CN117848980A - 化学品测试设备和基底加工设备 - Google Patents
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Abstract
提供一种用于测试用于加工基底的化学品的化学品测试设备和一种基底加工设备,所述化学品测试设备包括:第一管线,提供入口和通道,通过所述入口引入所述化学品,所述化学品通过所述通道移动;第二管线,具有连接到所述第一管线的两个分开的点的一端和另一端,并且提供填充有引入所述第一管线中的所述化学品的通道;排放管线,连接到所述第一管线的下端;以及阀,至少在所述第一管线的连接到所述第二管线的部分下方设置在所述第一管线和所述排放管线之间,以打开或关闭供所述化学品从所述第一管线移动到所述排放管线的通道。
Description
相关申请的交叉引用
本申请要求于2022年10月5日在韩国知识产权局提交的第10-2022-0127299号韩国专利申请的权益,该韩国专利申请的公开内容通过引用整体并入本文中。
技术领域
本发明涉及一种半导体设备,并且更具体地,涉及一种化学品测试设备和一种基底加工设备。
背景技术
在基底上执行诸如光刻、蚀刻、灰化、离子注入、沉积和清洁的各种工艺以制造半导体装置,并且各种基底加工设备用于这些工艺。为了半导体装置的更高的性能,电路图案变得越来越精细和密集,并且残留在基底的表面上的诸如颗粒、有机物质和金属的污染物可能对半导体装置的特性和生产良率产生重大影响。因此,需要清洁工艺来去除基底的表面上的各种工艺材料和污染物,并且可以在半导体制造过程的每个单元工艺中清洁基底。
为了清洁每个基底,可以依次执行化学处理、冲洗和干燥。在化学处理步骤中去除残留在基底上的金属、有机物质、颗粒等,在冲洗步骤中使用诸如去离子(DI)水的冲洗溶液去除残留在基底上的化学品,并且在干燥步骤中使用氮气或诸如异丙醇(IPA)的有机溶剂使基底干燥。
除了基底清洁工艺之外,在各种工艺中还使用化学品来加工基底。一般而言,对于基底加工,可以使用一种化学品,并且然后可以紧随使用另一种化学品的工艺,而不是仅使用单一化学品。因此,为了测试针对每种工艺供应的化学品,需要对化学品执行污染物测试或成分测试等。另外,需要能够增加化学品测试的便利性和可靠性的测试结构和测试方法。
发明内容
本发明提供一种能够通过对没有气泡的化学品执行化学品测试来增加化学品测试的便利性和可靠性的化学品测试设备,以及一种使用化学品测试设备的基底加工设备。
本发明还提供一种能够通过防止化学品的污染来增加测量的精度的化学品测试设备,以及一种使用化学品测试设备的基底加工设备。
然而,以上描述是示例,并且本发明的范围不限于此。
根据本发明的一方面,提供一种化学品测试设备,所述化学品测试设备用于测试用于加工基底的化学品,所述化学品测试设备包括:第一管线,提供入口和通道,通过所述入口引入所述化学品,所述化学品通过所述通道移动;第二管线,具有连接到所述第一管线的两个分开的点的一端和另一端,并且提供填充有引入所述第一管线中的所述化学品的通道;排放管线,连接到所述第一管线的下端;以及阀,至少在所述第一管线的连接到所述第二管线的部分下方设置在所述第一管线和所述排放管线之间,以打开或关闭供所述化学品从所述第一管线移动到所述排放管线的通道。
所述第二管线的所述一端可以连接到所述第一管线的所述两个分开的点中的下部点,并且所述第二管线的所述另一端可以连接到所述第一管线的所述两个分开的点中的上部点。
光度计可以将光照射到所述化学品以执行测试,并且所述第二管线可以被提供为所述光照射到的目标。
当所述阀关闭时,引入所述第一管线中的所述化学品可以从所述第一管线的所述下端填充,并且填充在所述第二管线的至少部分通道中。
填充在所述第二管线中的所述化学品可以比填充在所述第一管线中的所述化学品包括少的气泡,并且填充在所述第二管线中的所述化学品被提供为所述光照射到的目标。
所述第一管线可以在Z轴线方向上延伸。
所述第一管线可以在相对于Z轴线方向以一定角度倾斜的方向上延伸。
所述第二管线的通道直径可以小于或等于所述第一管线的通道直径。
与所述第二管线的具有比所述第二管线的通道直径大的长度的截面平行的方向被提供为光照射的方向。
引流杯可以连接到所述第一管线的所述入口并且提供接收器,所述接收器包括至少与所述第一管线延伸所沿的轴线方向平行并且间隔开的轴线方向。
所述接收器可以包括以一定角度倾斜或弯曲的平面,并且所述化学品可以供应到所述接收器的所述平面上。
