正常区域NA以及一个或多个光学区域DA1和DA2。正常区域NA也可以被称为用于显示图像的主区域，其可以是或可以不是主要区域。

一个或多个光学区域DA1和DA2可以是与一个或多个光学电子装置150、150a和150b重叠的区域。

根据图1A的一个示例，显示区域DA可以包括正常区域NA(主区域)和第一光学区域DA1。在此，第一光学区域DA1的至少一部分可与第一光学电子装置150重叠。

即使在图1A中示出了第一光学区域DA1的圆形结构，但根据本公开的示例性实施例，第一光学区域DA1的形状并不限于此。

例如，如图1B所示，第一光学区域DA1可以具有八边形，也可以由各种多边形形成。

根据图1C的一个示例，显示区域DA可以包括正常区域NA、第一光学区域DA1和第二光学区域DA2。在图1C的示例中，正常区域NA可以设置在第一光学区域DA1和第二光学区域DA2之间。在此，第一光学区域DA1的至少一部分可与第一光学电子装置150a重叠，且第二光学区域DA2的至少一部分可与第二光学电子装置150b重叠。

根据图1D的一个示例，显示区域DA可以包括正常区域NA、第一光学区域DA1和第二光学区域DA2。在图1D的示例中，正常区域NA不设置于第一光学区域DA1和第二光学区域DA2之间。也就是说，第一光学区域DA1和第二光学区域DA2可以相互接触。在此，第一光学区域DA1的至少一部分可与第一光学电子装置150a重叠，且第二光学区域DA2的至少一部分可与第二光学电子装置150b重叠。

在一个或多个光学区域DA1和DA2中，需要形成图像显示结构和透光结构二者。也就是说，一个或多个光学区域DA1和DA2是显示区域DA的部分区域，因此需要在一个或多个光学区域DA1和DA2中设置用于显示图像的子像素。在一个或多个光学区域DA1和DA2中，必须形成将光线传输到一个或多个光学电子装置150、150a和150b的透光结构。

一个或多个光学电子装置150、150a和150b是需要接收光线的装置，但位于显示面板DP的后面(下面，观看表面的相反侧)，以接收穿过显示面板DP的光线。

一个或多个光学电子装置150、150a和150b没有暴露在显示面板DP的前表面(观察表面)上。因此，当用户观看柔性显示装置100的前表面时，用户看不到光学电子装置150、150a和150b。

例如，第一光学电子装置150和150a可以是照相机，第二光学电子装置150b可以是感测传感器，例如接近传感器或照明传感器。例如，感测传感器可以是感应红外线的红外传感器。

相反，第一光学电子装置150和150a可以是感测传感器，而第二光学电子装置150b可以是照相机。

以下，为便于描述，将描述其中第一光学电子装置150和150a是照相机而第二光学电子装置150b是感测传感器的示例。在此，照相机可以是照相机镜头或图像传感器。

当第一光学电子装置150和150a是照相机时，照相机可以是前侧照相机，它位于显示面板DP的后面(下方)，但捕捉显示面板DPO的前方方向。因此，用户在观看显示面板DP的观看表面时，可以通过从观看表面看不到的照相机拍摄图片。

显示区域DA中所包括的正常区域NA和一个或多个光学区域DA1和DA2是可以显示图像的区域。正常区域NA是在其中无需形成透光结构的区域，而一个或多个光学区域DA1和DA2是在其中需要形成透光结构的区域。

因此，一个或多个光学区域DA1和DA2需要具有预定水平或更高的透射率，而正常区域NA不具有光透射率或透射率低于预定水平。

例如，一个或多个光学区域DA1和DA2以及正常区域NA可能具有不同的分辨率、子像素放置结构、每单位面积的子像素数量、电极结构、线路结构、电极放置结构或线路放置结构。

例如，一个或多个光学区域DA1和DA2中每单位面积的子像素数量可以小于正常区域NA中每单位面积的子像素数量。也就是说，一个或多个光学区域DA1和DA2的分辨率可以低于正常区域NA的分辨率。此时，每单位面积的子像素数量是测量分辨率的单位，并且也可以是表示一英寸内像素数量的每英寸像素(PPI)。

例如，第一光学区域DA1中每单位面积的子像素数量可以小于正常区域NA中每单位面积的子像素数量。第二光学区域DA2中每单位面积的子像素数量可以大于第一光学区域DA1中每单位面积的子像素数量。

第一光学区域DA1可以具有各种形状，例如圆形、椭圆形、矩形、六边形或八边形。第二光学区域DA2可具有各种形状，例如圆形、椭圆形、矩形、六边形或八边形。第一光学区域DA1和第二光学区域DA2可以具有相同的形状或不同的形状。

参考图1D，当第一光学区域DA1和第二光学区域DA2相互接触时，包括第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的整个光学区域可以具有各种形状，例如圆形、椭圆形、矩形、六边形或八边形。

下面，为了便于描述，将描述第一光学区域DA1和第二光学区域DA2为圆形的示例。

在根据本公开的示例性实施例的柔性显示装置100中，当未向外部暴露且隐藏在显示面板DP下方的第一光学电子装置150和150a是照相机时，根据本公开的示例性实施例的柔性显示装置100可以说是应用了屏下显示照相机(UDC)技术的显示器。

通过这样做，在根据本公开示例性实施例的柔性显示装置100中，无需在显示面DP中形成用于暴露照相机的凹口或照相机孔，从而显示区域DA的面积不会减小。

因此，不需要在显示面板DP中形成用于暴露照相机的凹口或照相机孔，从而减小了边框区域的尺寸，并且不提供设计限制以增加设计自由度。

在根据本公开的示例性实施例的柔性显示装置100中，即使一个或多个光学电子装置150、150a和150b隐藏在显示面板DP的后面，一个或多个光学电子装置150、150a和150b也需要正常接收光线以正常执行确定的功能。

进一步地，在根据本公开的示例性实施例的柔性显示装置100中，即使一个或多个光学电子装置150、150a和150b隐藏在显示面板DP后面并与显示区域DA重叠，在显示区域DA中在与一个或多个光电子装置150、150a和150b重叠的一个或多个光学区域DA1和DA2中，也需要正常显示图像。

因此，根据本公开的示例性实施例的柔性显示装置100可以具有提高与光学电子装置150、150a和150b重叠的第一和第二光学区域DA1和DA2的透射率的结构。

图2A和图2B是示出作为示例的图1A至图1D的柔性显示装置的第一光学区域的视图。

与图2A相比，在图2B中额外示出了子像素的布线线路SL和发射区域EA1、EA2、EA3和EA4。

参考图2A和图2B，第一光学区域DA1可以与光学电子装置重叠。第一光学区域DA1可包括非透射区域NTA和透射区域TA。

透射区域TA是被包括在第一光学区域DA1中的部分区域，并且当不透明结构(例如阴极电极)被移除时，外部光线可被传输到光学电子装置。例如，透射区域TA可以具有圆形或椭圆形，也可以被称为孔区域。

进一步地，非透射区域NTA是被包括在第一光学区域DA1中的部分区域，晶体管层的晶体管和发光二极管层的发光二极管可设置在非透射区域中。

非透射区域NTA包括多个子像素的发射区域EA1、EA2、EA3和EA4设置于其中的像素区域PA和信号线SL设置于其中的布线区域WA。

当透射区域TA被非透射区域NTA包围时，第一光学区域DA1可包括多个分离的透射区域TA，但不限于此。

图3是根据本公开的一个示例性实施例的柔性显示装置的子像素的等效电路图。

参考图3，在根据本公开的示例性实施例的柔性显示装置中，设置在显示面板中的多个子像素SP中的每个子像素SP可以包括发光二极管120、驱动晶体管Td、扫描晶体管Ts、存储电容器Cst等。

