CN117891016A - 光扩散膜的制作方法、光扩散膜及光扩散膜浮印设备 - Google Patents

Abstract

涉及光扩散膜的制作方法、光扩散膜及光扩散膜浮印设备，该制作方法包括：S1、提供水性的光扩散涂料和扩散粒子，扩散粒子密度低于光扩散涂料，使扩散粒子能够飘浮于光扩散涂料的液体表面；S2、以光扩散涂料为溶剂，浮印扩散粒子在基膜上；其中，光扩散涂料在浮印池中流动，扩散粒子随光扩散涂料在液面泳动，基膜的浮印移动方向与扩散粒子的泳动方向夹角小于或等于30°，使浮于光扩散涂料表面的扩散粒子被光扩散涂料推动，流动并粘附至基膜的表面。使用密度低于光扩散涂料的扩散粒子，通过浮力作用，使扩散粒子均匀分散在光扩散涂料液面，从而使浮印制备的光扩散膜具有均匀分散的扩散粒子，具有良好的光扩散性能。

Description

光扩散膜的制作方法、光扩散膜及光扩散膜浮印设备

技术领域

本申请涉及发光装置或其系统的光扩散组件的技术领域，尤其是涉及一种光扩散膜的制作方法、光扩散膜及光扩散膜浮印设备，可应用于新能源产业。

背景技术

光扩散膜被广泛的应用在显示屏和光源等领域，能够通过折射入射光，从而将点状光源和线状光源转变为均匀的面光源，从而达到光学扩散的效果，光扩散膜的制备通常使用在基膜上涂覆带有扩散颗粒的涂料，使扩散颗粒附着在基膜表面，用于折射入射光，以达到扩散光线的目的。

目前光扩散膜使用的扩散涂料通常使用油性涂料制备扩散膜，但油性涂料通常污染较大，为此水性的光扩散膜涂料逐渐开始得到使用，发明专利公告号CN11425032A公开了一种水性扩散膜涂料的加工方法及其涂布方法，准备质量分数为70～95份的水性聚氨酯环境，以350微米波长的超声波持续震荡搅拌，随后加入质量分数为0.5～0.8份的纳米二氧化钛，升温至45°C并持续震荡搅拌，再取质量分数0.2～4份的光扩散粒子，加入质量分数为0.6～9份的乙醇凝胶中，并2000微米波长的超声波震荡搅拌15min，最后充分混合并降温获得成品，涂布时，阵列设置挤出头，配置有对应的独立超声搅拌组件和加热组件并辅以旋转刮片机构和平板刮片机构，并在烘干前增加阴干步骤，完成完整的成膜涂布动作；纳米二氧化钛会随着加工过程逐渐沉积，在加工后期容易在涂料中分布不均，导致光扩散膜的性能下降。

发明专利公告号CN114958113A公开了一种耐湿热、高硬度的水性光学扩散膜涂层及其制备方法，以PET为基体涂料，以水为稀释剂，以改性二氧化硅为填料与改性剂，该专利通过搅拌的方式，将改性二氧化硅加入至水性羟基丙烯酸树脂制备得到的透明光油中搅拌，以得到水性光学扩散膜涂层；但由于改性二氧化硅细粉粒径较小，难以分散并且容易聚集，无法获得分散程度较好的水性光学扩散膜涂层。

发明内容

为了解决水性扩散膜无法较好的分散扩散粒子的问题，本申请是提供了一种光扩散膜的制作方法、光扩散膜及光扩散膜浮印设备。

第一方面，本申请提供的一种光扩散膜的制作方法采用如下的技术方案：

一种光扩散膜的制作方法，包括：

S1、提供水性的光扩散涂料及扩散粒子，所述扩散粒子密度低于光扩散涂料，使所述扩散粒子能够飘浮于所述光扩散涂料的液体表面；

S2、以所述光扩散涂料为溶剂，浮印所述扩散粒子在基膜上；

其中，所述光扩散涂料在浮印池中流动，所述扩散粒子随所述光扩散涂料在液面漂流泳动，所述基膜的浮印移动方向与所述扩散粒子的泳动方向夹角小于或等于30°，使浮于光扩散涂料表面的扩散粒子被光扩散涂料推动，以粘附至所述基膜的表面。