所述化学品测试设备还可以包括第三管线,所述第三管线具有连接到分别包括在所述第一管线和所述排放管线中的两个分开的点的一端和另一端,并且提供所述化学品移动通过的通道,并且所述第三管线的所述一端可以连接到所述排放管线的在所述阀下方的点,并且所述第三管线的所述另一端可以连接到所述第一管线的在所述第二管线的所述另一端上方的点。
当所述化学品完全填充在所述第二管线中时,所述化学品可以沿着所述第三管线的所述通道移动并且通过所述排放管线排放。
用于检测所述化学品是否填充的传感器可以提供在所述第二管线上并且/或者提供在所述第一管线的在所述第二管线的所述另一端上方的点上。
根据本发明的另一方面,提供一种基底加工设备,所述基底加工设备包括:基底支撑件,被提供为支撑基底;液体喷射器,用于喷射用于加工所述基底的化学品;以及化学品测试器,用于测试用于加工所述基底的所述化学品,其中,所述化学品测试器包括:第一管线,提供入口和通道,通过所述入口引入所述化学品,所述化学品通过所述通道移动;第二管线,具有连接到所述第一管线的两个分开的点的一端和另一端,并且提供填充有引入所述第一管线中的所述化学品的通道;排放管线,连接到所述第一管线的下端;以及阀,至少在所述第一管线的连接到所述第二管线的部分下方设置在所述第一管线和所述排放管线之间,以打开或关闭供所述化学品从所述第一管线移动到所述排放管线的通道。
所述基底加工设备还可以包括驱动器,所述驱动器用于使所述液体喷射器朝向所述化学品测试器或所述基底支撑件移动。
所述基底加工设备还可以包括光度计,所述光度计用于将光照射到所述化学品测试器的所述第二管线以测试填充在所述第二管线中的所述化学品。
引流杯可以连接到所述第一管线的所述入口并且提供接收器,所述接收器包括至少与所述第一管线延伸所沿的轴线方向平行并且间隔开的轴线方向,所述接收器可以包括以一定角度倾斜或弯曲的平面,并且所述驱动器可以将所述液体喷射器移动到与所述接收器竖直间隔开的位置,以将所述化学品供应到所述接收器的所述平面上。
所述化学品测试器还可以包括第三管线,所述第三管线具有连接到分别包括在所述第一管线和所述排放管线中的两个分开的点的一端和另一端,并且提供所述化学品移动通过的通道,所述第三管线的所述一端可以连接到所述排放管线的在所述阀下方的点,并且所述第三管线的所述另一端可以连接到所述第一管线的在所述第二管线的所述另一端上方的点,并且,当所述化学品完全填充在所述第二管线中时,所述化学品可以沿着所述第三管线的所述通道移动,并且通过所述排放管线排放。
根据本发明的另一方面,提供一种化学品测试设备,所述化学品测试设备用于测试用于加工基底的化学品,所述化学品测试设备包括:第一管线,提供入口和通道,通过所述入口引入所述化学品,所述化学品通过所述通道移动;第二管线,具有连接到所述第一管线的两个分开的点的一端和另一端,并且提供填充有引入所述第一管线中的所述化学品的通道;排放管线,连接到所述第一管线的下端;第三管线,具有连接到分别包括在所述第一管线和所述排放管线中的两个分开的点的一端和另一端,并且提供所述化学品移动通过的通道;以及阀,至少在所述第一管线的连接到所述第二管线的部分下方设置在所述第一管线和所述排放管线之间,以打开或关闭供所述化学品从所述第一管线移动到所述排放管线的通道,其中,所述第二管线的所述一端连接到所述第一管线的所述两个分开的点中的下部点,并且所述第二管线的所述另一端连接到所述第一管线的所述两个分开的点中的上部点,其中,所述第三管线的所述一端连接到所述排放管线的在所述阀下方的点,并且所述第三管线的所述另一端连接到所述第一管线的在所述第二管线的所述另一端上方的点,其中,引流杯连接到所述第一管线的所述入口并且提供接收器,所述接收器包括至少与所述第一管线延伸所沿的轴线方向平行并且间隔开的轴线方向,其中,所述接收器包括以一定角度倾斜或弯曲的平面,其中,所述化学品供应到所述接收器的所述平面上以沿着所述接收器的所述平面朝向所述第一管线的所述入口流动,其中,当所述阀关闭时,引入所述第一管线中的所述化学品从所述第一管线的所述下端填充,并且填充在所述第二管线的至少部分通道中,并且其中,光度计将光照射到所述化学品以执行测试,并且所述第二管线被提供为所述光照射到的目标。
附图说明
通过参照附图对本发明的实施例进行详细描述,本发明的上述和其他特征和优点将变得更加明显,在附图中:
图1是根据本发明的实施例的基底加工装备的平面图;
图2是根据本发明的实施例的基底加工设备的截面图;
图3是示出根据本发明的实施例的化学品供应结构的截面图;
图4是现有化学品测试设备的示意图;
图5是根据本发明的实施例的化学品测试设备的示意图;
图6是根据本发明的实施例的化学品测试设备在倾斜时的示意图;
图7是根据本发明的另一实施例的化学品测试设备的示意图;以及
图8是根据本发明的另一实施例的化学品测试设备的示意图。
具体实施方式