此时，发光二极管120可以包括像素电极、公共电极以及位于像素电极和公共电极之间的发射层。像素电极设置在每个子像素SP中，公共电极可以被公共地设置在多个子像素SP中。例如，像素电极是阳极电极，而公共电极可以是阴极电极。在另一示例中，像素电极是阴极电极，而公共电极可以是阳极电极。例如，发光二极管120可以是有机发光二极管OLED、微型发光二极管(Micro LED)、量子点(QD)发光二极管等。

驱动晶体管Td是用于驱动发光二极管120的晶体管，且可以包括第一节点N1、第二节点N2和第三节点N3。

驱动晶体管Td的第一节点N1可以是驱动晶体管Td的栅极节点，并且可以与扫描晶体管Ts的源极节点或漏极节点电连接。此外，驱动晶体管Td的第二节点N2是驱动晶体管Td的源极节点或漏极节点，且可与发光二极管120的像素电极电连接。驱动晶体管Td的第三节点N3与提供驱动电压EVDD的驱动电压线DVL电连接。

此外，扫描晶体管Ts由扫描信号SCAN控制，且可连接在驱动晶体管Td的第一节点N1和数据线DL之间。扫描晶体管Ts根据从栅极线GL提供的扫描信号SCAN导通或关断，以控制数据线DL和驱动晶体管Td的第一节点N1之间的连接。

扫描晶体管Ts通过具有导通电平电压的扫描信号SCAN导通，以将从数据线DL提供的数据电压Vdata传输到驱动晶体管Td的第一节点N1。

扫描信号SCAN的导通扫描晶体管Ts的导通电平电压可以是高电平电压或者低电平电压。扫描信号SCAN的关断扫描晶体管Ts的关断电平电压可以是低电平电压或高电平电压。例如，当扫描晶体管Ts为n型晶体管时，导通电平电压为高电平电压，而关断电平电压可以为低电平电压。作为另一示例，当扫描晶体管Ts为p型晶体管时，导通电平电压为低电平电压，而关断电平电压可以为高电平电压。

驱动晶体管Td和扫描晶体管Ts中的每一个可以是n型晶体管或p型晶体管。

存储电容器Cst可以被连接在驱动晶体管Td的第一节点N1和第二节点N2之间。存储电容器Cst被充入与存储电容器Cst两端的电压差相对应的电荷量，并在预定帧时间内维持两端的电压差。因此，在预定帧时间内，相应的子像素SP可以发光。

存储电容器Cst可以是有意设计在驱动晶体管Td外部的外部电容，而不是寄生电容器，寄生电容器是存在于驱动晶体管Td的栅极节点和源极节点(或漏极节点)之间的内部电容器。

根据本公开的示例性实施例的柔性显示装置的子像素SP进一步包括一个或多个晶体管，或可进一步包括一个或多个电容器。

图4是示出根据本公开的示例性实施例，显示区域的子像素在显示面板中的放置的视图。

即，图4示出了根据本公开的示例性实施例，子像素SP在显示面板的显示区域中所包括的三个区域NA、DA1和DA2中的放置。

参考图4，在被包括在显示区域中的正常区域NA、第一光学区域DA1和第二光学区域DA2中，可设置多个子像素SP。

例如，多个子像素SP可包括发出红光的红色子像素Red SP、发出绿光的绿色子像素Green SP和发出蓝光的蓝色子像素Blue SP。

因此，正常区域NA、第一光学区域DA1和第二光学区域DA2中的每一个可包括红色子像素Red SP的发射区域EA、绿色子像素Green SP的发射区域EA和蓝色子像素Blue SP的发射区域EA。

参考图4，正常区域NA不包括透光结构，而是包括发射区域EA。

然而，第一光学区域DA1和第二光学区域DA2不仅需要包括发射区域EA，还需要包括透光结构。

因此，第一光学区域DA1可包括发射区域EA和第一透射区域TA1，而第二光学区域DA2可包括发射区域EA和第二透射区域TA2。

发射区域EA和透射区域TA1和TA2可根据是否透射光进行区分。也就是说，发射区域EA可以是通过其光不被透射的区域，而透射区域TA1和TA2可以是通过其光可以被透射的区域。

此外，发射区域EA和透射区域TA1和TA2可根据是否形成特定金属层而加以区分。例如，在发射区域EA中，形成阴极电极，而在透射区域TA1和TA2中，可以不形成阴极电极。此外，在发射区域EA中，形成光屏蔽层，而在透射区域TA1和TA2中，可以不形成光屏蔽层。

此时，第一光学区域DA1包括第一透射区域TA1，而第二光学区域DA2包括第二透射区域TA2，从而第一光学区域DA1和第二光学区域DA2都是光可以通过的区域。

此时，第一光学区域DA1的透射率(透射度)和第二光学区域DA2的透射率(透射度)可能相等。

在这种情况下，第一光学区域DA1的第一透射区域TA1和第二光学区域DA2的第二透射区域TA2可以具有相同的形状或相同的尺寸。可选地，即使第一光学区域DA1的第一透射区域TA1和第二光学区域DA2的第二透射区域TA2具有不同的形状或尺寸，第一光学区域DA1中的第一透射区域TA1的透射率和第二光学区域DA2中的第二透射区域TA2的透射率可以相等。

相反，第一光学区域DA1的透射率(透射度)和第二光学区域DA2的透射率(透射度)可能互不相同。

在这种情况下，第一光学区域DA1的第一透射区域TA1和第二光学区域DA2的第二透射区域TA2可以具有不同的形状或尺寸。可选地，即使第一光学区域DA1的第一透射区域TA1和第二光学区域DA2的第二透射区域TA2具有相同的形状或尺寸，第一光学区域DA1中的第一透射区域TA1的透射率和第二光学区域DA2中的第二透射区域TA2的透射率也可能不同。

例如，当与第一光学区域DA1重叠的第一光学电子装置是照相机，而与第二光学区域DA2重叠的第二光学电子装置是感测传感器时，照相机可能比感测传感器需要更多的光量。

因此，第一光学区域DA1的透射率(透射度)可以高于第二光学区域DA2的透射率(透射度)。

在这种情况下，第一光学区域DA1的第一透射区域TA1的尺寸可以大于第二光学区域DA2的第二透射区域TA2的尺寸。可选地，即使第一光学区域DA1的第一透射区域TA1和第二光学区域DA2的第二透射区域TA2具有相同的形状或尺寸，第一光学区域DA1中的第一透射区域TA1的透射率可能高于第二光学区域DA2中的第二透射区域TA2的透射率。

以下，为了描述方便，将描述第一光学区域DA1的透射率(透射度)高于第二光学区域DA2的透射率(透射度)的示例。

进一步地，如图4所示，在本公开的示例性实施例中，透射区域TA1和TA2也可称为透明区域，透射率也称为透明度。

进一步地，如图4所示，在本公开的示例性实施例中，假设第一光学区域DA1和第二光学区域DA2位于显示面板的显示区域的上部中且相互水平对齐。

参考图4，第一光学区域DA1和第二光学区域DA2所设置于其中的水平显示区域被称为第一水平显示区域HA1。此外，未设置第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的水平显示区域称为第二水平显示区域HA2。