通过采用上述技术方案，相比于油性的光扩散涂料，水性光扩散涂料由于粘性较低，在分散不溶的扩散粒子时，会由于无法提供足够的支撑和稳定，导致分散粒子容易聚沉，导致分散不均，进而使制备的光扩散膜上无法均匀分布上扩散粒子，导致光扩散膜所扩散的光线不均匀，但油性的光扩散涂料不仅污染较大，而且成本也偏高。

通过使用水性的光扩散涂料，并且在光扩散涂料上漂浮上密度低于光扩散涂料的扩散粒子，由于重力和浮力的相互作用下，堆叠的扩散粒子会散落至光扩散涂料表面，扩散粒子和光扩散涂料之间的浮力会将扩散粒子维持在同一平面，从而扩散粒子会较为均匀的、聚集程度较小的分散在光扩散涂料表面，再通过将均匀分散的扩散粒子通过浮印转移粘附到基膜表面，使基膜表面的扩散粒子也分布均匀，从而使光扩散膜通过分布均匀的扩散粒子折射获得均匀的扩散光线。

在具体的浮印过程中，光扩散涂料在浮印池中流动，从而带动漂浮在光扩散涂料表面的扩散粒子泳动，在扩散粒子泳动方向上，基膜从光扩散涂料内部向外部移动，并且移动方向与扩散粒子的泳动方向夹角等于小于30°，基膜在穿出光扩散涂料表面时，会将接触到的扩散粒子粘附到基膜表面，等于小于30°的移动夹角，使扩散粒子在粘附上基膜后，不易滑落，保持扩散粒子在基膜上保持稳定，此外，由于扩散粒子在光扩散涂料上分散均匀，并且光扩散涂料和基膜持续移动，使粘附转移到基膜上的扩散粒子能够保持在光扩散涂料上的均匀分布状态，保障了基膜上的扩散粒子均匀分布；而光扩散涂料也会部分粘附与基膜表面，而无法粘附上基膜的光扩散涂料重新流下至浮印池中，粘附上基膜的涂料能够通过与基膜的粘结力维持基膜上的扩散粒子稳定，并且能够在后续加工中用于将扩散粒子固定在基膜上；通过浮印制备光扩散膜，免除了混合光扩散涂料和扩散粒子的过程，并且能够连续加工，在保障了光扩散膜的扩散粒子分布均匀的同时，使制备过程也更为简便、快捷。

可选的，步骤S2中，所述光扩散涂料在所述浮印池中循环流动，所述扩散粒子持续加入所述光扩散涂料中，所述扩散粒子在浮印区为分散状态。

通过采用上述技术方案，由于在浮印过程中，只有部分光扩散涂料会粘附至基膜上，部分光扩散涂料只用于运送扩散粒子，并且由于浮印工艺的设置，有可能大部分的光扩散涂料无法粘附到基膜上，因此，将光扩散涂料循环流动，使光扩散涂料能够被充分使用；虽然光扩散涂料会有大部分被重复利用，但扩散粒子会大部分粘结上基膜，因此需要在循环的光扩散涂料中持续加入扩散粒子，使光扩散涂料表面能够重新漂浮上足够的光扩散涂料，使浮印加工能够连续运行，但由于新加入的扩散粒子分散程度较低，需要额外的分散装置将扩散粒子在进入浮印区时分散均匀，从而保障扩散粒子在基膜上均匀分布。