在下文中,将通过参考附图解释本发明的实施例来详细描述本发明。
然而,本发明可以以许多不同的形式来实施,并且不应解释为限于本文中阐述的实施例;相反,提供这些实施例使得本公开将是透彻的和完整的,并且将向本领域普通技术人员充分地传达本发明的构思。在附图中,为了清楚和便于说明,夸大了层的厚度或尺寸。
本文中参考本发明的理想化实施例(和中间结构)的示意性图示来描述本发明的实施例。因此,将预计到由于例如制造技术和/或公差的原因而引起的图示的形状的变化。因此,本发明的实施例不应解释为限于本文中所示的区域的特定形状,而是将包括例如由制造导致的形状偏差。
图1是根据本发明的实施例的基底加工装备10的平面图。
参照图1,基底加工装备10包括转位模块(index module)100和加工模块200。转位模块100包括装载端口120和传送框架140。装载端口120、传送框架140和加工模块200可以依次布置。本文中,装载端口120、传送框架140和加工模块200布置的方向称为第一方向12(或X轴线方向),当从上方观察时与第一方向12垂直的方向称为第二方向14(或Y轴线方向),并且与包括第一方向12和第二方向14的平面(即,XY平面)垂直的方向称为第三方向16(或Z轴线方向)。
容纳基底W的载体130安置在装载端口120上。多个装载端口120可以沿着第二方向14设置。装载端口120的数量可以依据加工模块200的加工效率或生产效率等而增加或减少。每个载体130可以使用前开式晶圆传送盒(FOUP)并且包括用于水平地保持多个基底W的狭槽。
加工模块200包括缓冲单元220、传送室240和加工室260。传送室240可以平行于第一方向12延伸,并且加工室260可以沿着纵向方向设置在传送室240的两侧处。虽然在图1中未示出,但是多个加工室260中的一些可以彼此堆叠。同时,加工室260可以仅设置在传送室240的一侧处。
缓冲单元220设置在传送框架140和传送室240之间,以在传送框架140和传送室240之间提供其中基底W在传送之前停留的空间。缓冲单元220包括其中设置基底W的狭槽。缓冲单元220可以被提供为对传送框架140和传送室240打开或可打开。
传送框架140可以在载体130和缓冲单元220之间传送基底W。传送框架140被提供有转位轨道142和转位机器人144。转位轨道142可以平行于第二方向14延伸,并且转位机器人144可以安装在转位轨道142上以沿着第二方向14移动。转位机器人144包括基体144a、主体144b和转位臂144c。基体144a安装为沿着转位轨道142可移动。主体144b耦接到基体144a并且安装为在基体144a上沿着第三方向16可旋转和可移动。转位臂144c耦接到主体144b并且被提供为朝向主体144b或远离主体144b可移动。可以提供多个转位臂144c,并且分别驱动多个转位臂144c。每个转位臂144c可以用于将基底W从载体130传送到加工模块200,或者从加工模块200传送到载体130。
传送室240在缓冲单元220和加工室260之间或者在多个加工室260之间传送基底W。传送室240被提供有导轨242和主机器人244。导轨242可以平行于第一方向12延伸,并且主机器人244可以安装在导轨242上以沿着第一方向12移动。主机器人244包括基体244a、主体244b和主臂244c。基体244a安装为沿着导轨242可移动。主体244b耦接到基体244a并且安装为在基体244a上沿着第三方向16可旋转和可移动。主臂244c耦接到主体244b并且被提供为朝向主体244b或远离主体244b可移动。可以提供多个主臂244c,并且分别驱动多个主臂244c。
每个加工室260被提供有用于对基底W执行加工的基底加工设备300(参见图2)。依据所执行的加工,基底加工设备300可以具有不同的结构。同时,所有加工室260中的基底加工设备300可以具有相同的结构,或者属于相同组的多个加工室260中的基底加工设备300可以具有相同的结构。
基底加工设备300(参见图2)可以通过用液体加工基底W来执行清洁工艺。本文中将基底加工设备300描述为清洁设备,但是不限于此,并且注意的是,基底加工设备300也适用于加热设备、蚀刻设备、光刻设备等。还注意的是,本发明的化学品测试设备500适用于诸如清洁设备和加热设备的各种基底加工设备。
图2是根据本发明的实施例的基底加工设备300的截面图。基底加工设备300可以用作用于清洁基底W的设备。
参照图2,基底加工设备300包括外壳310、处理容器320、升降机330、基底支撑件340、支撑驱动器350、基体360、液体喷射器370和气流供应器380。
