CN117645329A - 一种具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法 - Google Patents

一种具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法 Download PDF

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CN117645329A CN202311638910.8A CN202311638910A CN117645329A CN 117645329 A CN117645329 A CN 117645329A CN 202311638910 A CN202311638910 A CN 202311638910A CN 117645329 A CN117645329 A CN 117645329A
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任富佳
涂小斌
陈天
王轩
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Hangzhou Robam Appliances Co Ltd
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Abstract

本发明实施例公开了一种具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法,通过确定净水系统的工作程序;工作程序包括纯水制备和清洗消毒;纯水制备时,控制供水模块和制水模块的水路管道连通,排污模块和制水模块的废水排放管道连通;控制制水模块制备纯水;清洗消毒时,控制清洗消毒模块制备氧化性溶液;控制清洗消毒模块和制水模块的水路管道连通,排污模块和制水模块的废水排放管道连通;控制氧化性溶液清洗制水模块的水路管道和废水排放单元排放使用后的氧化性溶液。可以改善净水系统使用与储存过程中滋生细菌最终导致出水异味问题,清除RO膜滤芯表面结垢类与形成的生物膜等污染物,从而提高净水系统的使用周期。

Description

一种具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法
技术领域
本发明实施例涉及饮用水技术领域,尤其涉及具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法。
背景技术
目前,净水系统通常安装于原水净化过程中的末端,用于将水中污染物拦截于其滤芯表面使原水得到净化,但是,长时间过滤达到一定累积后膜表面会滋生细菌与结垢,前者会产生异味和在膜表面形成生物膜阻碍水的过滤,后者会将膜孔堵死,如果放任膜的污染不作任何清洗最终会出现过滤后的水流变小或不出水,出水有异味等现象。
发明内容
有鉴于此,本发明实施例提供的具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法,可以改善净水系统使用与储存过程中滋生细菌最终导致出水异味问题,同时可以清除RO膜滤芯表面结垢类与形成的生物膜等污染物,可以提高净水系统的使用周期。
本发明实施例提供了一种具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法,该净水系统包括温控模块和加热模块;所述净水系统包括控制模块、供水模块、制水模块和清洗消毒模块;所述净水系统包括控制模块、制水模块、清洗消毒模块;所述控制模块分别与所述制水模块和所述清洗消毒模块电连接,所述控制方法包括:
获取净水系统的清洗消毒指令;
根据所述清洗消毒指令,检测所述清洗消毒模块的消毒水量;
当所述消毒水量满足清洗消毒条件,启动所述清洗消毒模块对所述制水模块的水路进行清洗消毒。
可选的,还包括供水模块和排污模块,所述控制模块还与所述供水模块和所述排污模块电连接;在启动所述清洗消毒模块对所述制水模块的水路进行清洗消毒之前,还包括:
控制所述清洗消毒模块制备氧化性溶液;
控制所述清洗消毒模块和所述制水模块的水路管道连通,所述排污模块和所述制水模块的废水排放管道连通;
启动所述清洗消毒模块对所述制水模块的水路进行清洗消毒,包括:
控制所述氧化性溶液清洗所述制水模块的水路管道和所述废水排放单元排放使用后的所述氧化性溶液。
可选的,所述清洗消毒模块包括储水箱、氧化试剂添加装置和电解发生装置;清洗消毒时,在控制清洗消毒模块制备氧化性溶液之前,所述控制方法还包括:
判断所述储水箱中的溶液是否为制备氧化性溶液的电解溶液:
若为是,控制所述清洗消毒模块制备氧化性溶液,包括:
控制所述电解发生装置电解所述储水箱内的电解溶液,制备氧化性溶液;
若为否,控制所述供水模块向所述储水箱供水以及控制所述氧化试剂添加装置向所述储水箱投放氧化试剂,制备氧化性溶液的电解溶液。
可选的,在控制所述清洗消毒模块制备氧化性溶液的过程中,所述控制方法还包括:
获取所述储水箱内预设气体的气体浓度值;
判断所述预设气体的气体浓度值是否达到标定气体浓度值,若为是,控制述清洗消毒模块停止电解,获得氧化性溶液。
可选的,所述氧化试剂添加装置包括氧化试剂和稳定剂,所述稳定剂和所述氧化试剂的材料相同;
在制备获得氧化性溶液后,所述控制方法还包括:
控制所述氧化试剂添加装置向所述储水箱投放稳定剂。
可选的,在控制所述氧化性溶液清洗所述制水模块的水路管道和所述排污模块排放使用后的所述氧化性溶液之前,所述控制方法还包括:
获取当前时刻所述储水箱的水位值和所述预设气体的气体浓度值;
判断当前所述水位值是否达到第一标定水位和判断当前所述预设气体的气体浓度值是否大于所述标定气体浓度值;
若均为是,控制所述氧化性溶液清洗所述制水模块的水路管道和所述排污模块排放使用后的所述氧化性溶液;
若均为否,继续制备氧化性溶液。
可选的,所述储水箱包括第一标定水位和第二标定水位;其中,所述第一标定水位高于所述第一标定水位;
在控制所述氧化性溶液清洗所述制水模块的水路管道和所述排污模块排放使用后的所述氧化性溶液的过程中,所述控制方法还包括:
实时获取所述储水箱的水位值;
判断当前所述水位值是否低于第二标定水位;
若为是,控制所述清洗消毒模块与所述制水模块的水路管道断开;
若为否,继续控制述清洗消毒模块与所述制水模块的水路管道连通。
可选的,所述清洗消毒模块还包括排气单元;所述气体单元排气口延伸至水箱内;
当清洗消毒模块电解开启时,控制所述排气单元打开,用于排放所述储水箱内的气体;当清洗消毒模块电解关闭时,控制所述排气单元关闭。
可选的,所述制水模块包括出水单元,所述出水单元包括制水键;确定净水系统的工作程序,包括:
获取制水键的纯水制备指令;
根据所述纯水制备指令,启动净水系统的工作程序为纯水制备。
可选的,其特征在于,所述出水单元还包括清洗消毒键,确定净水系统的工作程序,包括:
获取清洗消毒键的清洗消毒指令;
根据所清洗消毒指令,启动净水系统的工作程序为清洗消毒。
可选的,所述制水模块还包括纯水过滤单元;所述纯水过滤单元设置在所述制水模块的水路管道中;
在纯水制备过程中,所述控制方法还包括:
获取流经所述纯水过滤单元的纯水出水口的纯水流量;
计算当前纯水流量相对标称流量的减小量;
当所述减小量大于或者等于预设减小量,控制净水系统的工作程序由纯水制备转为清洗消毒。
综上,本申请实施例提供的净水系统的控制方法,净水系统的纯水制备水路管道和清洗消毒水路管道相互独立、互不干扰,在控制净水系统清洗消毒时,通过电控控制使得净水系统的相应管道内可以利用机器本身制备的高氧化性溶液对水路管道及滤芯表面进行清洗消毒,改善净水系统使用与储存过程中滋生细菌最终导致出水异味问题,同时可以清除过滤滤芯表面结垢类与形成的生物膜等污染物,从而提高净水系统的使用周期和纯水净化质量。
附图说明
图1为本发明提供的一种具有清洗消毒功能的净水系统的示意图;
图2为图1的一种具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法示意图;
图3为图1中净水系统在纯水制备时的水路管道连接示意图;
图4为图1中净水系统在清洗消毒时的水路管道连接示意图;
图5为图1中的另一种具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法示意图;
图6为图1中的另一种具有清洗消毒功能的净水系统的电气控制示意图;
图7为图1中的另一种具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法示意图;
图8为图1中的另一种具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法示意图;
图9为图1中的另一种具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明,而非对本发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
实施例