可选的，步骤S2中，所述扩散粒子流动至浮印区前，先通过设置在所述光扩散涂料的液面表面的粒子通道，用于隔离聚集或下沉的扩散粒子，所述光扩散涂料流动至浮印区前先通过筛网，所述筛网用于筛除光扩散涂料中的浮动杂质，避免对漂浮的扩散粒子造成干扰。

通过采用上述技术方案，通过设置粒子通道的通道大小，能够使光扩散涂料表面的扩散粒子只能单独或以小颗粒团聚的方式通过，而聚集的扩散粒子无法一同经过粒子通道，从而使扩散粒子只能以分散的状态穿过粒子通道，使扩散粒子以分散均匀的状态进行浮印，筛网用于除去光扩散涂料中的杂质，避免杂质水光扩散涂料粘附在基膜表面，有利于保障光扩散膜的质量稳定。

可选的，步骤S2中，所述扩散粒子的泳动速度接近于所述基膜的浮印移动速度，使所述扩散粒子均匀散布在所述基膜的表面。

通过采用上述技术方案，扩散粒子的泳动速度过慢会导致基膜上的扩散粒子过于分散，导致光扩散膜的性能下降，而扩散粒子的泳动速度过大，会导致扩散粒子在基膜接触处堆积，导致基膜粘附扩散粒子的过程难以控制，基膜上的扩散粒子分布不稳定，影响光扩散膜的性能。

可选的，还包括：

S3、烘干已完成浮印的基膜，以使在所述基膜上的光扩散涂料沾粘固定所述扩散粒子的底部；

S4、喷涂第二光扩散涂料在所述基膜的表面，所述第二光扩散涂料覆盖所述扩散粒子的顶面。

通过采用上述技术方案，通过烘干使涂料中的水分挥发，从而使涂料能够沾粘住基膜和扩散粒子，使扩散粒子在基膜上完成固定，在完成固定后的基膜表面进行喷涂，使扩散粒子不会被喷涂影响，并且由通过在扩散粒子覆盖地而光扩散涂料，能够保护扩散粒子在使用过程中不会被刮落损坏，能够在长时间使用过程中保持扩散性能的稳定。

第二方面，本申请提供的一种光扩散膜采用如下的技术方案：

一种光扩散膜，基于上述的一种光扩散膜的制作方法制得，其中固着在所述基膜的表面的所述扩散粒子为均匀密集的单层排列。

通过采用上述技术方案，通过上述制作方法制得的光扩散膜，具有分散均匀的扩散粒子，从而具有较佳的光扩散性能，能够将点光源或线光源在经过扩散粒子折射之后，获得均匀的面光源。

第三方面，本申请提供的一种光扩散膜浮印设备采用如下的技术方案：

一种光扩散膜浮印设备，用于上述中任一项的一种光扩散膜的制作方法，该浮印设备包括：

浮印池，供光扩散涂料流动，所述浮印池两端具有涂料入口及涂料出口；

粒子供给装置，用于提供扩散粒子至所述浮印池；

传送装置，用于移动所述基膜，所述基膜在所述传送装置上的移动方向与所述扩散粒子在所述浮印池内的泳动方向等于或小于30°，用于使浮于光扩散涂料液面的扩散粒子在光扩散涂料推动下泳动并粘附至所述基膜的表面。

通过采用上述技术方案，光扩散涂料从浮印池的涂料入口进入，并且通过粒子供给装置向浮印池中补充扩散粒子，使浮印能够持续进行，基膜以光扩散涂料移动方向等于或小于30°的方向移动，使扩散粒子在基膜上能够承受较小的向下滑动力，避免角度过大导致扩散粒子从基膜上滑落，扩散粒子在光扩散涂料推动下泳动至基膜上，使扩散粒子能够保持分散状态从浮印池中浮印到基膜表面。

可选的，所述涂料入口和所述涂料出口连通，用于使多余的光扩散涂料循环利用。

通过采用上述技术方案，通过连通涂料入口和涂料出口，使光扩散涂料能够循环流动，由于只有少部分光扩散涂料沾粘至基膜上，大部分光扩散涂料能够被回收重新用于运送或沾粘扩散粒子，提高光扩散涂料的利用率。