外壳310提供内部空间312。开口(未示出)可以提供在外壳310的一侧处并且用作用于基底W的通道。门(未示出)可以安装在开口上,以打开或关闭开口。当加工基底W时,关闭开口以密封外壳310的内部空间312。排气口315和316可以提供在外壳310的一侧处,以将形成在外壳310中的气流排出到外部。
处理容器320提供基底W在其中被加工的空间。处理容器320具有敞开的顶部。处理容器320包括多个收集桶322、324和326。虽然在本发明的实施例中假设有三个收集桶322、324和326(例如,第一收集桶322、第二收集桶324和第三收集桶326),但是收集桶的数量可以增加或减少。收集桶322、324和326被提供为沿着竖直方向(或第三方向16)彼此间隔开。收集桶322、324和326可以竖直地彼此堆叠。第一收集桶322、第二收集桶324和第三收集桶326可以收集在工艺中使用的不同处理液。处理容器320提供在竖直方向(或第三方向16)上形成的一个或多个接收空间R1、R2和R3,以在加工基底W之后接收处理液。
第一收集桶322可以设置为围绕基底支撑件340,第二收集桶324可以设置为围绕第一收集桶322,并且第三收集桶326可以设置为围绕第二收集桶324。收集桶322、324、326呈圆环形提供。第一收集桶322的接收空间R1、在第一收集桶322和第二收集桶324之间的接收空间R2、以及在第二收集桶324和第三收集桶326之间的接收空间R3用作处理液流入其中的接收空间R1、R2和R3。收集管可从收集桶322、324和326的底表面向下延伸,以分别排放引入接收空间R1、R2和R3中的处理液。排放的处理液可以通过外部处理液回收系统(未示出)重复使用。
升降机330耦接到收集桶322、324和326以提升收集桶322、324和326。第一升降机332连接到第一收集桶322,第二升降机334连接到第二收集桶324,并且第三升降机336连接到第三收集桶326。升降机332、334和336可以分别连接到驱动单元333、335和337,以接收用于竖直运动的驱动力。升降机330可以控制收集桶322、324和326的高度,以调节接收空间R1、R2和R3的尺寸、高度或位置等。
基底支撑件340在外壳310的内部空间312中支撑基底W并使基底W旋转。基底支撑件340设置在处理容器320的内部空间中。基底支撑件340包括旋转支撑板341和固定支撑板342。
当从上方观察时,旋转支撑板341具有基本圆形的上边缘。旋转支撑板341位于固定支撑板342外部。旋转支撑板341通过支撑驱动器350旋转。支撑销346和卡盘销347提供在旋转支撑板341上。当从上方观察时,固定支撑板342具有基本圆形的上边缘。固定支撑板342位于基底支撑件340的中心处。
支撑驱动器350可以使基底支撑件340旋转或提升。支撑驱动器350连接到基底支撑件340的旋转支撑板341。支撑驱动器350包括驱动轴352和致动器354。驱动轴352通过致动器354旋转,以使旋转支撑板341旋转。另外,驱动轴352可以通过致动器354在竖直方向上移动或拉伸,以调节基底支撑件340的高度。
基体360以围绕处理容器320并具有敞开的顶部的圆柱形提供。基体360包括底部361和壁363。基体360以杯形提供。底部361以盘形提供,并且可以连接到排气管。壁363从底部361的边缘在竖直方向上延伸。基体360可以由具有高耐酸性的树脂材料制成。基体360基本上用作整个处理容器320的外壁。
液体喷射器370(或正面液体喷射器370)将处理液供应到基底W以加工基底W。液体喷射器370将处理液供应到基底W的正面。例如,诸如异丙醇(IPA)的有机溶剂可以从液体喷射器370喷射以使基底W的正面干燥。
气流供应器380在外壳310的内部空间312中形成向下的气流。气流供应器380包括风扇382、气流供应管线384和过滤器386。风扇382安装在外壳310的上侧处,以在外壳310的内部空间312中形成向下的气流。气流供应管线384将外部空气供应到外壳310中。过滤器386滤除包括在空气中的杂质。
图3是示出根据本发明的实施例的化学品供应结构的截面图。
参照图3,根据本发明的实施例的化学品供应设备400用于接收通过第一化学品入口管410和第二化学品入口管420供应的化学品,将化学品储存在罐430中,并且然后通过化学品供应管440将化学品供应到液体喷射器470。液体喷射器470对应于图2的液体喷射器370并且可以被提供为喷嘴。
具体地,第一化学品入口管410和第二化学品入口管420可以连接到罐430,以将不同的化学品供应到罐430。第一入口阀411和第二入口阀421分别连接到第一化学品入口管410和第二化学品入口管420。第一入口阀411和第二入口阀421可以调节第一化学品入口管410和第二化学品入口管420中的化学品的流量。