图1为本发明提供的一种具有清洗消毒功能的净水系统的示意图。结合图1所示,本申请实施例提供了一种具有清洗消毒功能的净水系统,该净水系统包括控制模块10、供水模块20、制水模块30、清洗消毒模块40和排污模块50;控制模块10分别与供水模块20、制水模块30、清洗消毒模块40和排污模块50电连接。
具体的,控制模块10为净水系统的控制装置,控制装置可由软件和/或硬件组成,该控制装置可集成于净水系统的主控制器中。供水模块20可与自来水水源连接,用于提供净水水源;制水模块30的水路管道中至少包括过滤滤芯,用于将水源过滤后产生纯水;清洗消毒模块40用于将水源制备成清洗消毒用的氧化性溶液以及存储该氧化性溶液。示例性的,氧化性溶液可以为次氯酸钠溶液,该氧化性溶液用于清洗消毒制水模块30的水路管道;排污模块50再将纯水制备的废水以及清洗消毒用后的氧化性溶液排出净水系统,本申请实施例提供的排污模块可满足净水系统纯水制备、以及纯水制备水路管道的清洗消毒。
基于同一个发明构思,本申请实施例还提供了一种具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法,用于控制如图1所示的具有清洗消毒功能的净水系统,以实现纯水制备以及纯水制备水路管道的清洗消毒。图2是本申请实施例提供的一种具有清洗消毒功能的净水装置的控制方法的示意图,参考图1和图2所示,本申请实施例提供的具有清洗消毒功能的净水装置的控制方法包括:
S001、获取清洗消毒键的清洗消毒指令。
S002、根据清洗消毒指令,检测所述清洗消毒模块的消毒水量。
具体的,控制模块10获取用户或者系统发射的清洗消毒指令,调取控制模块10内存储的清洗消毒程序,启动清洗消毒程序,首先检测清洗消毒模块40内存储的消毒水量,判断消毒水量是否达到完全冲洗制水模块30的水路管道的水量,若达到清洗水量,则启动清洗消毒,若达不到清洗水量,则无法启动。
S003、当消毒水量满足清洗消毒条件,启动清洗消毒模块对制水模块的水路进行清洗消毒。
具体的,当系统清洗消毒模块40内存储的消毒水量达到清洗水量,使用清洗消毒模块40存储的消毒溶液冲洗制水模块的水路管道,以达到清洗消毒的目的。
本申请在净水机上引入消毒清洗模块,通过电控控制使得净水机的相应管道内可以利用机器本身制备的消毒溶液对制水模块的管道及滤芯表面进行消毒清洗,可以提高净水机的使用周期。
下面举例展开描述,如何控制净水系统进行纯水制备和清洗消毒。图3为图1中净水系统在纯水制备时的水路管道连接示意图;图4为图1中净水系统在清洗消毒时的水路管道连接示意图;图5为图1中的另一种具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法示意图。
结合图1-图4所示,在净水系统启动后,主控制模块10首先要确定当前时刻净水系统的工作程序,本申请实施例提供的净水系统的工作程序至少包括纯水制备程序和清洗消毒程序,纯水制备程序指的是将供水模块20提供的自来水水源过滤后产生纯水后从净水系统的纯水出水口排放;清洗消毒程序指的是利用供水模块20提供的自来水水源制备氧化性溶液,利用该氧化性溶液对制水模块30的水路管道进行溶液清洗消毒。
参考图5所示,本申请实施例提供的另一种具有清洗消毒功能的净水装置的控制方法包括:
S101、获取净水系统的纯水制备指令。
S102、根据纯水制备指令,控制供水模块和制水模块的水路管道连通,排污模块和制水模块的废水排放管道连通。
S103、控制制水模块制备纯水。
当获取到净水系统的纯水制备指令,净水系统启动纯水制备程序。
具体的,参考图3所示,净水系统接电,启动工作时,主控制模块10确定当前时刻净水系统的工作程序为纯水制备时,主控制模块10控制供水模块10的水路管道和制水模块30的水路管道连通,形成进水通路,主控制模块10控制制水模块30的第一出水口与排污模块50的水路管道连通,形成废水排放通路;主控制模块10控制供水模块10向制水模块30提供自来水水源W1,制水模块30中的过滤滤芯过滤自来水水源,过滤后的纯水W2从第二出水口放出,以供用户饮用;经过滤滤芯浓缩后的废水W3经排污模块50的排放。
S104、获取清洗消毒键的清洗消毒指令。
S105、根据清洗消毒指令,检测所述清洗消毒模块的消毒水量。
进一步地,参考图4所示,净水系统接电,启动工作时,当主控制模块10获取到净水系统的清洗消毒指令,启动净水系统的清洗消毒程序,检测清洗消毒模块40内存储的消毒水量,判断消毒水量是否达到完全冲洗制水模块30的水路管道的水量,若达到清洗水量,则启动清洗消毒。
S106、控制清洗消毒模块制备氧化性溶液。