可选的，所述浮印池还包括筛网，所述筛网设于所述传送装置与所述粒子供给装置之间，所述筛网用于筛除光扩散涂料中的杂质。

通过采用上述技术方案，为了将扩散粒子均匀分散在光扩散涂料表面，使扩散粒子流过粒子通道，从而扩散粒子能够在光扩散涂料表面分散均匀，而筛网能够过滤掉光扩散涂料中的杂质，以防杂质随浮印沾粘至基膜表面，影响光扩散膜的性能。

可选的，所述传送装置包括基膜轴、进料导轨及浮印轨道，所述基膜轴用于放置待浮印的基膜卷材，所述浮印轨道用于移动所述基膜穿过光扩散涂料表面，使基膜完成浮印，所述进料导轨连接所述基膜轴与浮印轨道，用于传送基膜，所述基膜轴与进料导轨的位于所述传送装置靠近所述涂料出口的一侧，使所述基膜进料不会阻碍所述扩散粒子泳动。

通过采用上述技术方案，基膜轴用于使浮印设备能够使用卷材进行加工，通过进料导轨传送卷材基膜至浮印轨道，从而实现连续浮印，进料导轨和基膜轴设置于传送装置靠近涂料出口一侧，使基膜进料过程不会阻碍光扩散涂料的流动，保障浮印过程的顺利进行。

综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：

1.利用浮印在基膜上沾粘上扩散粒子，由于扩散粒子的密度小于光扩散涂料，从而使扩散粒子能够漂浮于光扩散涂料表面，漂浮的状态能够使扩散粒子易于均匀分散在光扩散涂料表面，通过光扩散涂料的流动和基膜的移动，使扩散粒子能够保持均匀分散的状态沾粘至基膜上，从而在基膜上沾粘上均匀分散的扩散粒子，有利于提高光扩散膜的散射光线的均匀；

2.由于浮印能够使基膜从光扩散涂料表面沾粘扩散粒子，因此无需充分混合光扩散涂料和扩散粒子，只需将扩散粒子分散在光扩散涂料表面即可完成浮印，简化了制备光扩散膜的步骤，并且通过基膜的移动和光扩散涂料的流动，能够使浮印过程连续进行，提高了光扩散膜的制备效率；

3.通过设置粒子通道，使光扩散涂料表面的扩散粒子只能单独或以小颗粒团聚的方式通过，并且通过粒子通道的扩散粒子在无外力的作用下，无法再次聚集，从而使扩散粒子在浮印区均匀分散，而浮印能够将这种均匀分散的状态转移至基膜表面，从而使制得的光扩散膜具有分散均匀的扩散粒子。

附图说明

图1是本申请实施例的光扩散膜的制作方法的流程示意图；

图2是图1中步骤S1的状态图；

图3是图1中步骤S2的状态图；

图4是图1中步骤S3的侧视状态图；

图5是图1中步骤S3的上视状态图；

图6是图1中步骤S4的状态图；

图7是本申请实施例的光扩散膜浮印设备的整体结构示意图；

图8是图7中光扩散膜浮印设备的剖切示意图；

附图标记：1、扩散粒子；2、光扩散涂料；3、基膜；4、第二光扩散涂料；10、浮印池；11、涂料入口；12、涂料出口；13、浮印板；14、循环通道；16、筛网；20、传送装置；21、浮印轨道；22、基膜轴；23、进料导轨；24、转向轴；25、送料轨道；26、收卷轴；30、粒子供给装置；31、涂料管；32、粒子喷洒口；40、烘干室；50、喷涂室；60、固化室。