罐430被提供为储存接收的化学品。通过第一化学品入口管410和第二化学品入口管420接收的两种化学品可以在罐430中混合。可替代地,化学品可以单独储存在罐430中。
储存在罐430中的化学品可以通过化学品供应管440供应到液体喷射器470。化学品供应阀441可以调节用于供应化学品的流量。同时,循环管450可以连接到化学品供应管440以使化学品循环,从而调节化学品的流量或浓度等。
驱动器460可以被提供为使液体喷射器470移动。为了加工基底W,驱动器460可以使液体喷射器470移动到基底W的竖直上方,也就是说,移动到基底支撑件340的上方。为了测试化学品,驱动器460可以使液体喷射器470朝向化学品测试器500(或化学品测试设备500)移动。如下所述,液体喷射器470可以将化学品供应到化学品测试器500(或化学品测试设备500)以测试化学品。化学品测试器500(或化学品测试设备500)可以包括在基底加工设备300中或者设置在基底加工设备300外部。
图4是现有化学品测试设备500'的示意图。
参照图4,液体喷射器470可以位于化学品测试设备500'上方以测试化学品F。化学品测试设备500'被提供为通过使用光度计570来测试化学品F。化学品测试设备500'包括入口管510'、出口管515'和阀511'。入口管510'提供通过其引入化学品F的通道,并且出口管515'提供通过其排放化学品F的通道。阀511'打开或关闭入口管510'和出口管515'之间的通道。
当阀511'关闭并且从液体喷射器470供应化学品F时,化学品F填充在入口管510'中。光度计570可以将光L照射到填充的化学品FV以对填充的化学品FV执行诸如污染物测试、成分测试或浓度测试的测试。
然而,在现有的化学品测试设备500'中,在将化学品F填充在入口管510'中的同时,形成大量的气泡FB。由于入口管510'在竖直方向上提供,因此化学品F竖直下落以撞击填充的化学品FV的表面并且形成许多气泡FB。气泡FB影响从光度计570照射的光L的反射、折射、散射等,使得在测量填充的化学品FV时出现误差。
因此,本发明提出能够使气泡FB对使用光度计570执行的化学品测试的影响最小化的化学品测试设备500。
图5是根据本发明的实施例的化学品测试设备500:500-1的示意图。
参照图5,根据本发明的实施例的化学品测试设备500:500-1包括第一管线510、第二管线520、阀511和排放管线515。诸如第一管线510、第二管线520和排放管线515的管线可以以流体通过其移动的管形提供。
第一管线510可以提供入口和通道,通过所述入口引入从液体喷射器470供应的化学品F,并且化学品F通过所述通道移动。例如,第一管线510可以被提供为在第三方向16(或Z轴线方向)上延伸。第一管线510的上端可以被提供为入口。第一管线510可以提供填充有化学品F并且供化学品F移动的通道。排放管线515可以连接到第一管线510的下端。
阀511可以设置在第一管线510和排放管线515之间。阀511可以打开或关闭在第一管线510和排放管线515之间的通道。
第二管线520可以连接到第一管线510的两个分开的点。第二管线520的一端和另一端可以连接到第一管线510的具有不同高度的两个分开的点。例如,第二管线520可以具有弯折两次的“[”形状。作为另一示例,第二管线520可以具有弧形(参见图6)。然而,第二管线520不限于特定形状,只要第二管线520连接到第一管线510的两个分开的点即可。
第二管线520的所述一端可以连接到第一管线510的所述两个分开的点中的下部点,并且第二管线520的所述另一端可以连接到第一管线510的所述两个分开的点中的上部点。因此,阀511可以至少设置在第二管线520的所述一端下方。
液体喷射器470将化学品F直接供应到第一管线510,并且不将化学品F直接供应到第二管线520。引入第一管线510中的化学品F可以移动到第二管线520并且填充在第二管线520中。具体地,当阀511关闭并且液体喷射器470从第一管线510上方供应化学品F时,化学品F从第一管线510的下端填充并且通过分支的第二管线520(即,通过第二管线520的所述一端)移动。因此,化学品F可以从第二管线520的所述一端填充到第二管线520的至少部分通道。
填充在第二管线520的部分通道中的化学品FV不直接面向液体喷射器470,并且不会被竖直下落的化学品F撞击。因此,虽然在第一管线510中填充的化学品FV中存在气泡FB,但是在第二管线520中填充的化学品FV中可以存在较少气泡FB或没有气泡FB。因此,当光度计570将光L照射到填充的化学品FV以执行测试时,第二管线520可以用作光L照射到的目标。也就是说,光度计570可以将光L照射到第二管线520以测试化学品FV。