具体的,主控制模块10控制控制供水模块20的出水端和清洗消毒模块40的进水端连通,形成进水通路;主控制模块10控制供水模块20向清洗消毒模块40提供自来水水源W1,当进水完成后,主控制模块10控制清洗消毒模块40将水源W1制备成清洗消毒用的氧化性溶液,同时存储该氧化性溶液W4。
S107、控制清洗消毒模块和制水模块的水路管道连通,排污模块和制水模块的废水排放管道连通。
具体的,当氧化性溶液制备完成后,清洗消毒模块40的出水端与制水模块30的进水端连通,排污模块50的进水端和制水模块30的出水端连通,形成清洗消毒水路管道。
S108、控制氧化性溶液清洗制水模块的水路管道和排污模块排放使用后的氧化性溶液。
具体的,参考图4所示,启动清洗消毒程序,主控制模块10控制氧化性溶液W4流经制水模块30的水路管道,利用高氧化性溶液W4对水路管道中的细菌杀菌消毒,清除管道异味,同时清除制水模块30中过滤滤芯表面结垢类与形成的生物膜等污染物,再控制排污模块50将清洗后废气的氧化性溶液W4’排放制水模块30的水路管道,从而最终提高净水系统的使用周期和纯水净化质量。
综上,本申请实施例提供的净水系统的控制方法,该净水系统的纯水制备的水路管道和清洗消毒的水路管道相互独立、互不干扰,在清洗消毒时,通过电控控制使得净水系统的相应管道内可以利用机器本身制备的高氧化性溶液对水路管道及滤芯表面进行清洗消毒,改善净水系统使用与储存过程中滋生细菌最终导致出水异味问题,同时可以清除过滤滤芯表面结垢类与形成的生物膜等污染物,从而提高净水系统的使用周期和纯水净化质量。
图6为图1中的另一种具有清洗消毒功能的净水系统的电气控制示意图;图7为图1中的另一种具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法示意图。在上述实施例的基础上,参考图6所示,制水模块30包括出水单元31,出水单元31包括制水键311。示例性的,出水单元31为手动或者电动控制水龙头开关,其上设置制水键311,当需要制备纯水,只需按压、触碰、移动等方式启动制水键311,出水单元31向控制模块10发送纯水制备指令。图1-图7所示,本申请实施例还提供了的另一种具有清洗消毒功能的净水装置的控制方法包括:
S201、获取制水键的纯水制备指令。
S202、根据纯水制备指令,控制供水模块和制水模块的水路管道连通,排污模块和制水模块的废水排放管道连通。
具体的,控制模块10获取到出水单元31发射的纯水制备指令,调取控制模块10内存储的纯水制备程序,启动该程序。
S203、控制制水模块制备纯水。
继续参考上述实施例中图3所示,实现纯水制备。
在上述实施例的基础上,继续参照图6,制水模块30还包括纯水过滤单元32和流量检测单元33;纯水过滤单元32设置在制水模块30的水路管道中,流量检测单元33与控制模块10电连接。
具体的,纯水过滤单元32可以采用RO反渗透膜滤芯,用于去除水中病毒、细菌、有机物、重金属等污染物,或者其他的过滤滤芯,如纳滤滤芯等。
在一些实施例,流量检测单元33也设置在制水模块30的水路管道中,如图6所示,流量检测单元33为普通管路中常用的液体流量计,流量检测单元33的进水口与纯水过滤单元32的出水口连通,用于检测水路管道中的纯水流量;流量检测单元33与控制模块10电连接,流量检测单元33将检测到的纯水流量信号S0传输至控制模块10。
在一些实施例中,流量检测单元33可以为超声波流量计等,无需连接至水路中,基于超声波在流动介质中传播速度等于被测介质的平均流速与声波在静止介质中速度的矢量和的原理,测量水路管道中的纯水流量。需要说明的是,本申请实施例附图6中仅以连接至水路管道中常用的液体流量计为示例性说明。
继续参照图6和图7所示,在纯水制备过程中,包括:
S204、获取纯水过滤单元的纯水出水口的纯水流量。
具体的,流量检测单元33时刻检测纯水过滤单元的纯水出水口水路管道中纯水流量,并将检测到水路管道中的纯水流量信号S0传输至控制模块10,控制模块10接收纯水流量信号S0。
S205、计算当前纯水流量相对标称流量的减小量。
S206、当减小量大于或者等于预设减小量,控制净水系统的工作程序由纯水制备转为清洗消毒。
示例性的,控制模块10存储的标称流量为M0,预设减小量为ΔM,示例性的,设置ΔM=3%。控制模块10获取到的当前时刻水路管道中的纯水流量为M,计算前纯水流量相对标称流量的减小量为|M0-M|/M0,当|M0-M|/M0≥3%时,说明此时已不满足纯水制备条件,净水系统无法制备纯水,净水系统需要启动清洗消毒程序,结合图4所示,控制模块10控制供水模块10和制水模块30的水路管道断开,控制制水模块30停止制备纯水,控制清洗消毒模块40启动,开始对制水模块30的水路管道清洗消毒。