具体实施方式

以下结合实施例对本申请作进一步详细说明。

参照图1，本申请公开了一种光扩散膜的制作方法，包括：

S1、提供水性的光扩散涂料2和扩散粒子1，参照图2，所述扩散粒子1密度低于光扩散涂料2，使所述扩散粒子1能够飘浮于所述光扩散涂料2的液体表面。

具体地，水性的光扩散涂料2为以水为溶剂，以水性树脂为溶质的溶液，由于水性树脂虽然具有亲水基团，但由于分子链过大，依然难溶于水，因此需要通过乳化剂将水和水性树脂形成乳化，从而使水性树脂能够均匀分散在水中，形成水性的光扩散涂料2。

更具体的，水性的光扩散涂料2包括水性聚氨酯、水性树脂、乳化剂、抗静电剂和去离子水，所述水性聚氨酯、乳化剂、抗静电剂和去离子水的质量比为1：（0.3-0.1）：（0.15-0.23）：（5-19），通过乳化剂将水性聚氨酯和聚丙烯树脂混合分散至去离子水中，并且通过抗静电剂使光扩散涂料2，抗静电剂能够排去涂料中的静电，使静电不会在涂料中吸附灰尘，并且能够避免静电对浮印的影响；所述扩散粒子1为PP树脂、聚乙烯、聚丙烯和聚丁烯中的一种或多种，所述扩散粒子1的粒径大小为1-30μm，通过使用密度小于水的有机聚合物作为扩散粒子1，使扩散粒子1能够浮于光扩散涂料2表面。

S2、以光扩散涂料2为溶剂，浮印扩散粒子1在基膜3上。

参照图3，光扩散涂料2在浮印池中流动，扩散粒子1随光扩散涂料2在水面流动，基膜3的浮印移动方向与扩散粒子1的泳动方向夹角小于或等于30°，使浮于光扩散涂料2表面的扩散粒子1被光扩散涂料2推动，流动并粘附至基膜3的表面；通过漂浮物在液面上会呈分散状态，使扩散粒子1能够较好的分散在光扩散涂料2的表层，而通过浮印能够将这种分散状态维持到基膜3表面，从而使扩散粒子1能够在基膜3表面分散均匀。

更具体地，扩散粒子1流动至浮印区前，先通过设置在液面表面的粒子通道，粒子通道的尺寸为35-40μm，通过粒子通道分散扩散粒子1，保证浮印到基膜3上的扩散粒子1呈分散状态，所述光扩散涂料2流动至浮印区前先通过筛网，所述筛网用于筛除光扩散涂料2中的杂质，从而确保基膜3在浮印过程中不会沾粘杂物。

S3、烘干已完成浮印的基膜3，参照图4和5，以使所述光扩散涂料2的残余物沾粘固定所述扩散粒子1的底部。

具体地，烘干时间为在100-120℃温度下烘干5-10min。

S4、喷涂第二光扩散涂料4在所述基膜3的表面，参照图6，所述第二光扩散涂料4覆盖所述扩散粒子1的顶面。

具体地，第二光扩散涂料4为聚氨酯丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚氨酯中的一种，喷涂厚度为50-100μm，通过UV固化对第二光扩散涂料4进行固化，使扩散粒子1表面能够覆盖一层保护涂层，增加光扩散膜的耐磨性的同时，保护扩散粒子1不会因外力脱落或移动，保障光扩散膜长时间使用的稳定性。