第一管线510和第二管线520的通道直径可以相同。可替代地,为了用较少的化学品FV填充第二管线520,第二管线520的通道直径可以小于第一管线510的通道直径。
同时,为了进一步增加测量的精度,可以将光L照射到第二管线520中的存在较多化学品FV的区域,而不是将光L照射到第二管线520的通道的截面。换句话说,光度计570'(参见图5)可以在与第二管线520的具有比第二管线520的通道直径大的长度的截面平行的方向上照射光L。
当对填充的化学品FV的测试完成时,可以打开阀511以将第一管线510和第二管线520中的化学品FV通过排放管线515排放到外部。此后,当确定化学品F正常时,驱动器460可以使液体喷射器470移动到基底加工设备300的基底W上方以加工基底W。
图6是根据本发明的实施例的化学品测试设备500:500-1在倾斜时的示意图。
第一管线510不一定在第三方向16(或Z轴线方向)上延伸,并且可以在相对于Z轴线方向以一定角度G倾斜的方向上延伸。整个第一管线510可以不在相对于Z轴线方向以一定角度G倾斜的方向上延伸,并且第一管线510的至少一部分可以在相对于Z轴线方向以一定角度G倾斜的方向上延伸。
在这种情况下,当液体喷射器470将化学品F供应到第一管线510的入口中时,化学品F可以沿着第一管线510的通道的内壁流动并且填充在第一管线510中。因此,可以减少与填充在第一管线510中的化学品FV的冲击,并且因此也可以减少形成的气泡FB的量。由于第一管线510中的气泡FB的量减少,因此可以在第二管线520的通道中填充具有较少的气泡FB的化学品FV。
图7是根据本发明的另一实施例的化学品测试设备500:500-2的示意图。
参照图7,根据另一实施例的化学品测试设备500:500-2可以包括第一管线510、第二管线520、阀511和排放管线515,并且还包括连接到第一管线510的入口的引流杯530。上面结合图5对第一管线510、第二管线520、阀511和排放管线515进行了描述,并且因此在图7中不提供对第一管线510、第二管线520、阀511和排放管线515的详细描述。
引流杯530可以被提供为具有从第一管线510的入口在向上的方向上逐渐增大的内径。尽管图7中示出了具有基本倒三角形的截面的引流杯530,但是引流杯530不限于特定形状,只要引流杯530的内径在从引流杯530的顶部到底部的方向上逐渐减小即可。可替代地,引流杯530可以具有与第一管线510的入口的内径相等或比第一管线510的入口的内径小的内径。然而,引流杯530可以提供接收器531,化学品F可以从与第一管线510延伸所沿的轴线X1(或轴线方向X1)不同的轴线X2(或轴线方向X2)沿着接收器531流动。
具体地,引流杯530的接收器531可以被提供为包括与第一管线510延伸所沿的轴线方向X1平行且间隔开的轴线方向X2。接收器531可以包括以一定角度倾斜或弯曲的平面。因此,当化学品F供应到接收器531的平面上时,化学品F可以从轴线X2沿着倾斜或弯曲的平面朝向第一管线510的轴线X1向下流动。沿着接收器531流动的化学品F2可以沿着第一管线510的通道的内壁向下流动并且填充在第一管线510中。尽管一些化学品F1可能不沿着第一管线510的通道的内壁流动并且撞击填充在第一管线510中的化学品FV的表面,但是所述一些化学品F1的量可以远小于化学品F2的量。因此,第一管线510中的气泡FB的量可以减少,并且具有较少的气泡FB的化学品FV可以填充在第二管线520的通道中。
同时,在图7的化学品测试设备500:500-2中,第一管线510可以如图6中所示相对于第三方向16(或Z轴线方向)倾斜一定角度G。然后,化学品F可以初次地沿着引流杯530的接收器531的平面流动,并且第二次地沿着第一管线510的内壁流动,并且因此可以进一步减少气泡FB的量。
另外,引流杯530可以防止化学品F的四溅,以防止液体喷射器470、液体喷射器470附近的组件、图3中的化学品测试设备500外部的组件等被化学品F污染。此外,当化学品F四溅并且然后四溅的化学品F引入第一管线510中时,引流杯530可以减少四溅的化学品F的污染。
图8是根据本发明的另一实施例的化学品测试设备500:500-3的示意图。
参照图8,根据另一实施例的化学品测试设备500:500-3可以包括第一管线510、第二管线520、阀511、排放管线515和引流杯530,并且还可以包括第三管线540。上面结合图5和图6对第一管线510、第二管线520、阀511、排放管线515和引流杯530进行了描述,并且因此在图8中不提供对第一管线510、第二管线520、阀511、排放管线515和引流杯530的详细描述。