图8为图1中的另一种具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法示意图。在上述实施例的基础上,继续结合图6,出水单元31还包括清洗消毒键312,示例性的,出水单元31上还设置清洗消毒键312,当需要进行纯水水路清洗消毒时,只需按压、触碰、移动等方式启动清洗消毒键312,出水单元31向控制模块10发送清洗消毒指令。继续参照图6和图8所示,本申请实施例还提供了的另一种具有清洗消毒功能的净水装置的控制方法包括:
S301、获取清洗消毒键的清洗消毒指令。
S302、根据清洗消毒指令,检测所述清洗消毒模块的消毒水量。
具体的,控制模块10获取到出水单元31发射的清洗消毒指令,调取控制模块10内存储的清洗消毒程序,启动清洗消毒模块40,检测清洗消毒模块的消毒水量,判断清洗消毒模块水路中的消毒水量是否满足清洗条件,若满足,则启动清洗消毒,若不满足,则启动制备清洗消毒溶液。
S303、控制清洗消毒模块制备氧化性溶液。
继续参考上述实施例中图4所示。
S304、控制清洗消毒模块和制水模块的水路管道连通,排污模块和制水模块的废水排放管道连通。
继续参考上述实施例中图4所示。
S305、控制氧化性溶液清洗制水模块的水路管道和排污模块排放使用后的氧化性溶液。
继续参考上述实施例中图1和图4所示,从而实现对制水模块30的水路管道的清洗消毒。
图9为图1的另一种具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法示意图。在上述实施例的基础上,继续参照图6,清洗消毒模块40包括储水箱41、氧化试剂添加装置42和电解发生装置43,储水箱41包括第一标定水位H1。继续参照图6和图9所示,本申请实施例还提供了另一种具有清洗消毒功能的净水装置的控制方法包括:
S401、确定净水系统的工作程序。
具体的,当系统获取到清洗消毒指令,则确定此时净水系统启动清洗消毒程序;当系统获取到纯水制备指令,则确定此时净水系统启动纯水制备程序。
当确定净水系统启动纯水制备程序时:
S402、判断储水箱中的溶液是否为制备氧化性溶液的电解溶液。
若为是,执行步骤S404;若为否,执行步骤S405。
具体的,在一些实施例中,可以选用次氯酸钠水溶液作为氧化性溶液,电解发生装置43为次氯酸钠发生器;在一些实施例中,还可以选用其他的具有高氧化性溶液,例如二氧化氯溶液、臭氧混合溶液等,本申请实施例仅以电解氯化钠溶液制备次氯酸钠水溶液为例进行示例性说明。其中,设置本申请实施例中制备次氯酸钠水溶液的电解溶液满足如下条件:
1、储水箱中的水位达到清洗消毒水位;
2、储水箱溶液中的氧化试剂的浓度值达到浓度标定值;
3、储水箱溶液中的浊度值低于浊度标定值。
S403、控制电解发生装置电解储水箱内的电解溶液,制备氧化性溶液。
具体的,继续参考图6所示,当储水箱41内的溶液满足氧化性溶液的制备条件,即为制备次氯酸钠水溶液的电解溶液。控制模块10控制电解发生装置43电解储水箱41内的溶液,以次氯酸钠发生器电解氯化钠溶液为例,次氯酸钠发生器电解氯化钠溶液生成次氯酸钠(NaClO)溶液的电解原理如下:
2NaCl+2H2―Cl2↗+H2↗+2NaOH, (1.1);
Cl2+2NaOH―NaCl+H2O+NaClO, (1.2);
其中,化学公式(1.1)中,电解产生的羟基OH-和次氯酸根ClO-都具有较强的氧化性能杀菌消毒,也可以夺取残留农药和污渍污垢分子的电子,从而破坏其分子链结构,达到杀灭细菌与清除污垢的目的,在本申请清洗消毒,电解获得羟基OH-和次氯酸根ClO-可对制水模块30的水路管道以及过滤滤芯等进行杀菌消毒和清除污垢,提高后期纯水制备的质量。
S404、控制供水模块向储水箱供水和控制氧化试剂添加装置向储水箱投放氧化试剂,制备氧化性溶液的电解溶液。
具体的,继续参考图6所示,当储水箱41内的溶液不满足氧化性溶液的制备条件,控制模块10控制供水模块10与清洗消毒模块40的水路管道连通,控制供水模块10向储水箱41供水,控制氧化试剂添加装置42向储水箱投放氧化试剂,制备氧化性溶液的电解溶液。
其中,电解溶液中的氧化试剂可以为氯化钠溶液或者盐块。
继续参考上述实施例中图4所示。当储水箱中的溶液为制备氧化性溶液的电解溶液,控制模块10控制电解发生装置43电解储水箱41内的溶液,继续参考上述化学公式(1.1)和(1.2)所示,获得氧化性溶液。
在上述实施例的基础上,继续参考图6所示,清洗消毒模块40还包括排气单元48和气体检测单元49,当清洗消毒模块40电解开启时,排气单元48打开,用于排放储水箱41内的气体;当清洗消毒模块40电解关闭时,排气单元48关闭。
其中,排气单元48可以是排气阀,该排气阀的进气口与储水箱41连通,排气阀和气体检测单元49分别与控制模块10电连接。气体检测单元49可以是氢气检测仪、氯气检测仪等。以气体检测单元49为余氯检测仪为例,在步骤404和步骤406中的,在控制清洗消毒模块制备氧化性溶液的过程中,控制方法还包括:
采用气体检测单元获取储水箱内预设气体的气体浓度值,并将气体浓度值传输至控制模块。
控制模块比较检测到气体浓度值与标定气体浓度值的大小,判断预设气体的气体浓度值是否达到标定气体浓度值,若为是,控制述清洗消毒模块停止电解,获得氧化性溶液。
示例性的,参考图6所示,当电解储水箱41内的氯化钠溶液时,结合化学公式(1.1)所示,会产生少量氢气H2和氯气Cl2,此时控制模块10控制排气单元48打开,将电解产生的少许氢气H2排出,当余氯检测仪检测到余氯的浓度P3≥200ppm时,停止电解,同时控制排气阀22关闭。
S405、控制清洗消毒模块和制水模块的水路管道连通,排污模块和制水模块的废水排放管道连通。
具体的,当制备完成氧化性溶液后,控制模块10控制清洗消毒模块40的出水端和制水模块30的进水端水路管道连通,制水模块30的第一路出水端与排污模块50的进水端连通,形成废气氧化性溶液排放水路。
其中,继续结合图6所示,排污模块50包括废水阀,废水阀和控制模块10连接,当需要排放废水,控制模块10控制废水阀打开。
S406、控制氧化性溶液清洗制水模块的水路管道和废水排放单元排放使用后的氧化性溶液。
具体的,继续结合图6所示,制水模块30还包括增压单元34,增压单元34设置在制水模块30的进水端,增压单元34和控制模块10连接;清洗消毒模块40还包括出水阀47,出水阀47和控制模块10连接。
当启动清洗消毒程序时,控制模块10控制出水阀47打开,增压单元34启动,增压单元34抽取储水箱311内的氧化性溶液至制水模块30的水路管道中,氧化性溶液冲洗水路管道后,经制水模块30的第二出水口排放至排污模块50。其中,排污模块50可以设置废水储水箱或者直接排放至公共管道中;出水阀47也是供水模块10向储水箱41供水的进水阀。可选的,制水模块30还包括纯水出水阀34,纯水出水阀34与控制模块10连接,其进水口与流量检测单元33的出水口连通,出水口与出水单元31的进水口连通,纯水出水阀34用于控制纯水通过。
当净水系统的工作程序为纯水制备时,控制方法包括:
S407、控制供水模块、制水模块的水路管道连通。
继续参考上述实施例中图1-图3所示。
S408、控制制水模块制备纯水。
继续参考上述实施例中图1-图3所示。
继续参考图6所示,清洗消毒模块40还包括水位检测仪44、浊度检测仪45和TSD检测仪46,水位检测仪44、浊度检测仪45和TSD检测仪46分别与控制模块10电连接,其中,水位检测仪44的检测端位于储水箱41内,用于检测储水箱41中的水位值;浊度检测仪45的检测端位于储水箱41内,用于检测储水箱41溶液中的氧化试剂的浓度值;TSD检测仪46的检测端位于储水箱41内,用于检测储水箱41中溶液的浊度值。需要说明的是,清洗消毒模块40还可以包括其他水质检测仪器,用于检测水箱内溶液的水质参数,例如温度等。
本申请以次氯酸钠水溶液作为氧化性溶液,电解发生装置43为次氯酸钠发生器为例,本申请实施例在电解储水箱311中的溶液前,步骤403判断储水箱中的溶液是否满足氧化性溶液的制备条件的控制方法包括:
步骤S1、获取水位检测仪44检测到的储水箱41中溶液的水位值,根据检测到的水位值,判定储水箱41中的溶液水位是否达到第一标定水位。若为否,则执行步骤S2;若为是,执行步骤S3。
其中,第一标定水位下的水量满足供水模块30水路管道的清洗消毒水量。
具体的,控制模块10获取水位检测仪44检测到的储水箱41中溶液的水位值,并判断当前时刻储水箱41的水位值是否达到第一标定水位,若没有达到第一标定水位,则执行步骤S2;若达到第一标定水位,则执行步骤S3。
为避免系统反复进水反复制备次氯酸钠水溶液的动作影响冲洗效率本申请实施例提供的储水箱311的容积设计足够大,储水箱311一次制备的次氯酸钠水溶液的容量满足下述清新消毒整个冲洗的操作流程,不存在冲洗进程中储水箱311出现补水中断冲洗过程。
S2、控制模块10控制供水模块20向储水箱41供水。
具体的,当储水箱41中的水位值低于第一标定水位,说明储水箱41缺水,控制模块10控制供水模块20的供水端与清洗消毒模块40的进水端连通,控制供水模块20向储水箱41供水。
其中,继续结合图6所示,在一些实施例中,供水模块20的水路中包括原进水口21、杂质过滤单元22和进水阀23;进水阀23的出水口和出水阀47的进水口连通,进水阀23和出水阀47分别与控制模块20电连接,当需要向储水箱41供水时,同时打开进水阀23和出水阀47。其中,杂质过滤单元可以选用PP+CTO滤芯,PP+CTO滤芯为PP(聚丙烯喷溶)滤芯和CTO(压缩活性炭)滤芯的叠加等,其中,采用PP(聚丙烯喷溶)滤芯和CTO(压缩活性炭)滤芯的叠加,采用PP滤芯去除水中泥沙、铁锈、水藻等固体物质,采用CTO滤芯进一步除水中余氯、异味及固体杂质等。
水位检测仪44实时监测检测储水箱41中溶液的水位值,并将获取到的水位值信号传输至控制模块10,控制模块10持续判断水位值是否达到第一标定水位;当水位值等于或者高于第一标定水位,说明此时,储水箱满水,当控制模块10控制供水模块20的供水端与清洗消毒模块40的进水端断开,参考图6所示,控制模块10控制进水阀23和出水阀47关闭,控制供水模块20停止向储水箱41供水。
S3、判断储水箱41中的混合溶液是否为氧化性溶液的电解溶液。若为是,则执行步骤S4;若为否,则执行步骤S5。
其中,氧化性溶液的电解溶液满足上述实施例提供的制备次氯酸钠水溶液的制备条件。
具体的,继续结合图6所示,采用浊度检测仪45检测储水箱41中溶液的氧化试剂的浓度值,采用TSD检测仪46检测储水箱41中溶液的浊度值,作为一个示例,氧化试剂为氯化钠(盐块),设置浊度标定值为200ppm,浊度标定值为0.5NTU。
当检测储水箱中氧化试剂在混合溶液中的浓度值P1≥200ppm,以及混合溶液的浊度值P2<0.5NTU,则判断储水箱41中的溶液满足制备氧化溶液的制备条件;当监测储水箱中氧化试剂在混合溶液中的浓度值P1<200ppm和/或混合溶液的浊度值P2≥0.5NTU,则判断储水箱41中的溶液不满足制备氧化溶液的制备条件。
在上述实施例的基础上,继续参考图6所示,氧化试剂添加装置42还包括稳定剂,稳定剂和氧化试剂的材料相同;氧化试剂的体积大于稳定剂的体积。
具体的,继续参考上述实施例提供的电解氯化钠溶液为例,氧化试剂添加装置42中设置的氧化试剂为氯化钠(NaCl,盐块),或者高浓度的氯化钠(NaCl)溶液,结合上述实施例提供的在制备得到氧化性溶液之后,在步骤404和步骤406中电解发生装置电解储水箱内的溶液之前,控制方法还包括:
控制氧化试剂添加装置42向储水箱41投放稳定剂31。
具体的,采用氯化钠(NaCl)作为次氯酸钠溶液的稳定剂的化学反应原理如下:
结合化学公式(1.3),当电解溶液中NaCl的含量一直维持在少许过量的情况下,化学公式(1.3)中反应就会向左移动,NaClO的浓度就会维持一个稳定的状态,从而可以保证电解后的氧化性溶液具有较高的氧化杀菌作用。
在上述实施例的基础上,继续参考图6,结合图9所示,在步骤408之前,控制方法还包括:
S409、获取当前时刻储水箱的水位值和预设气体的气体浓度值。
具体的,结合图6所示,采用水位检测仪44检测储水箱41中的溶液水位值,采用气体检测单元检测检测储水箱41中余氯的浓度P3,并将检测到的溶液水位值和余氯的浓度P3值传输至控制模块10。
S410、判断当前水位值是否达到第一标定水位以及判断当前预设气体的气体浓度值是否大于标定气体浓度值。
若均为是,执行步骤S406;若为否,继续执行步骤402~405,续制备氧化性溶液。
在上述实施例的基础上,储水箱41还包括第二标定水位H2;其中,第一标定水位高于第一标定水位。
S411、实时获取储水箱的水位值。
具体的,采用水位检测仪44检测储水箱41中的溶液水位值,并将检测到的溶液水位值传输至控制模块10。
S412、判断当前水位值是否低于第二标定水位H2。若为是,执行步骤S413,若为否,执行步骤S405。
S413、控制控制清洗消毒模块与制水模块的水路管道断开。
其中,第一标定水位为储水箱41满足清洗消毒的最低水位,若当前时刻储水箱41中的位置低于该水位,说明储水箱41缺水,控制控制清洗消毒模块停止清洗消毒。
综上,本申请实施例提供得一种具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法,可以改善净水系统使用与储存过程中滋生细菌最终导致出水异味问题,同时可以清除RO膜滤芯表面结垢类与形成的生物膜等污染物,可以提高净水系统的使用周期。
注意,上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本发明不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互组合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明,但是本发明不仅仅限于以上实施例,在不脱离本发明构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (10)