参照图7至图8，本申请公开了一种光扩散膜浮印设备包括浮印池10、传送装置20、粒子供给装置30、烘干室40、喷涂室50和固化室60，所述浮印池10供光扩散涂料2在其中流动，扩散粒子1漂浮在光扩散涂料2表面，并随着光扩散涂料2泳动，浮印池10为双层结构，其中下层为循环通道14，通过循环通道14通过在浮印池10前后两侧开设的涂料入口11和涂料出口12连通与上层连通，从而实现了光扩散涂料2在浮印池10中的循环流动；在浮印池10的上部安装有传送装置20，用于传送基膜3，传送装置20包括浮印轨道21、基膜轴22、进料导轨23、转向轴24、送料轨道25和收卷轴26，基膜轴22用于存放基膜卷材，进料导轨23将基膜卷材传送至浮印轨道21，在浮印轨道21上基膜3沾粘上扩散粒子1，进料导轨23从浮印池10外部穿入浮印池10内，并通过转向轴24与浮印轨道21连接，将基膜3从粘贴面朝下转为粘贴面朝上，从而使扩散粒子1能够沾粘在基膜3的上表面，基膜3在浮印池10内转变方向，能使基膜3运输过程中不阻碍光扩散涂料2与扩散粒子1在浮印池10内的流动，浮印轨道21连接送料轨道25，送料轨道25将完成浮印的基膜3分别传送经过烘干室40、喷涂室50和固化室60，使基膜通过烘干，喷涂第二光扩散涂料4以及固化后得到光扩散膜，将得到的光扩散膜通过收卷轴26进行收卷，从而完成光扩散膜的制备过程；

参照图7至图8，由于光扩散涂料2在浮印池10中循环流动，并且会沾粘扩散粒子1和部分光扩散涂料2至基膜3上，因此需要在浮印池中持续补充扩散粒子1和光扩散涂料2，粒子供给装置30安装在浮印池10靠近涂料入口11的一侧上方，粒子供给装置30还包括涂料管31和粒子喷洒口32，涂料管31深入至光扩散涂料2的液面以下，用于补充光扩散涂料2，粒子喷洒口32用于将扩散粒子1分散的喷洒在光扩散涂料2上，使扩散粒子1能够更好的处于分散状态；浮印池10还包括筛网16及浮印板13；浮印板13设置于靠近浮印轨道21处，使扩散粒子1能够随着光扩散涂料2流下浮印板13，并流落至基膜3表面，扩散粒子1在接触到基膜3表面后，会粘附在基膜3表面，部分光扩散涂料2也会粘附在基膜3表面，多余的光扩散涂料2则从涂料出口12流至循环通道14；粒子通道安装在浮印轨道21和粒子供给装置30之间的光扩散涂料2表面，虽然粒子供给装置30能够分散扩散粒子1，但依然会存在少量堆积，通过设置筛网16，使筛网16的上方形成粒子通道，粒子通道能够通过控制通过粒子的大小，使少量堆积的扩散粒子1无法通过，从而在粒子通道的阻碍和光扩散涂料2的推动下散开，从而使经过粒子通道的扩散粒子1都为分散的状态，筛网16安装在粒子通道的下方，筛网16只能使光扩散涂料2通过，从而隔绝光扩散涂料2中的装置接近基膜3，避免杂质沾粘在基膜3上导致光扩散膜的性能下降。

本申请实施例的实施原理为：光扩散涂料2在浮印池10中循环流动，光扩散涂料2表面漂浮有扩散粒子1，扩散粒子1也随着光扩散涂料2流动而泳动，扩散粒子1在泳动到基膜3前，需通过粒子通道，粒子通道的大小只能供单个较大的扩散粒子1通过或几个较小的扩散粒子1通过，因此聚集的扩散粒子1无法一同通过粒子通道，在光扩散涂料2的推动下，聚集的扩散粒子1无法经过粒子通道，只会冲撞上粒子通道，并且在冲击下被打散，散落后的扩散粒子1才能在光扩散涂料2的推动下，通过粒子通道，分散的扩散粒子1在流至基膜3时，随着基膜3沿浮印轨道21向上移动，将贴到基膜3的扩散粒托起，并轻微沾粘至基膜3上，使扩散粒子1从随着光扩散涂料2移动至随着基膜3移动，在扩散粒子1和基膜3的空隙之间，有少部分光扩散涂料2也沾粘上基膜3，用于在后续干燥后将扩散粒子1固定在基膜3表面；完成沾粘扩散粒子1的基膜3在送料轨道25传送下依次经过烘干室40、喷涂室50和固化室60，使基膜3通过烘干，喷涂第二光扩散涂料4以及固化后得到光扩散膜，将得到的光扩散膜通过收卷轴26进行收卷，从而完成光扩散膜的制备过程；而在光扩散涂料2流过基膜3后，部分未沾粘上基膜3的扩散粒子1会聚集在涂料出口12的顶部，能够在此处收集多余的扩散粒子1，而光扩散涂料2则会通过涂料出口12流入循环通道14，重新从涂料入口11流入浮印池10上层，在重新添加扩散粒子1和光扩散涂料2后，重新进行浮印操作。

本申请实施方式还提供实施例1、2和对比例1。

实施例1、2和对比例1使用的基膜3为PET薄膜，水性聚氨酯为聚己二酸己二醇酯二醇和赖氨酸二异氰酸酯在水性扩链剂二羟甲基丙酸制备而成，乳化剂为十二烷基硫酸钠，抗静电剂为酰胺磷酸酯，扩散粒子1为PP树脂，过800目筛，第二光扩散涂料4为聚氨酯丙烯酸酯。

实施例1使用第二实施例的光扩散膜的制作方法制备光扩散膜。

量取1000g水性聚氨酯、30g十二烷基硫酸钠、150g酰胺磷酸酯和5kg去离子水，混合制备光扩散涂料2；通过光扩散膜浮印装置将扩散粒子1浮印至基膜3表面，所述基膜3表面的，将浮印完成的基膜3在120℃烘干5min后，使用聚氨酯丙烯酸酯在基膜3表面喷涂保护涂层，喷涂厚度50μm，喷涂完成后UV固化1min，得到光扩散膜。

实施例2使用第二实施例的光扩散膜的制作方法制备光扩散膜。

量取1000g水性聚氨酯、100g十二烷基硫酸钠、230g酰胺磷酸酯和19kg去离子水，混合制备光扩散涂料2；通过光扩散膜浮印装置将扩散粒子1浮印至基膜3表面，扩散粒子1在基膜3，将浮印完成的基膜3在100℃烘干10min后，使用聚氨酯丙烯酸酯在基膜3表面喷涂保护涂层，喷涂厚度100μm，喷涂完成后UV固化1min，得到光扩散膜。

对比例1，使用涂布机制备光扩散膜。

与实施例1的区别在于不使用浮印，而使用涂布机制备光扩散膜，将扩散粒子1加入光扩散涂料2中，通过搅拌、超声令扩散粒子1在光扩散涂料2中分布均匀后，使用涂布机将光扩散涂料2和扩散粒子1涂布在基膜3表面，以制得光扩散膜。

对实施例1、2及对比例1进行透光性和雾度测试。

透光性测试：使用透光性测试仪测量光扩散膜的透光率。

雾度测试：使用雾度仪测量光扩散膜的雾度。

表1 实施例1、2及对比例1的测试结果

参照表1能够看出，实施例1和实施例2都具有较佳的透光度和雾度，表明通过浮印制作的光扩散膜能够在保证透光性能良好的同时，能够较好的散发光线，而对比例1的透光度和雾度相比实施例1和2都有一定程度的下降，其中雾度的下降程度较高，表明使用涂布机制备的光扩散膜虽然能够保持较好的透光性能，但无法将光线较好的分散；通过使用本申请的光扩散膜制备方法和制备设备制造的光扩散膜具有均匀分散的扩散粒子1，从而能够在使用扩散粒子1较少，保障透光度的同时提高光线的分散程度，从而获得较好的雾度。

本具体实施方式的实施例均为本申请的较佳实施例，并非依此限制本申请的保护范围，其中相同的零部件用相同的附图标记表示。故：凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本申请的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种光扩散膜的制作方法，其特征在于，包括：

S1、提供水性的光扩散涂料及扩散粒子，所述扩散粒子密度低于光扩散涂料，使所述扩散粒子能够飘浮于所述光扩散涂料的液体表面；

S2、以所述光扩散涂料为溶剂，浮印所述扩散粒子在基膜上；

其中，所述光扩散涂料在浮印池中流动，所述扩散粒子随所述光扩散涂料在液面漂流泳动，所述基膜的浮印移动方向与所述扩散粒子的泳动方向夹角小于或等于30°，使浮于光扩散涂料表面的扩散粒子被光扩散涂料推动，以粘附至所述基膜的表面。

2.根据权利要求1所述的光扩散膜的制作方法，其特征在于，步骤S2中，所述光扩散涂料在所述浮印池中循环流动，所述扩散粒子持续加入所述光扩散涂料中，所述扩散粒子在浮印区为分散状态。

3.根据权利要求1所述的光扩散膜的制作方法，其特征在于，步骤S2中，所述扩散粒子流动至浮印区前，先通过设置在所述光扩散涂料的液面表面的粒子通道，用于隔离聚集或下沉的扩散粒子，所述光扩散涂料流动至浮印区前先通过筛网，所述筛网用于筛除光扩散涂料中的浮动杂质，避免对漂浮的扩散粒子造成干扰。

4.根据权利要求1所述的光扩散膜的制作方法，其特征在于，步骤S2中，所述扩散粒子的泳动速度接近于所述基膜的浮印移动速度，使所述扩散粒子均匀散布在所述基膜的表面。

5.根据权利要求1所述的光扩散膜的制作方法，其特征在于，还包括：

S3、烘干已完成浮印的基膜，以使在所述基膜上的光扩散涂料沾粘固定所述扩散粒子的底部；

S4、喷涂第二光扩散涂料在所述基膜的表面，所述第二光扩散涂料覆盖所述扩散粒子的顶面。

6.一种光扩散膜，其特征在于，基于如权利要求1-5中任一项所述的一种光扩散膜的制作方法制得，其中固着在所述基膜的表面的所述扩散粒子为均匀密集的单层排列。

7.一种光扩散膜浮印设备，用于实施如权利要求1-5中任一项所述的一种光扩散膜的制作方法，其特征在于，该浮印设备包括：

浮印池（10），供光扩散涂料流动，所述浮印池（10）两端具有涂料入口（11）及涂料出口（12）；

粒子供给装置（30），用于提供扩散粒子至所述浮印池（10）；

传送装置（20），用于移动所述基膜，所述基膜在所述传送装置（20）上的移动方向与所述扩散粒子在所述浮印池（10）内的泳动方向等于或小于30°，用于使浮于光扩散涂料液面的扩散粒子在光扩散涂料推动下泳动并粘附至所述基膜的表面。

8.根据权利要求7所述的光扩散膜浮印设备，其特征在于，所述涂料入口（11）及所述涂料出口（12）连通，用于使多余的光扩散涂料循环利用。

9.根据权利要求8所述的光扩散膜浮印设备，其特征在于，所述浮印池（10）还包括筛网（16），所述筛网（16）设于所述传送装置（20）与所述粒子供给装置（30）之间，所述筛网（16）用于筛除光扩散涂料中的杂质。

10.根据权利要求7所述的光扩散膜浮印设备，其特征在于，所述传送装置（20）包括基膜轴（22）、进料导轨（23）及浮印轨道（21），所述基膜轴（22）用于放置待浮印的基膜卷材，所述浮印轨道（21）用于移动所述基膜穿过光扩散涂料表面，使基膜完成浮印，所述进料导轨（23）连接所述基膜轴（22）与浮印轨道（21），用于传送基膜，所述基膜轴（22）与进料导轨（23）的位于所述传送装置（20）靠近所述涂料出口（12）的一侧，使所述基膜进料不会阻碍所述扩散粒子泳动。