第三管线540可以连接到分别包括在第一管线510和排放管线515中的两个分开的点。第三管线540的一端可以连接到排放管线515的在阀511下方的点,并且第三管线540的另一端可以连接到第一管线510的在第二管线520的所述另一端上方的点。也就是说,第三管线540的所述一端可以位于阀511下方,并且第三管线540的所述另一端可以位于第二管线520上方。
当在阀511关闭的同时供应化学品F时,化学品F填充在第一管线510和第二管线520中。在这种状态下,当连续供应化学品F时,化学品F可能填充直至第一管线510的入口并且溢出。可代替地,当填充的化学品FV的液位(level)高时,液体喷射器470可能靠近填充的化学品FV的表面,并且因此形成气泡FB的可能性增加。
因此,提供第三管线540以在化学品测试所需的化学品F至少填充在第二管线520中之后,通过排放管线515排放过量的化学品F3。当化学品F完全填充在第一管线510和第二管线520中并且进一步填充到第三管线540的所述另一端时,化学品F3可以沿着第三管线540的通道移动,并且通过排放管线515排放。
同时,根据实施例,传感器550可以设置在第二管线520上并且/或者设置在第一管线510的在第二管线520的所述另一端上方的点上。提供传感器550以检测化学品F是否填充。因此,在化学品F3通过第三管线540排放之前,传感器550可以检测到化学品F填充,以使液体喷射器470停止供应化学品F。
根据本发明的前述实施例,通过对没有气泡的化学品执行化学品测试,可以增加化学品测试的便利性和可靠性。
另外,根据本发明的实施例,可以通过防止化学品的污染来增加测量的精度。
然而,本发明的范围不限于上述效果。
虽然已经参考本发明的实施例特别地示出并描述了本发明,但是将由本领域普通技术人员理解的是,在不脱离如由所附权利要求限定的本发明的范围的情况下,可以在其中进行形式和细节上的各种改变。
Claims (20)
1.一种化学品测试设备,所述化学品测试设备用于测试用于加工基底的化学品,所述化学品测试设备包括:
第一管线,提供入口和通道,通过所述入口引入所述化学品,所述化学品通过所述通道移动;
第二管线,具有连接到所述第一管线的两个分开的点的一端和另一端,并且提供填充有引入所述第一管线中的所述化学品的通道;
排放管线,连接到所述第一管线的下端;以及
阀,至少在所述第一管线的连接到所述第二管线的部分下方设置在所述第一管线和所述排放管线之间,以打开或关闭供所述化学品从所述第一管线移动到所述排放管线的通道。
2.根据权利要求1所述的化学品测试设备,其中,所述第二管线的所述一端连接到所述第一管线的所述两个分开的点中的下部点,并且所述第二管线的所述另一端连接到所述第一管线的所述两个分开的点中的上部点。
3.根据权利要求2所述的化学品测试设备,其中,光度计将光照射到所述化学品以执行测试,并且所述第二管线被提供为所述光照射到的目标。
4.根据权利要求3所述的化学品测试设备,其中,当所述阀关闭时,引入所述第一管线中的所述化学品从所述第一管线的所述下端填充,并且填充在所述第二管线的至少部分通道中。
5.根据权利要求4所述的化学品测试设备,其中,填充在所述第二管线中的所述化学品比填充在所述第一管线中的所述化学品包括少的气泡,并且填充在所述第二管线中的所述化学品被提供为所述光照射到的目标。
6.根据权利要求1所述的化学品测试设备,其中,所述第一管线在Z轴线方向上延伸。
7.根据权利要求1所述的化学品测试设备,其中,所述第一管线在相对于Z轴线方向以一定角度倾斜的方向上延伸。
8.根据权利要求1所述的化学品测试设备,其中,所述第二管线的通道直径小于或等于所述第一管线的通道直径。
9.根据权利要求2所述的化学品测试设备,其中,与所述第二管线的具有比所述第二管线的通道直径大的长度的截面平行的方向被提供为光照射的方向。
10.根据权利要求1所述的化学品测试设备,其中,引流杯连接到所述第一管线的所述入口并且提供接收器,所述接收器包括至少与所述第一管线延伸所沿的轴线方向平行并且间隔开的轴线方向。
11.根据权利要求10所述的化学品测试设备,其中,所述接收器包括以一定角度倾斜或弯曲的平面,并且
其中,所述化学品供应到所述接收器的所述平面上。
12.根据权利要求2所述的化学品测试设备,还包括第三管线,所述第三管线具有连接到分别包括在所述第一管线和所述排放管线中的两个分开的点的一端和另一端,并且提供所述化学品移动通过的通道,