1.一种具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法,所述净水系统包括控制模块、制水模块、清洗消毒模块;所述控制模块分别与所述制水模块和所述清洗消毒模块电连接,其特征在于,所述控制方法包括:
获取净水系统的清洗消毒指令;
根据所述清洗消毒指令,检测所述清洗消毒模块的消毒水量;
当所述消毒水量满足清洗消毒条件,启动所述清洗消毒模块对所述制水模块的水路进行清洗消毒。
2.根据权利要求1所述的控制方法,其特征在于,还包括供水模块和排污模块,所述控制模块还与所述供水模块和所述排污模块电连接;在启动所述清洗消毒模块对所述制水模块的水路进行清洗消毒之前,还包括:
控制所述清洗消毒模块制备氧化性溶液;
控制所述清洗消毒模块和所述制水模块的水路管道连通,所述排污模块和所述制水模块的废水排放管道连通;
启动所述清洗消毒模块对所述制水模块的水路进行清洗消毒,包括:
控制所述氧化性溶液清洗所述制水模块的水路管道和所述废水排放单元排放使用后的所述氧化性溶液。
3.根据权利要求2所述的控制方法,其特征在于,所述清洗消毒模块包括储水箱、氧化试剂添加装置和电解发生装置;清洗消毒时,在控制清洗消毒模块制备氧化性溶液之前,所述控制方法还包括:
判断所述储水箱中的溶液是否为制备氧化性溶液的电解溶液:
若为是,控制所述清洗消毒模块制备氧化性溶液,包括:
控制所述电解发生装置电解所述储水箱内的电解溶液,制备氧化性溶液;
若为否,控制所述供水模块向所述储水箱供水以及控制所述氧化试剂添加装置向所述储水箱投放氧化试剂,制备氧化性溶液的电解溶液。
4.根据权利要求3所述的控制方法,其特征在于,在控制所述清洗消毒模块制备氧化性溶液的过程中,所述控制方法还包括:
获取所述储水箱内预设气体的气体浓度值;
判断所述预设气体的气体浓度值是否达到标定气体浓度值,若为是,控制述清洗消毒模块停止电解,获得氧化性溶液。
5.根据权利要求4所述的控制方法,其特征在于,所述氧化试剂添加装置包括氧化试剂和稳定剂,所述稳定剂和所述氧化试剂的材料相同;
在制备获得氧化性溶液后,所述控制方法还包括:
控制所述氧化试剂添加装置向所述储水箱投放稳定剂。
6.根据权利要求4所述的控制方法,其特征在于,在控制所述氧化性溶液清洗所述制水模块的水路管道和所述排污模块排放使用后的所述氧化性溶液之前,所述控制方法还包括:
获取当前时刻所述储水箱的水位值和所述预设气体的气体浓度值;
判断当前所述水位值是否达到第一标定水位和判断当前所述预设气体的气体浓度值是否大于所述标定气体浓度值;
若均为是,控制所述氧化性溶液清洗所述制水模块的水路管道和所述排污模块排放使用后的所述氧化性溶液;
若均为否,继续制备氧化性溶液。
7.根据权利要求4所述的控制方法,其特征在于,所述储水箱包括第一标定水位和第二标定水位;其中,所述第一标定水位高于所述第一标定水位;
在控制所述氧化性溶液清洗所述制水模块的水路管道和所述排污模块排放使用后的所述氧化性溶液的过程中,所述控制方法还包括:
实时获取所述储水箱的水位值;
判断当前所述水位值是否低于第二标定水位;
若为是,控制所述清洗消毒模块与所述制水模块的水路管道断开;
若为否,继续控制述清洗消毒模块与所述制水模块的水路管道连通。
8.根据权利要求4所述的控制方法,其特征在于,所述清洗消毒模块还包括排气单元;所述排气单元排气口延伸至水箱内;
当清洗消毒模块电解开启时,控制所述排气单元打开;
当清洗消毒模块电解关闭时,控制所述排气单元关闭。
9.根据权利要求2所述的控制方法,其特征在于,还包括供水模块和排污模块,所述控制模块还与所述供水模块和所述排污模块电连接,所述控制方法包括:
获取净水系统的纯水制备指令;
根据所述纯水制备指令,控制所述供水模块和所述制水模块的水路管道连通,所述排污模块和所述制水模块的废水排放管道连通;
控制制水模块制备纯水。
10.根据权利要求9所述的控制方法,其特征在于,所述制水模块还包括纯水过滤单元和流量检测单元;所述纯水过滤单元设置在所述制水模块的水路管道中;
在纯水制备过程中,所述控制方法还包括:
获取流经所述纯水过滤单元的纯水出水口的纯水流量;
计算当前纯水流量相对标称流量的减小量;
当所述减小量大于或者等于预设减小量,控制净水系统的工作程序由纯水制备转为清洗消毒。
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