参考图4，第一水平显示区域HA1可以包括正常区域NA、第一光学区域DA1和第二光学区域DA2。相反，第二水平显示区域HA2可仅包括正常区域NA。

图5A是示出根据本公开的一个示例性实施例中信号线在显示面板中在第一光学区域和正常区域中的放置的视图。

图5B是示出根据本公开的一个示例性实施例中信号线在显示面板中在第二光学区域和正常区域中的放置的视图。

也就是说，图5A示出了根据本公开的示例性实施例中信号线在显示面板中在第一光学区域DA1和正常区域中的放置。图5B示出了根据本公开示例性实施例，信号线在显示面板中在第二光学区域DA2和正常区域中的放置。

图5A和图5B中示出的第一水平显示区域HA1是在显示面板中的第一水平显示区域HA1的一部分，且第二水平显示区域HA2是在显示面板中的第二水平显示区域HA2的一部分。

图5A所示的第一光学区域DA1是在显示面板中的第一光学区域DA1的一部分，图5B所示的第二光学区域DA2是在显示面板中的第二光学区域DA2的一部分。

参考图5A和5B，第一水平显示区域HA1可以包括正常区域、第一光学区域DA1和第二光学区域DA2。第二水平显示区域HA2可以包括正常区域。

在显示面板中，可以设置各种类型的水平线HL1和HL2，且可以设置各种类型的竖直线VLn、VL1和VL2。

在本公开的示例性实施例中，水平方向和竖直方向是指两个相交的方向，且水平方向和竖直方向可根据观看方向而变化。例如，在本公开的示例性实施例中，水平方向是指一条栅极线在其中延伸的方向，而竖直方向是指一条数据线在其中延伸的方向。如上所述，水平方向和竖直方向是示例性的且其他变化也是可能的。

参考图5A和5B，设置在显示面板中的水平线可包括设置在第一水平显示区域HA1中的第一水平线HL1和设置在第二水平显示区域HA2中的第二水平线HL2。

设置在显示面板中的水平线可以是栅极线。也就是说，第一水平线HL1和第二水平线HL2可以是栅极线。根据子像素的结构，栅极线可包括各种类型的栅极线。

参考图5A和5B，设置在显示面板中的竖直线可以包括仅设置在正常区域中的正常竖直线VLn、穿过第一光学区域DA1和正常区域二者的第一竖直线VL1以及穿过第二光学区域DA2和正常区域二者的第二竖直线VL2。

设置在显示面板中的竖直线可包括数据线和驱动电压线，还可包括参考电压线和初始化电压线。也就是说，正常竖直线VLn、第一竖直线VL1和第二竖直线VL2不仅可以包括数据线和驱动电压线，还可以包括参考电压线和初始化电压线。

在示例性实施例中，第二水平线HL2中的“水平”一词是指信号从左侧(或右侧)传输到右侧(或左侧)，但并不意味着第二水平线HL2仅在准确的水平方向上笔直地延伸。也就是说，在图5A和5B中，第二水平线HL2被图示为直线，但第二水平线HL2可能包括弯折或弯曲部分。同样，第一水平线HL1也可以包括弯折或弯曲部分。

在示例性实施例中，正常竖直线VLn中的“竖直”一词是指信号从上侧(或下侧)传输到下侧(或上侧)，但并不意味着正常竖直线VLn仅在准确的竖直方向上笔直地延伸。也就是说，在图5A和5B中，正常竖直线VLn被图示为直线，但正常竖直线VLn可以包括弯折或弯曲部分。同样，第一竖直线VL1和第二竖直线VL2也可以包括弯折或弯曲部分。

参考图5A，被包括在第一水平区域HA1中的第一光学区域DA1可以包括发射区域和第一透射区域。在第一光学区域DA1中，第一透射区域的外部区域可包括发射区域。

参考图5A，为了提高第一光学区域DA1的透射率，穿过第一光学区域DA1的第一水平线HL1可以避开第一光学区域DA1中的第一透射区域。

因此，穿过第一光学区域DA1的第一水平线HL1可以包括弯曲部段或弯折部段，其迂回到第一透射区域的外边缘之外。

因此，设置在第一水平区域HA1中的第一水平线HL1和设置在第二水平区域HA2中的第二水平线HL2可以具有不同的形状或长度。也就是说，穿过第一光学区域DA1的第一水平线HL1和不穿过第一光学区域DA1的第二水平线HL2可以具有不同的形状或长度。

此外，为了提高第一光学区域DA1的透射率，穿过第一光学区域DA1的第一竖直线VL1可以避开第一光学区域DA1中的第一透射区。

因此，穿过第一光学区域DA1的第一竖直线VL1可以包括弯曲部段或弯折部段，其迂回到第一透射区域的外边缘之外。

因此，穿过第一光学区域DA1的第一竖直线VL1和不穿过第一光学区域DA1且位于正常区域的正常竖直线VLn可以具有不同的形状或长度。

参考图5A，在第一水平区域HA1中被包括在第一光学区域DA1中的第一透射区域可以被对角线布置。

参考图5A，发射区域可设置在第一水平区域HA1中在第一光学区域DA1彼此左右相邻的两个第一透射区域之间。发射区域可设置在第一水平区域HA1中在第一光学区域DA1彼此上下相邻的两个第一透射区域之间。

参考图5A，设置在第一水平区域HA1中的第一水平线HL1，即穿过第一光学区域DA1的第一水平线HL1可包括弯曲区域或弯折区域中的至少一个，其迂回于第一透射区域的外边缘之外。

参考图5B，被包括在第一水平区域HA1中的第二光学区域DA2包括发射区域和第二透射区域TA2。在第二光学区域DA2中，第二透射区域TA2的外部区域可包括所述发射区域。

发射区域和第二透射区域TA2在第二光学区域DA2中的位置和放置状态可以与图5A中发射区域和第二透射区域在第一光学区域DA1中的位置和放置状态相同。

相反，如图5B所示，发射区域和第二透射区域TA2在第二光学区域DA2中的位置和放置状态可以不同于图5A中发射区域和第二透射区域在第一光学区域DA1中的位置和放置状态。

例如，参照图5B，在第二光学区域DA2中，第二透射区域TA2可以设置在水平方向(左右方向)上。发射区域可以不设置在在水平方向(左右方向)上相邻的两个第二透射区域TA2之间。此外，第二光学区域DA2中的发射区域可以设置在在竖直方向(上下方向)上相邻的两个第二透射区域TA2之间。也就是说，发射区域可以设置在两行第二透射区域TA2之间。

当第一水平线HL1穿过第一水平区域HA1中的第二光学区域DA2及其周围的正常区域时，第一水平线可以与图5A所示的相同方式穿过。

相反，如图5B所示，当第一水平线HL1穿过第一水平区域HA1中的第二光学区域DA2及其周围的正常区域时，第一水平线可以与图5A所示的不同方式穿过。

也就是说，这是因为在图5B的第二光学区域DA2中发射区域和第二透射区域TA2的位置和放置状态与图5A中第一光学区域DA1中发射区域和第二透射区域的位置和放置状态不同。

参考图5B，当第一水平线HL1穿过第一水平区域HA1中的第二光学区域DA2及其周围的正常区域时，第一水平线HL1可在在竖直方向上相邻的第二透射区域TA2之间笔直通过，而没有弯曲部分或弯折部分。

换句话说，第一水平线HL1在第一光学区域DA1中具有弯曲部分或弯折部分，但在第二光学区域DA2中不具有弯曲部分或弯折部分。

为了提高第二光学区域DA2的透射率，穿过第二光学区域DA2的第二竖直线VL2可以避开第二光学区域DA2中的第二透射区域TA2。

因此，穿过第二光学区域DA2的第二竖直线VL2可以包括弯曲部分或弯折部分，其迂回到第二透射区域TA2的外边缘之外。

因此，穿过第二光学区域DA2的第二竖直线VL2和不穿过第二光学区域DA2且位于正常区域中的正常竖直线VLn可以具有不同的形状或长度。

如图5A所示，穿过第一光学区域DA1的第一水平线HL1可以具有迂回到第一透射区域外缘外侧的弯曲部分或弯折部分。

因此，穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第一水平线HL1的长度可能略长于仅设置在正常区域中而不穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第二水平线HL2的长度。

因此，穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第一水平线HL1的电阻可能略高于仅设置在正常区域中而不穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第二水平线HL2的电阻。在下文中，第一水平线HL1的电阻也称为第一电阻，而第二水平线HL2的电阻也称为第二电阻。

参考图5A和5B，根据透光结构，至少部分地与第一光学电子装置重叠的第一光学区域DA1包括多个第一透射区域TA1。与第二光学电子装置至少部分地重叠的第二光学区域DA2包括多个第二透射区域TA2。因此，第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的每单位面积的子像素数量可以小于正常区域的每单位面积的子像素数量。

与穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第一水平线HL1相连接的子像素的数量可以不同于与仅设置在正常区域中而不穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第二水平线HL2相连接的子像素的数量。

与穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第一水平线HL1连接的子像素的数量(第一数量)可以小于与只设置在正常区域中而不穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第二水平线HL2连接的子像素的数量(第二数量)。

第一数量和第二数量之间的差值可根据第一光学区域DA1和第二光学区域DA2每个的分辨率与正常区域的分辨率之间的差值而变化。例如，第一光学区域DA1和第二光学区域DA2每个的分辨率与正常区域的分辨率之差越大，第一数量和第二数量之间的差值就越大。

如上所述，与穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第一水平线HL1相连的子像素的数量(第一数量)小于与仅设置在正常区域中而不穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第二水平线HL2相连的子像素的数量(第二数量)。因此，与其他周围电极或线重叠的第一水平线HL1的面积可以小于与其他周围电极或线重叠的第二水平线HL2的面积。

因此，由第一水平线HL1和其他周围电极或线形成的寄生电容(以下称第一电容)可以远小于由第二水平线HL2和其他周围电极或线形成的寄生电容(以下称第二电容)。

考虑到第一电阻和第二电阻的大小关系(第一电阻≥第二电阻)以及第一电容和第二电容的大小关系(第一电容《第二电容)，穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第一水平线HL1的电阻-电容(RC)值(以下称第一RC值)可以远小于仅设置在正常区域中而未穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第二水平线HL2的RC值(以下称第二RC值)(第一RC值《第二RC值)。

通过第一水平线HL1的信号传输特性和通过第二水平线HL2的信号传输特性可能会因第一水平线HL1的第一RC值和第二水平线HL2的第二RC值之间的差值(以下称为RC负载偏差)而变化。

图6是示出根据本公开的一个示例性实施例的柔性显示装置中的第一光学区域中的非透射区域和透射区域的横截面结构以及正常区域的横截面结构的视图。

参考图6，显示面板DP的第一光学区域DA1可包括透射区域TA和非透射区域NTA。显示面板DP的正常区域NA被视为非透射区域NTA。

下面将描述第一光学区域DA1的非透射区域NTA的层叠结构和透射区域TA的层叠结构以及正常区域NA的层叠结构。

首先，正常区域NA的层叠结构如下。

在正常区域NA中，晶体管层TRL设置在基板SUB的上方，且平面化层PLN可以设置在晶体管层TRL的上方。此外，发光二极管层EDL设置在平面化层PLN的上方，封装层ENCAP设置在发光二极管层EDL的上方，触摸传感器层TSL设置在封装层ENCAP的上方，且保护层PAC可以设置在触摸传感器层TSL的上方。

在正常区域NA中，在晶体管层TRL上可设置各种晶体管，例如用于每个子像素的驱动晶体管和扫描晶体管，并可进一步设置用于形成晶体管的各种绝缘膜。各种绝缘膜包括有机膜和无机膜。

在正常区域NA中，可以在晶体管层TRL上设置各种布线线路，例如数据线、栅极线或驱动电压线。

在正常区域中，每个子像素的发光二极管120可以设置在发光二极管层EDL上。也就是说，在正常区域NA中，形成发光二极管120的像素电极、发射层和公共电极可设置在发光二极管层EDL上。

在正常区域NA中，在触摸传感器层TSL上，可以设置触摸传感器，并进一步设置形成触摸传感器所需的触摸缓冲膜和触摸绝缘膜。

接下来，第一光学区域DA1的非透射区域NTA的层叠结构与正常区域NA的层叠结构相同。

参考图6，在第一光学区域DA1的非透射区域NTA中，晶体管层TRL设置在基板SUB的上方，并且平面化层PLN可以设置在晶体管层TRL的上方。此外，发光二极管层EDL设置在平面化层PLN的上方，且封装层ENCAP可以设置在发光二极管层EDL的上方。触摸传感器层TSL设置在封装层ENCAP的上方，而保护层PAC可以设置在触摸传感器层TSL的上方。

发光二极管120易受湿气或氧气的影响。封装层ENCAP抑制湿气或氧气的渗透，以防止发光二极管120暴露于湿气或氧气中。封装层ENCAP可以由一层或多层形成。

在第一光学区域DA1的非透射区域NTA中，在晶体管层TRL上，可以设置各种晶体管，例如用于每个子像素的驱动晶体管和扫描晶体管，并且可以设置用于形成晶体管的另外的各种绝缘膜。这里，各种绝缘膜包括有机膜和无机膜。

此外，在第一光学区域DA1的非透射区域NTA中，可以在晶体管层TRL上配置各种布线线路，例如数据线、栅极线或驱动电压线。

在第一光学区域DA1的非透射区域NTA中，在发光二极管层EDL上，可以设置每个子像素的发光二极管120。也就是说，在第一光学区域DA1的非透射区域NTA中，可以在发光二极管层EDL上设置形成发光二极管120的像素电极、发射层和公共电极。

此外，在第一光学区域DA1的非透射区域NTA中，触摸传感器Ts可以设置在触摸传感器层TSL上，并且可以进一步设置形成触摸传感器Ts所需的触摸缓冲膜和触摸绝缘膜。

进一步地，第一光学区域DA1的透射区域TA的层叠结构如下。

参见图6，在第一光学区域DA1的透射区域TA中，在基板SUB的上方设置有晶体管层TRL，在晶体管层TRL的上方可以设置有平面化层PLN。此外，发光二极管层EDL设置在平面化层PLN的上方，而封装层ENCAP可以设置在发光二极管层EDL的上方。触摸传感器层TSL设置在封装层ENCAP的上方，而保护层PAC可以设置在触摸传感器TSL的上方。

在第一光学区域DA1的透射区域TA中，例如每个子像素的驱动晶体管和扫描晶体管的各种晶体管以及各种布线线路可设置在晶体管层TRL上，且用于每个子像素的发光二极管120可设置在发光二极管层EDL上。在第一光学区域DA1的透射区域TA中，触摸传感器Ts可以设置在触摸传感器层TSL上。

此时，在第一光学区域DA1的透射区域TA中，晶体管层TRL上未设置晶体管和布线线路。但是，在第一光学区域DA1的透射区域TA中，可以在晶体管层TRL上设置形成晶体管所需的各种绝缘膜。这里，各种绝缘膜可以包括有机膜和无机膜。

进一步地，在第一光学区域DA1的透射区域TA中，每个子像素的发光二极管120不设置在发光二极管层EDL上。也就是说，在第一光学区域DA1的透射区域TA中，像素电极、发射层和公共电极没有设置在发光二极管层EDL上。但是，本公开并不局限于此，且在第一光学区域DA1的透射区域TA中，像素电极、发射层和公共电极中仅有一些可以设置在发光二极管层EDL上。例如，在第一光学区域DA1的透射区域TA中，仅发射层可以设置在发光二极管层EDL上。

在第一光学区域DA1的透射区域TA中，触摸传感器不设置在触摸传感器层TSL上。在第一光学区域DA1的透射区域TA中，触摸缓冲膜和触摸绝缘膜可以设置在触摸传感器层TSL上。

参照图6，在第一光学区域DA1的非透射区域NTA和正常区域NA中设置的金属材料层和绝缘材料层中，金属材料层没有设置在第一光学区域DA1的透射区域TA中。然而，在设置在第一光学区域DA1的非透射区域NTA和正常区域NA中的金属材料层与绝缘材料层中，绝缘材料层延伸至第一光学区域DA1的透射区域TA。

换言之，金属材料层设置在第一光学区域DA1的非透射区域NTA和正常区域NA的非透射区域NTA中，但不设置在第一光学区域DA1的透射区域TA中。绝缘材料层可以公共地设置在第一光学区域DA1的非透射区域NTA、正常区域NA的非透射区域NTA以及第一光学区域DA1的透射区域TA中，但本公开内容并不限于此。

进一步地，第一光学区域DA1的透射区域TA可以与第一光学电子装置150重叠，外部光可以通过第一光学区域DA1的透射区域TA透射到第一光学电子装置150。因此，为了保证第一光学电子装置150的正常工作，第一光学区域DA1的透射区域TA的透射率需要较高。

同时，第一光学区域DA1和正常区域NA的平面化层PLN可以由第一平面化层和第二平面化层两层形成，并且可以施加光丙烯酸PAC来提高生产率。也就是说，根据本公开内容，应用边框弯曲显示装置来减少边框宽度，应用两层线路层和两层平面化层，并应用PAC来提高生产率。在这种情况下，可能会由于从显示面板上部的湿气渗透而在源极线/漏极线中产生电化学腐蚀缺陷问题。具体来说，在与弯曲区域相邻的接触孔附近的GIP线路单元中，不同层上的布线线路被连接，造成异质接触腐蚀，即电化学腐蚀。电化学腐蚀是指这样一种腐蚀：其中当两种材料相互接触并暴露在腐蚀环境中时，电子由于电位差而在金属之间移动，从而使惰性电位相对较高的金属的腐蚀速度降低，而活性电位相对较低的金属的腐蚀速度增加。因此，在相关技术中，作为平面化层PLN，应用的是PI而不是PAC。然而，在UDC模型或UDIR模型的情况下，为了确保透射区域TA的透射率，阴极被移除，从而削弱了紫外线可靠性。此外，当对平面化层PLN施加PI而不是PAC时，很容易因出气而导致像素收缩。例如，当施加PAC时，对于输入量的像素收缩率为0％，而当施加PI时，对于输入量的像素收缩率达到100％。

因此，根据本公开，对平面化层PLN施加PAC基材料，但在平面化层PLN的在GIP线路单元的接触孔上方的一部分被移除，并用PI基材料形成的堤部填充，或者布线线路的在GIP线路单元的接触孔上方的一部分被阳极电极或触摸电极的金属层覆盖。这样做可以抑制湿气渗透，从而提高生产率，并改善GIP线路单元的电化学腐蚀缺陷。这将在下面参照图7至图11进行详细说明。

图7是示出根据本公开的一个示例性实施例的柔性显示装置的横截面的一部分的视图。

图8是示出根据本公开的另一示例性实施例的柔性显示装置的横截面的一部分的视图。

图7和图8示出了第一光学区域的非透射区域NTA和透射区域TA的横截面的一部分。

在图7中，堤部116设置在透射区域TA中，但在图8中，堤部116的在透射区域TA中的一部分被移除。也就是说，在图7和图8中，只有位于透射区域TA中的堤部116的形状不同，其他配置基本相同，因此省略多余的描述。

参考图7和图8，第一光学区域的非透射区域NTA和透射区域TA基本上都可以包括基板SUB、晶体管层TRL、平面化层PLN、发光二极管层EDL、封装层ENCAP、触摸传感器层TSL和保护层PAC。

首先，将描述第一光学区域中所包括的非透射区域NTA的层叠结构。

基板SUB可以包括第一基板110a、第二基板110b和层间绝缘膜110c。层间绝缘膜110c可以设置在第一基板110a和第二基板110b之间。如上所述，基板SUB由第一基板110a、第二基板110b和层间绝缘膜110c构成，以抑制湿气渗透。例如，第一基板110a和第二基板110b可以是聚酰亚胺(PI)基板。

在晶体管层TRL上，可以设置用于形成晶体管(例如驱动晶体管Td)的各种图案131、132、133和134、各种绝缘膜111a、111b、112、113a、113b和114以及各种金属图案TM、GM和135。

以下将更详细地描述晶体管层TRL的层叠结构。

多缓冲层111a设置在第二基板110b上，且有源缓冲层111b可以设置在多缓冲层111a上。

在多缓冲层111a上可设置金属层135。

在此，金属层135可作为光屏蔽件，也称为光屏蔽层。

有源缓冲层111b可以设置在金属层135上。

驱动晶体管Td的有源层134可以设置在有源缓冲层111b上。

在有源层134上可设置栅极绝缘膜112。

此外，驱动晶体管Td的栅电极131可以设置在栅极绝缘膜112上。此时，栅极材料层GM可以在与驱动晶体管Td的形成位置不同的位置设置在栅极绝缘膜112上。

第一层间绝缘膜113a可设置在栅电极131和栅极材料层GM上。金属图案TM可设置在第一层间绝缘膜113a上。第二层间绝缘膜113b可以设置在第一层间绝缘膜113a上，同时覆盖金属图案TM。

驱动晶体管Td的源电极132和漏电极133可以设置在第二层间绝缘膜113b上。

源电极132和漏电极133可以通过在第二层间绝缘膜113b、第一层间绝缘膜113a和栅极绝缘膜112中设置的接触孔连接到有源层134的一侧和另一侧。

有源层134的与栅电极131重叠的部分是沟道区域。源电极132和漏电极133中的一个连接到有源层134中沟道区域的一侧，另一个连接到有源层134中沟道区域的另一侧。

钝化层114可以设置在源电极132和漏电极133上。

平面化层PLN可以位于晶体管层TRL的上方。

平面化层PLN可以包括第一平面化层115a和第二平面化层115b。第一平面化层115a由PI基材料形成，而第二平面化层115b可以由PAC基材料形成。也就是说，UDC模型或UDIR模型中的像素收缩问题主要是由第二平面化层115b而不是第一平面化115a的出气引起的，因此只有第二平面化层115b是由PAC基材料形成的。

第一平面化层115a可以配置在钝化层114上。

连接电极125可以设置在第一平面化层115a上。

连接电极125可以通过设置在第一平面化层115a中的接触孔连接到源电极132和漏电极133之一。

第二平面化层115b可以设置在连接电极125上。

发光二极管层EDL可以位于第二平面化层115b的上方。

下面将详细描述发光二极管层EDL的层叠结构。

像素电极121可以设置在第二平面化层115b上。此时，像素电极121可通过设置在第二平面化层115b中的接触孔与连接电极125电连接。例如，像素电极121可以是阳极电极。

堤部116可在覆盖像素电极121同时被设置。堤部116的与子像素的发射区域相对应的一部分可以是开放的。像素电极121的一部分可以通过堤部116的开放部分(以下称为开放区域)暴露出来。此时，堤部116可以由PI基材料形成。

发射层122可以设置在堤部116的开放区域中以及堤部的开放区域的附近。因此，发射层122可以设置在通过堤部116的开放区域暴露出来的像素电极121上。

公共电极123可以设置在发射层122上。例如，公共电极123可以是阴极电极。

发光二极管120可以由像素电极121、发射层122和公共电极123构成。发光层122可包括多个有机膜。

封装层ENCAP可以位于上述发光二极管层EDL的上方。

封装层ENCAP可以具有单层结构或多层结构。例如，多个封装层ENCAP可以包括第一封装层117a、第二封装层117b和第三封装层117c。

此时，第一封装层117a和第三封装层117c由无机膜形成，第二封装层117b由有机膜形成。在第一封装层117a、第二封装层117b和第三封装层117c中，第二封装层117b最厚，且可作为平面化层。

第一封装层117a设置在公共电极123上，并可设置为最邻近发光二极管120。第一封装层117a由无机绝缘材料形成，其可以通过低温沉积形成。例如，第一封装层117a可以由氮化硅SiN_x、氧化硅SiO_x、氮氧化硅SiON或氧化铝Al₂O₃形成。第一封装层117a在低温环境下沉积，从而在沉积过程中，可以抑制包括易受高温环境影响的有机材料在内的发射层122的损坏。

第二封装层117b可以形成为具有小于第一封装层117a面积的面积。在这种情况下，第二封装层117b可以形成为露出第一封装层117a的两端。第二封装层117b可用作缓冲器，以减轻因柔性显示装置弯曲而在层间产生的应力，并增强平面化性能。

例如，第二封装层117b由有机绝缘材料形成，如丙烯酸树脂、环氧树脂、聚酰亚胺、聚乙烯或硅氧碳(SiOC)。例如，第二封装层117b可以通过喷墨方法形成，但不限于此。

尽管没有示出，但为了抑制封装层ENCAP的塌陷，可以在封装层ENCAP的倾斜表面的端部或其附近设置一个或多个坝。一个或多个坝可设置在显示区域和非显示区域之间的边界处或边界附近。

包括有机材料的第二封装层117b可以仅位于最内层主坝的内侧表面上。也就是说，第二封装层117b可以不设置在所有坝的上部上。相反，包括有机材料的第二封装层117b可以设置在至少主坝的上部中，位于主坝和副坝之间。也就是说，第二封装层117b可以定位成延伸到主坝的上部。可选地，第二封装层117b可以定位成通过经过主坝的上部而延伸至副坝的上部。

第三封装层117c可以形成在在其上形成有第二封装层117b的基板SUB的上方，以便覆盖第二封装层117b和第一封装层117a的上表面和侧表面。此时，第三封装层117c可以最小化或阻止外部氧气或水分渗透到第二封装层117b和第一封装层117a。例如，第三封装层117c可以由无机绝缘材料形成，如氮化硅SiN_x、氧化硅SiO_x、氮氧化硅SiON或氧化铝Al₂O₃。

触摸传感器层TSL可以配置在上述封装层ENCAP的上方。

随后，下面将介绍触摸传感器层TSL的层叠结构。

在封装层ENCAP的上方设置有触摸缓冲膜118a，且触摸传感器140可以设置在触摸缓冲膜118a上。

触摸传感器140可以包括位于不同层上的触摸传感器金属141和桥接金属142。触摸层间绝缘膜118b可设置在触摸传感器金属141和桥接金属142之间。

例如，触摸传感器金属141可以包括彼此相邻设置的第一触摸传感器金属、第二触摸传感器金属和第三触摸传感器金属。第一触摸传感器金属和第二触摸传感器金属是电连接的。但是，当第三触摸传感器金属设置在第一触摸传感器金属和第二触摸传感器金属之间时，第一触摸传感器金属和第二触摸传感器金属可以通过设置在不同层上的桥接金属142进行电连接。桥接金属142可通过触摸层间绝缘膜118b与第三触摸传感器金属绝缘。

在形成触摸传感器层TSL时，可能会产生用于该过程的化学品(例如显影剂或蚀刻剂)或来自外部的湿气。设置触摸缓冲膜118a并在其上设置触摸传感器层TSL以抑制在制造触摸传感器层TSL的过程中化学品或湿气渗透到包括有机材料的发射层122中。这样，触摸缓冲膜118a可以抑制易受化学溶液或湿气影响的发射层122的损坏。

触摸缓冲膜118a可以由有机绝缘材料形成，该材料在等于或低于预定温度(例如100℃)的温度下形成，以抑制包括易受高温影响的有机材料的发射层122的损坏。有机绝缘材料具有1-3的低介电常数。例如，触摸缓冲膜118a可以由丙烯酸、环氧树脂或硅氧烷基材料形成。随着柔性显示装置的弯曲，封装层ENCAP可能会被损坏，且设置在触摸缓冲膜118a上方的触摸传感器金属141可能会破损。即使柔性显示装置发生弯曲，由有机绝缘材料构成的具有平面化性能的触摸缓冲膜118a也可抑制封装层ENCAP的损坏和形成触摸传感器140的金属141和142的破损。

保护层PAC可以设置成覆盖触摸传感器140。保护层PAC可以由有机绝缘膜形成。

以下将描述第一光学区域中所包括的透射区域TA的层叠结构。

参考图7和图8，基板SUB和设置在第一光学区域的非透射区域NTA中的各种绝缘膜111a、111b、112、113a、113b、114、115a、115b、117a、117b、117c和PAC也可以以相同的方式设置在第一光学区域的透射区域TA中。

但是，在第一光学区域的非透射区域NTA中，除绝缘材料外，具有电特性或不透明特性的材料层(例如，金属材料层或半导体层)可以不设置在第一光学区域的透射区域TA中。

例如，与晶体管和半导体层134有关的金属材料层135、131、GM、TM、132、133和125不设置在透射区域TA中。此外，发光二极管120中所包括的像素电极121和公共电极123可以不设置在透射区域TA中。发射区域122可以设置在透射区域TA中，或者也可以不设置在透射区域中。此外，触摸传感器140中所包括的触摸传感器金属141和桥接金属142不设置在透射区域TA中，但本公开并不限于此。

也就是说，第一光学区域的透射区域TA与第一光学电子装置150重叠，从而为了第一光学电子装置150的正常工作，透射区域TA的透射率需要较高。

下面，将参照图9和图10详细描述本公开的一种配置，其中GIP线路单元的电化学腐蚀缺陷得到了改善。

图9是示出本公开的一个示例性实施例的GIP线路单元的平面图。

图10是沿图9的C-C'线截取的横截面图。

图9和图10示出了非显示区域的一部分，包括弯曲区域BA和非弯曲区域NBA，即GIP线路单元的一部分。

此时，图9中所示矩形以外的区域表示其中设置第二平面化层215b的区域。

参考图9和图10，GIP线路单元的非显示区域可以包括基板SUB、GIP线GM1、连接线SDM1、链接线SDM2、平面化层115a和215b、堤部216、触摸缓冲膜118a、触摸层间绝缘膜118b和保护层PAC。

为便于描述，基板SUB可包括第一基板、第二基板和层间绝缘膜。层间绝缘膜可设置在第一基板和第二基板之间。

晶体管层的各种绝缘膜，例如多缓冲层111a、有源缓冲层111b和栅极绝缘膜112可以设置在GIP线路单元的基板SUB的上方。但是，本公开并不限于此，也可以不设置某些绝缘膜。

可在栅极绝缘膜112上设置GIP线GM1。

GIP线GM1延伸至驱动IC，以被施加信号，并延伸至显示区域中的像素，以传输信号。

GIP线GM1可以由与显示区域中晶体管的栅电极相同的金属材料在与显示区域中晶体管的栅电极相同的层上形成，但并不限于此。

在GIP线GM1上可设置第一层间绝缘膜113a和第二层间绝缘膜113b。

在第二层间绝缘膜113b上可设置连接线SDM1。

即，连接线SDM1设置在非弯曲区域NBA的第二层间绝缘膜113b上，并且可以包括与GIP线GM1连接的第一接触区域。

连接线SDM1可以连接在链接线SDM2和GIP线GM1之间。

连接线SDM1通过多个第一接触孔140a与链接线SDM2(即第二接触区域)电连接，并可通过多个第二接触孔140b与GIP线GM1电连接。

连接线SDM1可以由与显示区域中晶体管的源电极和漏电极相同的金属材料在与显示区域中晶体管的源电极和漏电极相同的层上形成，但并不限于此。

第一平面化层115a可以设置在连接线SDM1上。

此时，第一平面化层115a可以由PI基材料形成。

链接线SDM2可以设置在第一平面化层115a上。

链接线SDM2可以是在连接到驱动IC的GIP线和连接到显示区域像素的GIP线GM1之间连接的布线线路。

链接线SDM2设置在第一平面化层115a上以延伸至弯曲区域BA，并可包括与连接线SDM1连接的第二接触区域。

链接线SDM2可以由与显示区域中的连接电极相同的金属材料在与显示区域中的连接电极相同的层上形成，但不限于此。

第二平面化层215b可以设置在链接线SDM2上。

第二平面化层215b可以由PAC基材料形成。

同时，根据本公开的示例性实施例，在GIP线路单元的接触区域上方，即在第一接触孔140a和第二接触孔140b所设置的接触区域上方的第二平面化层215b被部分去除以形成开放区域OP。链接线SDM2的一部分(即第二接触区域)可由开放区域OP暴露出来。

此时，即使没有图示，也可以进一步形成阻挡层，以覆盖链接线SDM2的由开放区域OP暴露的端部(即第二接触区域)，并阻挡GIP线GM1的端部(即连接线SDM1的第一接触区域)。

在这里，阻挡层可以设置在第一接触孔140a(连接线SDM1和链接线SDM2通过其被电连接)的附近，以及第二接触孔140b(连接线SDM1和GIP线GM1通过其被电连接)的附近，即设置在链接线SDM2上以阻挡第一和第二接触区域。

阻挡层可以由透明导电材料形成，例如ITO、IZO和IGZO，但并不限于此。

堤部216可设置在第二平面化层215b上，但不限于此，在某些情况下，可不设置堤部216。

堤部216可以由PI基材料形成。与PAC相比，PI基材料具有与链接线SDM2的钛的良好粘合性，并能很好地抑制湿气渗透。

堤部216可设置成被填充在第二平面化层215b的开放区域OP中，但本公开内容并不限于此，且除堤部216外，可使用由PI基材料形成的绝缘膜。

触摸缓冲膜118a和触摸层间绝缘膜118b可以设置在堤部216上。

保护层PAC可以设置在触摸层间绝缘膜118b上。

如上所述，根据本公开的示例性实施例，GIP线路单元的各接触区域上方的第二平面化层215b被部分去除，且暴露的开放区域OP被绝缘膜(例如堤部216或触摸缓冲膜118a)覆盖。因此，GIP线路单元的电化学腐蚀缺陷得到了改善，并可抑制额外的湿气渗透。电化学腐蚀缺陷主要发生在异种金属之间电位差为0.4V或更高的区域，因此开放区域OP可以在整个GIP线路单元中形成，或者可以仅在异种金属之间电位差较大的部分区域中形成。此外，它不会因接触区域上方的绝缘膜(例如封装层和触摸传感器层)的有无而产生电化学腐蚀，从而提高了GIP线路单元的接触区域上方的封装层和触摸传感器层的设计自由度。

图11是示出根据本公开的一个示例性实施例的柔性显示装置的第一光学区域的平面图。

图12是放大图11的区域X的视图。

首先，参照图11，第一光学区域DA1可包括中心区域910和位于中心区域910外周的边框区域920。

第一光学区域DA1可以包括多条水平线HL。位于边框区域920中的晶体管和位于中心区域910中的发光二极管可通过多条水平线HL连接。

根据示例性实施例的柔性显示装置100可以包括布线结构940。布线结构940被包括成使得中心区域910可以被扩大预定区域a。这是因为位于预定区域a中的像素通过布线结构940连接到位于边框区域920中的晶体管。

第一光学区域DA1的包括布线结构940的结构将在下文中详细介绍。

参考图12，第一光学区域可包括设置在中心区域910和边框区域920中的多个发光二极管ED。第一光学区域包括多个发光二极管ED，以便第一光学区域可以显示屏幕。

第一光学区域可包括位于边框区域920中的多个晶体管1050。在中心区域910中，可以不设置晶体管1050。由于晶体管1050未位于中心区域910中，因此中心区域910可具有更高的透射率。

第一光学区域包括多个行，并且可以包括第一行R1和第二行R2。第一光学区域中包括的多行是水平跨过第一光学区域以由晶体管1050的图案限定的任意区域。

柔性显示装置可包括位于中心区域910且位于第一行R1的发光二极管ED和位于边框区域920且位于第二行R2的晶体管1050。

柔性显示装置可包括布线结构940，该布线结构将位于第一行R1的发光二极管ED和位于第二行R2的晶体管1050电连接起来。

位于不同行的晶体管1050和发光二极管ED可通过布线结构940连接。因此，位于其中晶体管1050多于发光二极管ED的行中的晶体管1050和位于其中设置发光二极管ED多于晶体管1050的行中的发光二极管ED可以相互连接。

中心区域910的第一行R1中所包括的发光二极管ED的数量远远大于中心区域910的第二行R2中所包括的发光二极管ED的数量。因此，为了驱动被包括在第一行R1中的发光二极管ED，需要更多数量的晶体管1050，而为了驱动被包括在第二行R2中的发光二极管ED，需要较少数量的晶体管1050。因此，在位于边框区域920的第二行R2中的晶体管1050中，未与位于第二行R2中的发光二极管ED电连接的多余晶体管1050可通过布线结构940与位于第一行R1中的发光二极管ED电连接。

在整个中心区域910中，每单位面积的像素数量可以基本相同。例如，当每单位面积的像素数量基本相同时，可能意味着在整个中心区域910中一个像素图案基本一致。因此，在具有比第二行R2大的与中心区域910重叠的面积的第一行R1中，可以设置更多数量的发光二极管ED。

例如，边框区域920的第一行R1中所包括的晶体管1050的数量可以与边框区域920的第二行R2中所包括的晶体管1050的数量基本相同。在本实施例中，如果中心区域910的第一行R1中所包括的发光二极管ED的数量较多，而中心区域910的第二行R2中所包括的发光二极管ED的数量较少，则第二行R2中包括的一些晶体管1050不与位于第二行R2中的发光二极管ED电连接，而是可以与位于第一行R1中的发光二极管ED电连接。

此外，在整个边框区域920中，每单位面积的晶体管1050数量基本相同。当每单位面积的晶体管图案基本相同时，可能意味着整个边框区域920中的一个晶体管图案基本一致。

边框区域920的与第一行R1重叠的区域d1可以与边框区域920的与第二行R2重叠的区域d2基本相同。在这样的示例中，位于边框区域920的第一行R1中的晶体管1050的数量可以与边框区域的第二行R2中的晶体管1050的数量基本相同。

当边框区域920如上所述配置时，位于边框区域920的一行中的晶体管1050的数量保持恒定，特定行中多余的晶体管可通过布线结构940电连接到另一行中多余的发光二极管。因此，根据示例性实施例的柔性显示装置可以具有比对比实施例的柔性显示装置更大的中心区域910。

本公开的示例性实施例还可描述如下：

根据本公开的一个方面，提供了一种柔性显示装置。所述柔性显示装置包括基板，基板包括分为光学区域和正常区域的显示区域以及分为弯曲区域和非弯曲区域的非显示区域。柔性显示装置还包括设置在基板上的第一绝缘膜。该显示装置还包括设置在非弯曲区域的第一绝缘膜上的布线线路。柔性显示装置还包括设置在布线线路上的第二绝缘膜。柔性显示装置还包括连接线，该连接线设置在非弯曲区域的第二绝缘膜上，并具有与布线线路连接的第一接触区域。柔性显示装置还包括设置在连接线上的第一平面化层。柔性显示装置还包括链接线，该链接线设置在第一平面化层上以延伸至弯曲区域，并具有与连接线相连的第二接触区域。柔性显示装置还包括第二平面化层，该第二平面化层设置在链接线上，并包括通过移除部分区域以露出链接线的第二接触区域而形成的开放区域。柔性显示装置还包括第三绝缘膜，所述第三绝缘膜设置在第二平面化层上，并填充在开放区域内。

第一绝缘膜可包括多缓冲层、有源缓冲层和栅极绝缘膜中的至少一层。多缓冲层、有源缓冲层和栅极绝缘膜可以是不同的层。

布线线路可包括“栅极在面板中”(GIP)线。

GIP线可包括延伸至驱动集成电路处以被施加信号的第一部分以及延伸至显示区域中的像素处以传输信号的第二部分。

GIP线由与显示区域中晶体管的栅电极相同的金属材料在与显示区域中晶体管的栅电极相同的层上形成。

第二绝缘膜可包括第一层间绝缘膜和第二层间绝缘膜。

连接线可通过至少一个第一接触孔与链接线的第二接触区域电连接，并通过至少一个第二接触孔与布线线路电连接。

连接线可由与显示区域中晶体管的源电极和漏电极相同的金属材料在与显示区域中晶体管的源电极和漏电极相同的层上形成。

第一平面化层可由聚酰亚胺(PI)基材料形成。

链接线可以连接在GIP线的连接到驱动IC的第一部分与GIP线的连接到显示区域的像素的第二部分之间。

链接线可由与显示区域的连接电极相同的金属材料在与显示区域的连接电极相同的层上形成。

第二平面化层可由光丙烯酸(PAC)基材料形成。

第三绝缘膜可包括堤部。

该堤部可由聚酰亚胺(PI)基材料形成。

柔性显示装置可进一步包括光学电子装置，所述光学电子装置位于基板下方并与光学区域重叠。

光学区域可包括非透射区域和透射区域，透射区域是通过移除包括阴极电极的不透明电极形成的，光学电子装置位于透射区域内。

尽管已参照附图详细描述了本公开的示例性实施例，但本公开并不局限于此，而是在不脱离本公开的技术概念的情况下可以以多种不同的形式体现。因此，本公开的示例性实施例仅出于说明目的而提供，而不旨在限制本公开的技术概念。本公开的技术概念范围并不局限于此。因此，应当理解的是，上述示例性实施例在所有方面都是说明性的，并不限制本公开。本公开的保护范围应根据以下权利要求进行解释，其等同范围内的所有技术概念应解释为落入本公开的范围内。

Claims (21)

1.一种柔性显示装置，包括：

基板，其包括显示区域和非显示区域，所述显示区域具有光学区域和主区域，且所述非显示区域具有弯曲区域和非弯曲区域；

设置在所述基板上的第一绝缘膜；

设置在所述非弯曲区域的所述第一绝缘膜上的布线线路；

设置在所述布线线路上的第二绝缘膜；

连接线，其设置在所述非弯曲区域的所述第二绝缘膜上并具有与所述布线线路连接的第一接触区域；

设置在所述连接线上的第一平面化层；

链接线，其设置在所述第一平面化层上以延伸至所述弯曲区域，并具有与所述连接线相连的第二接触区域；

第二平面化层，其设置在所述链接线上并包括通过去除部分区域以暴露所述链接线的所述第二接触区域而形成的开放区域；以及

设置在所述第二平面化层上并被填充在所述开放区域中的第三绝缘膜。

2.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其中所述第一绝缘膜包括多缓冲层、有源缓冲层和栅极绝缘膜中的至少一个，

其中所述多缓冲层、有源缓冲层和栅极绝缘膜为不同的层。

3.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其中，所述布线线路包括栅极在面板中(GIP)线。

4.根据权利要求3所述的柔性显示装置，其中所述GIP线包括延伸至驱动集成电路(IC)以被施加信号的第一部分和延伸至所述显示区域中的像素以传送信号的第二部分。

5.根据权利要求3所述的柔性显示装置，其中所述GIP线由与所述显示区域中的晶体管的栅电极相同的金属材料在与所述显示区域中的晶体管的栅电极相同的层上形成。

6.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其中所述第二绝缘膜包括第一层间绝缘膜和第二层间绝缘膜。

7.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其中所述连接线通过至少一个第一接触孔与所述链接线的所述第二接触区域电连接，并通过至少一个第二接触孔与所述布线线路电连接。

8.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其中，所述连接线由与所述显示区域中的晶体管的源电极和漏电极相同的金属材料在与所述显示区域中的晶体管的源电极和漏电极相同的层上形成。

9.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其中所述第一平面化层包括聚酰亚胺(PI)基材料。

10.根据权利要求4所述的柔性显示装置，其中所述链接线将所述GIP线的连接到驱动IC的所述第一部分连接到所述GIP线的连接到所述显示区域的像素的所述第二部分。

11.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其中所述链接线由与所述显示区域中的连接电极相同的金属材料在与所述显示区域中的连接电极相同的层上形成。

12.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其中所述第二平面化层包括光丙烯酸(PAC)基材料。

13.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其中所述第三绝缘膜包括堤部。

14.根据权利要求13所述的柔性显示装置，其中所述堤部包括聚酰亚胺(PI)基材料。

15.根据权利要求1所述的柔性显示装置，进一步包括：设置在所述基板下方以与所述光学区域重叠的光学电子装置。

16.根据权利要求15所述的柔性显示装置，其中所述光学区域包括非透射区域和透射区域，所述透射区域通过移除包括阴极电极的不透明电极而形成，且所述光学电子装置位于所述透射区域中。

17.根据权利要求15所述的柔性显示装置，其中穿过所述光学区域的水平线避开所述光学区域中的透射区域。

18.根据权利要求17所述的柔性显示装置，其中穿过所述光学区域的所述水平线包括迂回到所述透射区域的外边缘之外的弯曲部段或弯折部段。

19.根据权利要求15所述的柔性显示装置，其中穿过所述光学区域的竖直线避开所述光学区域中的透射区域。

20.根据权利要求19所述的柔性显示装置，其中穿过所述光学区域的所述竖直线包括迂回到所述透射区域的外边缘之外的弯曲部段或弯折部段。

21.根据权利要求15所述的柔性显示装置，其中所述光学区域包括中心区域和位于所述中心区域的外周上的边框区域，

所述光学区域还包括设置在所述中心区域和所述边框区域中的多个发光二极管和位于所述边框区域中的多个晶体管，

所述边框区域的第一行中所包括的晶体管的数量与所述边框区域的第二行中所包括的晶体管的数量实质上相同，

所述中心区域的第一行中所包括的发光二极管的数量不同于所述中心区域的第二行中所包括的发光二极管的数量，并且，

一行中多余的晶体管通过布线结构电连接到另一行中多余的发光二极管。