其中,所述第三管线的所述一端连接到所述排放管线的在所述阀下方的点,并且所述第三管线的所述另一端连接到所述第一管线的在所述第二管线的所述另一端上方的点。
13.根据权利要求12所述的化学品测试设备,其中,当所述化学品完全填充在所述第二管线中时,所述化学品沿着所述第三管线的所述通道移动并且通过所述排放管线排放。
14.根据权利要求2所述的化学品测试设备,其中,用于检测所述化学品是否填充的传感器提供在所述第二管线上并且/或者提供在所述第一管线的在所述第二管线的所述另一端上方的点上。
15.一种基底加工设备,包括:
基底支撑件,被提供为支撑基底;
液体喷射器,用于喷射用于加工所述基底的化学品;以及
化学品测试器,用于测试用于加工所述基底的所述化学品,
其中,所述化学品测试器包括:
第一管线,提供入口和通道,通过所述入口引入所述化学品,所述化学品通过所述通道移动;
第二管线,具有连接到所述第一管线的两个分开的点的一端和另一端,并且提供填充有引入所述第一管线中的所述化学品的通道;
排放管线,连接到所述第一管线的下端;以及
阀,至少在所述第一管线的连接到所述第二管线的部分下方设置在所述第一管线和所述排放管线之间,以打开或关闭供所述化学品从所述第一管线移动到所述排放管线的通道。
16.根据权利要求15所述的基底加工设备,还包括驱动器,所述驱动器用于使所述液体喷射器朝向所述化学品测试器或所述基底支撑件移动。
17.根据权利要求15所述的基底加工设备,还包括光度计,所述光度计用于将光照射到所述化学品测试器的所述第二管线以测试填充在所述第二管线中的所述化学品。
18.根据权利要求16所述的基底加工设备,其中,引流杯连接到所述第一管线的所述入口并且提供接收器,所述接收器包括至少与所述第一管线延伸所沿的轴线方向平行并且间隔开的轴线方向,
其中,所述接收器包括以一定角度倾斜或弯曲的平面,并且
其中,所述驱动器将所述液体喷射器移动到与所述接收器竖直间隔开的位置,以将所述化学品供应到所述接收器的所述平面上。
19.根据权利要求15所述的基底加工设备,其中,所述化学品测试器还包括第三管线,所述第三管线具有连接到分别包括在所述第一管线和所述排放管线中的两个分开的点的一端和另一端,并且提供所述化学品移动通过的通道,
其中,所述第三管线的所述一端连接到所述排放管线的在所述阀下方的点,并且所述第三管线的所述另一端连接到所述第一管线的在所述第二管线的所述另一端上方的点,并且
其中,当所述化学品完全填充在所述第二管线中时,所述化学品沿着所述第三管线的所述通道移动,并且通过所述排放管线排放。
20.一种化学品测试设备,所述化学品测试设备用于测试用于加工基底的化学品,所述化学品测试设备包括:
第一管线,提供入口和通道,通过所述入口引入所述化学品,所述化学品通过所述通道移动;
第二管线,具有连接到所述第一管线的两个分开的点的一端和另一端,并且提供填充有引入所述第一管线中的所述化学品的通道;
排放管线,连接到所述第一管线的下端;
第三管线,具有连接到分别包括在所述第一管线和所述排放管线中的两个分开的点的一端和另一端,并且提供所述化学品移动通过的通道;以及
阀,至少在所述第一管线的连接到所述第二管线的部分下方设置在所述第一管线和所述排放管线之间,以打开或关闭供所述化学品从所述第一管线移动到所述排放管线的通道,
其中,所述第二管线的所述一端连接到所述第一管线的所述两个分开的点中的下部点,并且所述第二管线的所述另一端连接到所述第一管线的所述两个分开的点中的上部点,
其中,所述第三管线的所述一端连接到所述排放管线的在所述阀下方的点,并且所述第三管线的所述另一端连接到所述第一管线的在所述第二管线的所述另一端上方的点,
其中,引流杯连接到所述第一管线的所述入口并且提供接收器,所述接收器包括至少与所述第一管线延伸所沿的轴线方向平行并且间隔开的轴线方向,
其中,所述接收器包括以一定角度倾斜或弯曲的平面,
其中,所述化学品供应到所述接收器的所述平面上以沿着所述接收器的所述平面朝向所述第一管线的所述入口流动,
其中,当所述阀关闭时,引入所述第一管线中的所述化学品从所述第一管线的所述下端填充,并且填充在所述第二管线的至少部分通道中,并且
其中,光度计将光照射到所述化学品以执行测试,并且所述第二管线被提供为所述光照射到的目标。
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Legal Events
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PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication |