CN117615859A - 偏移调整装置和包括该偏移调整装置的涂覆设备 - Google Patents

Abstract

提供了一种能够稳定地调整用于排出涂覆剂的涂覆剂施加装置的部件之间的偏移的偏移调整装置和包括该偏移调整装置的涂覆设备。根据本公开内容的一方面的偏移调整装置被配置用于对准设置在涂覆剂施加装置的狭缝模头中的间隔件，所述涂覆剂施加装置被配置为将涂覆剂施加到基底，所述偏移调整装置包括：偏移测量模块，所述偏移测量模块被配置为测量狭缝模头的模唇和间隔件之间的偏移；以及偏移调整模块，所述偏移调整模块联接到所述间隔件并且被配置为根据所测量的偏移来对准所述间隔件。

Description

偏移调整装置和包括该偏移调整装置的涂覆设备

技术领域

本申请要求享有于2022年6月8日在韩国提交的韩国专利申请No.10-2022-0069479的优先权，其公开内容通过引用的方式并入本文。

本公开内容涉及一种偏移调整装置和包括该偏移调整装置的涂覆设备，更具体而言，涉及一种被配置为稳定地调整用于排出涂覆剂的涂覆剂施加装置的部件之间的偏移的偏移调整装置和包括该偏移调整装置的涂覆设备。

背景技术

随着技术发展和对移动设备的需求的增加，对作为能源的二次电池的需求迅速增加，并且这些二次电池需要包括作为发电元件的电极组件。

首先通过将电极活性材料浆料施加到正极集电器和负极集电器上来制备正极和负极，然后将正极和负极堆叠在隔板的两侧，可以形成预定形状的电极组件。此外，可以通过将电极组件容纳在电池壳中并在注入电解质之后密封电池壳来形成上述二次电池。

为了使二次电池的充电和放电特性均匀，电极活性材料浆料应当均匀地涂覆在正极集电器或负极集电器上。此时，通过使用涂覆设备来涂覆正极集电器或负极集电器，涂覆设备由排出诸如电极活性材料浆料的涂覆剂的狭缝模头和能够驱动诸如正极集电器或负极集电器的基底的涂覆辊组成。涂覆设备在旋转涂覆辊的同时将涂覆剂施加到基底的一侧或两侧，然后干燥涂覆有涂覆剂的基底。此外，可以在狭缝模头中设置间隔件，间隔件可以调整涂覆剂从狭缝模头排出的宽度。

在这种涂覆设备的情况下，当作为狭缝模头的尖端的模唇与间隔件之间的偏移由于间隔件的对准不良而沿狭缝模头的纵向方向改变时，从狭缝模头排出涂覆剂的左右排出宽度的偏差会增加。另外，如果间隔件被对准为具有比设定偏移更大的偏移，则存在由于涂覆界面缺陷而发生涂覆宽度差异的问题。

为了解决这个问题，在传统的涂覆设备中，通过使用块体将间隔件拉向模唇的相反侧来调整偏移。然而，在这种情况下，难以定量地测量偏移，并且存在当操作者的技能水平低时不能准确地执行间隔件的对准的问题。

发明内容

技术问题

本公开内容旨在解决相关技术的问题，因此本公开内容旨在提供一种能够稳定地调整用于排出涂覆剂的涂覆剂施加装置的部件之间的偏移的偏移调整装置和包括该偏移调整装置的涂覆设备。

然而，本公开内容要解决的技术问题不限于上述问题，本领域技术人员将从下面的描述中清楚地理解未提及的其他问题。

技术方案

在本公开内容的一方面，提供了一种偏移调整装置，所述偏移调整装置被配置用于对准设置在涂覆剂施加装置的狭缝模头中的间隔件，所述涂覆剂施加装置被配置为将涂覆剂施加到基底，所述偏移调整装置包括：偏移测量模块，所述偏移测量模块被配置为测量狭缝模头的模唇和间隔件之间的偏移；以及偏移调整模块，所述偏移调整模块联接到所述间隔件并且被配置为根据所测量的偏移来对准所述间隔件。

在一个实施例中，偏移调整装置可以被配置为联接到狭缝模头的在涂覆剂的排出方向上与模唇相反的一侧。

在一个实施例中，偏移测量模块可以包括：支撑托架，所述支撑托架设置在狭缝模头上；以及指示器，所述指示器由所述支撑托架支撑并且被配置为通过与所述狭缝模头和所述间隔件接触来测量所述偏移。

在一个实施例中，偏移调整模块可以包括：支撑单元，所述支撑单元设置在狭缝模头上；以及移动台单元，所述移动台单元由所述支撑单元支撑并且被配置为根据在所述涂覆剂的排出方向上的移动来对准所述间隔件。

在一个实施例中，偏移调整模块还可以包括：偏移调整引导单元，所述偏移调整引导单元设置在所述移动台单元上并联接到所述间隔件；以及控制单元，所述控制单元被配置为驱动所述移动台单元在所述涂覆剂的排出方向上的移动。

在一个实施例中，间隔件可以在从狭缝模头向外突出而形成的部分中包括孔，并且偏移调整引导单元可以被配置为联接到间隔件的孔。

在一个实施例中，移动台单元可以包括：第一块体，所述第一块体联接到所述支撑单元；第二块体，所述第二块体联接到所述第一块体的上部部分，并且被配置为根据所述控制单元的驱动在所述涂覆剂的排出方向上移动；以及连接单元，所述连接单元联接到所述控制单元并且被配置为连接所述第二块体和所述控制单元，所述偏移调整引导单元可以设置在所述第二块体的上部部分。

在一个实施例中，所述第二块体可以包括插入部分，所述插入部分形成在所述第二块体的底部，在水平方向上向内突出并且被配置为插入到所述第一块体的顶部，所述第一块体可以包括凹进部分，所述凹进部分形成在所述第一块体的顶部，在水平方向上向内凹进并且被配置为容纳所述插入部分，所述凹进部分可以被配置为根据所述控制单元的驱动来引导所述第二块体在所述涂覆剂的排出方向上的移动。

在一个实施例中，所述偏移调整模块还可以包括：突出构件，所述突出构件形成为从所述第二块体的侧面突出；以及移动限制单元，所述移动限制单元具有引导孔，所述引导孔被配置为引导所述突出构件在所述涂覆剂的排出方向上的移动，所述移动限制单元被固定到所述第一块体，所述突出构件可以被配置为通过与所述引导孔的一端或另一端接触来限制在所述涂覆剂的排出方向上的移动。

在一个实施例中，偏移调整装置还可以包括固定构件，所述固定构件被配置为将所述偏移调整装置固定到狭缝模头的一侧。

在一个实施例中，可以在狭缝模头的纵向方向上设置多个偏移调整装置。

在一个实施例中，所述多个偏移调整装置可以沿着狭缝模头的纵向方向设置在狭缝模头的纵向方向上的中心的两侧。

在一个实施例中，所述多个偏移调整装置可以基于狭缝模头的纵向方向上的中心在狭缝模头的纵向方向上对称地设置。

在一个实施例中，所述多个偏移调整装置之间的距离可以被配置为彼此可调整。

另外，为了实现上述目的，根据本公开内容的另一方面的涂覆设备包括：如上所述的偏移调整装置；以及涂覆剂施加装置，所述涂覆剂施加装置被配置为将涂覆剂施加到基底。

有益效果

根据本公开内容的实施例，可以定量地测量狭缝模头的模唇和间隔件之间的偏移。此外，可以实时测量偏移。另外，由于可以根据所测量的偏移通过联接到间隔件的偏移调整模块来对准间隔件，因此具有可以更精细地使间隔件对准的优点。因此，可以使间隔件的左右对准偏差减到最小，并且可以从狭缝模头排出涂覆剂的左右排出宽度的偏差减到最小。因此，通过使左偏移和右偏移一致，当在基底上进行多道涂覆时，可以使每一道的图案宽度均匀。

另外，由于偏移调整模块和间隔件可以稳定地连接，因此可以使间隔件在涂覆剂的排出方向上更精确地对准。

另外，由于间隔件连接到偏移调整模块，因此即使当在对准间隔件之后再次联接可以包括在狭缝模头中的第一模头和第二模头时，也可以使间隔件的对准状态的未对准减到最小。

另外，如果确认间隔件被对准为具有比设定偏移更大的偏移，则可以通过操纵容易地调整偏移，使得可以更容易地解决由于涂覆界面缺陷引起的涂覆宽度差异的问题。

另外，可以通过本公开内容的各种实施例来实现各种附加效果。将在每个实施例中详细描述本公开内容的各种效果，或者将省略本领域技术人员可以容易地理解的效果的描述。

附图说明

附图示出了本公开内容的优选实施例，并且与前述公开内容一起用于提供对本公开内容的技术特征的进一步理解，因此，本公开内容不应被解释为限于附图。

图1是示出根据本公开内容的实施例的涂覆设备的整体形状的图。

图2是从前面示出图1的涂覆设备的视图。

图3是从上方示出图1的涂覆设备的视图。

图4是从上方示出图1的涂覆设备的一部分的视图。

图5是从侧面示出图1的涂覆设备的视图。

图6是详细示出设置在图1的涂覆设备中的偏移调整装置的视图。

图7是详细示出设置在图6的偏移调整装置中的偏移调整模块的视图。

图8是图7的偏移调整模块的分解透视图。

图9是示出图7的偏移调整模块的一部分的视图。

图10是示出图7的偏移调整模块的另一部分的视图。

图11是示出图7的偏移调整模块对准间隔件的状态的视图。

图12是示出根据本公开内容的另一实施例的偏移调整装置的视图。

具体实施方式

在下文中，将参考附图详细描述本公开内容的优选实施例。在描述之前，应当理解，在说明书和所附权利要求中使用的术语或词语不应当被解释为限于一般的和字典的含义，而是在允许发明人为了最佳解释而适当地定义术语的原则的基础上，基于与本公开内容的技术方面相对应的含义和概念来解释。

因此，本文提出的描述仅仅是用于说明目的的优选示例，并不旨在限制本公开内容的范围，因此应当理解，在不脱离本公开内容的范围的情况下，可以对其进行其他等同变换和修改。

图1是示出根据本公开内容的实施例的涂覆设备1的整体形状的图，图2是从前面示出图1的涂覆设备1的视图，图3是从上方示出图1的涂覆设备1的视图，图4是从上方示出图1的涂覆设备1的一部分的视图，图5是从侧面示出图1的涂覆设备1的视图。

在本公开内容的实施例中，图中所示的X轴方向可以意指涂覆剂的排出方向，Y轴方向可以意指狭缝模头22在水平面(XY平面)上垂直于X轴方向的纵向方向，Z轴方向可以意指垂直于X轴方向和Y轴方向两者的垂直方向。

参考图1至5，根据本公开内容的实施例的涂覆设备1可以包括偏移调整装置10和涂覆剂施加装置20。

偏移调整装置10可以被配置为调整涂覆剂施加装置20的部件之间的偏移。

涂覆剂施加装置20可以包括狭缝模头22和间隔件24。

狭缝模头22可以被配置为将涂覆剂(未示出)施加到基底(未示出)。例如，狭缝模头22可以通过形成为缝形的排出口将涂覆剂喷出到外部。狭缝模头22可以通过将涂覆剂施加在基底上来形成涂层。此外，狭缝模头22可以连接到外部涂覆剂供应装置(未示出)以接收涂覆剂。

可以供应基底以卷绕在涂覆辊(未示出)上。这种基底可以是用于形成二次电池的电极(正极或负极)的集电器，但不限于此。作为另一个示例，基底可以是用于制造二次电池的其他部件的基底，例如用于制造隔板的隔板织物，隔板织物的一侧或两侧上涂覆有涂覆浆料，涂覆浆料中混合了聚合物粘合剂、分散剂和耐热填料，或者是用于制造其他部件的其他基底，其中涂层形成在其他基底上。此外，涂覆剂可以是施加到基底上的涂覆材料。例如，涂覆剂可以是施加到正极集电器的正极活性材料浆料。

具体而言，上述狭缝模头22可以包括第一模头22a和第二模头22b。

第一模头22a可以形成为大致六面体形状。另外，用于储存从涂覆剂供应装置供应的涂覆剂的空间可形成在第一模头22a内部。

第二模头22b可以形成为大致六面体形状并且被设置为在垂直方向上面对第一模头22a。作为示例，第二模头22b可以设置在第一模头22a上。

间隔件24可以设置在狭缝模头22中。间隔件24可以被配置为调整从狭缝模头22排出涂覆剂的宽度。具体而言，间隔件24可以在垂直方向上设置在第一模头22a和第二模头22b之间。作为示例，间隔件24可以通过朝向稍后描述的模唇L切割一侧而形成为近似形，并且联接到第一模头22a。在图4所示的示例中，间隔件24可以被配置为通过在中心包括突出部来同时涂覆两道。以这种方式，由于可以通过调整间隔件24的突出部的数量来调整道数，因此通过包括能够涂覆两道或更多道的间隔件24可以进行多道涂覆。

第一模头22a和第二模头22b可通过螺栓C在垂直方向上联接。此时，螺栓C可穿过间隔件24的一部分并在垂直方向上联接第一模头22a和第二模头22b。

另外，在第一模头22a和第二模头22b联接的状态下，模唇L可形成在狭缝模头22的尖端。具体而言，模唇L可以在涂覆剂的排出方向(X轴方向)上从狭缝模头22的尖端突出预定长度。尽管未示出，但在上述狭缝模头22中，模唇L可邻近涂覆辊的侧表面设置。在这种情况下，狭缝模头22可以称为水平模头。可替换地，在狭缝模头22中，模唇L可邻近涂覆辊的下部部分设置。在这种情况下，狭缝模头22可以称为垂直模头。

狭缝模头22可以通过模唇L将涂覆剂喷涂到卷绕在涂覆辊的外表面上的基底。

在上述实施例中，由于间隔件24插入在第一模头22a和第二模头22b之间以限定一个狭缝，因此在这种情况下，狭缝模头22可以是单狭缝模头。说明性地，除了第一模头22a和第二模头22b之外，狭缝模头22还可以包括一个模头和一个间隔件。在这种情况下，狭缝模头22可以是双狭缝模头，因为可以通过在每两个模头之间限定狭缝来限定总共两个狭缝。在上述狭缝模头22中，可以以这种方式容易地改变狭缝的数量。

上述偏移调整装置10可以包括偏移测量模块100和偏移调整模块200。

偏移测量模块100可以被配置为测量间隔件24和狭缝模头22的模唇L之间的偏移。作为示例，偏移测量模块100可以是百分表。这种百分表可以被配置为比较至少两个或更多个对象之间的距离差。

偏移调整模块200可以联接到间隔件24并且被配置为根据所测量的偏移来对准间隔件24。此时，偏移调整模块200可以被配置为在上述螺栓C从狭缝模头22移除并且释放第一模头22a和第二模头22b之间的联接的状态下对准间隔件24。

偏移测量模块100和偏移调整模块200可以一体地设置在上述狭缝模头22中。即，根据由偏移测量模块100测量的狭缝模头22的模唇L和间隔件24之间的偏移，偏移调整模块200可以对准间隔件24，使得在涂覆剂的排出方向(X轴方向)上，模唇L和间隔件24的端部之间的间隔距离减到最小。

根据本公开内容的实施例，可以定量地测量狭缝模头22的模唇L和间隔件24之间的偏移。此外，可以实时测量偏移。另外，由于可以根据测量的偏移通过联接到间隔件24的偏移调整模块200对准间隔件24，因此具有可以更精确地对准间隔件24的优点。因此，可以使间隔件24的左右对准偏差减到最小，并且可以使从狭缝模头22排出涂覆剂的左右排出宽度的偏差减到最小。因此，通过使左偏移和右偏移一致，当在基底上执行多道涂覆时，可以使每一道的图案宽度均匀。

再次参考图1至5，偏移调整装置10可以被配置为联接到狭缝模头22的在涂覆剂的排出方向上与模唇L相反的一侧。此时，狭缝模头22的与模唇L相反的一侧可以构造成平坦的。

即，偏移调整装置10的偏移测量模块100和偏移调整模块200可以在狭缝模头22中一体地设置在与从狭缝模头22排出涂覆剂的模唇L相反的一侧。作为示例，偏移测量模块100和偏移调整模块200可以联接到第一模头22a的一侧。

根据实施例，由于间隔件24可以在与模唇L相反的一侧上对准，因此与间隔件24在从狭缝模头22的尖端突出的模唇L的一侧上对准相比，间隔件24的对准更稳定。

图6是详细示出设置在图1的涂覆设备1中的偏移调整装置10的视图。

参考图1至6，偏移测量模块100可以包括支撑托架120和指示器140。

支撑托架120可以设置在狭缝模头22上。作为示例，支撑托架120可以联接到上述第一模头22a的一侧。

指示器140可以由支撑托架120支撑并接触狭缝模头22和间隔件24，以测量狭缝模头22的模唇L和间隔件24之间的偏移。

具体而言，指示器140可以包括测量器142和标尺144。

测量器142可以被配置为接触狭缝模头22和间隔件24，并比较狭缝模头22和间隔件24之间在涂覆剂的排出方向上的距离差。作为示例，测量器142可以接触第一模头22a的一侧和间隔件24，以测量狭缝模头22的模唇L与间隔件24之间在涂覆剂的排出方向上的偏移。

标尺144可以显示由测量器142从外部测量的间隔件24和狭缝模头22的模唇L之间的偏移。

说明性地，在测量器142与作为参考表面的第一模头22a的一侧接触的状态下，标尺144的刻度可以被设置为“0”。然后，测量器142可以接触间隔件24。

在这种状态下，当标尺144的刻度改变时，可以判断出狭缝模头22的模唇L与间隔件24的端部之间的偏移。即，当在位于模唇L的相反侧上的第一模头22a的一侧和间隔件24的端部之间在涂覆剂的排出方向上发生距离差时，在狭缝模头22的模唇L和间隔件24的端部之间可以发生相同的距离差。因此，在位于模唇L的相反侧上的第一模头22a的一侧和间隔件24的端部之间在涂覆剂的排出方向上引起的距离差可以被判断为狭缝模头22的模唇L和间隔件24之间的偏移。

根据实施例，由于可以以简单的方式测量间隔件24和狭缝模头22的模唇L之间的偏移，因此可以减少对准间隔件24所需的时间。

图7是详细示出设置在图6的偏移调整装置10中的偏移调整模块200的视图，图8是图7的偏移调整模块200的分解透视图，图9是示出图7的偏移调整模块200的一部分的视图，图10是示出图7的偏移调整模块200的另一部分的视图，图11是示出图7的偏移调整模块200对准间隔件24的状态的视图。

此时，图11中的狭缝模头22的模唇L和间隔件24之间的偏移示例性地由附图标记“O”表示。另外，在图11中，省略了前述第二模头22b的图示。

参考图7至11，偏移调整模块200可以包括支撑单元210和移动台单元220。

支撑单元210可以设置在狭缝模头22中。作为示例，支撑单元210可以联接到上述第一模头22a的一侧。

移动台单元220可以由支撑单元210支撑。另外，移动台单元220可以被配置为根据在涂覆剂的排出方向(X轴方向)上的移动来对准间隔件24。移动台单元220可以连接到间隔件24。

以这种方式，由于可以在涂覆剂的排出方向上移动的移动台单元220在通过支撑单元210联接到狭缝模头22的同时对准间隔件24，因此间隔件24的更稳定的对准是可能的。

此外，偏移调整模块200还可以包括偏移调整引导单元230和控制单元240。

偏移调整引导单元230设置在移动台单元220中，并且可以联接到间隔件24。偏移调整引导单元230可以设置为在垂直方向上从移动台单元220的上侧延伸。

控制单元240可以被配置为控制移动台单元220在涂覆剂的排出方向上的移动。具体而言，可以在涂覆剂的排出方向(X轴方向)上驱动控制单元240，以控制移动台单元220在涂覆剂的排出方向上的移动。作为示例，控制单元240可以被配置为以大约0.001mm的间隔控制移动台单元220的移动，但不限于此。

根据实施例，间隔件24在涂覆剂的排出方向上的更精细的对准是可能的。

返回参考图7至11，间隔件24可以在从狭缝模头22向外突出的部分包括孔H。

另外，偏移调整引导单元230可以被配置为联接到间隔件24的孔H。此时，偏移调整引导单元230可以在垂直方向上联接到间隔件24的孔H。此外，偏移调整引导单元230的外表面可以设置成与间隔件24的孔H对应的形状。

根据实施例，由于移动台单元220和间隔件24可以稳定地连接，因此可以在涂覆剂的排出方向上更精确地对准间隔件24。

另外，由于间隔件24联接到设置在移动台单元220中的偏移调整引导单元230，因此即使在对准间隔件24之后再次联接第一模头22a和第二模头22b，也可以使间隔件24的对准状态的未对准减到最小。

另外，如果确认间隔件24被对准为具有比设定偏移更大的偏移，则可以通过操纵容易地调整偏移，使得可以更容易地解决由于涂覆界面缺陷引起的涂覆宽度差异的问题。

例如，当在集电器的两侧上形成电极活性材料层图案时，形成在集电器的上表面的电极活性材料层图案的宽度方向端部和形成在集电器的下表面的电极活性材料层图案的宽度方向端部优选在垂直方向上对准。另外，宽度方向端部之间的差异被作为称作失配的质量指标来管理。失配是一个重要的管理项目，因为它也与二次电池的安全问题有关。如果左偏移和右偏移由于间隔件24的未对准而不同，或者如果间隔件24被对准为具有比设定偏移更大的偏移，则这种失配加剧，并且难以管理失配，特别是当使用增加道数的宽集电器时。根据本公开内容的实施例，由于使左偏移和右偏移一致和设置偏移管理容易，因此可以提高失配处理能力。此外，由于可以定量和实时地测量偏移，因此可以立即管理和响应，并且在涂覆停止之后不需要诸如拆卸模头块和重新组装间隔件的措施，因此可以减少条件调整损失。

返回参考图7至11，移动台单元220可以包括第一块体222、第二块体224和连接单元226。

第一块体222可以联接到上述支撑单元210。此时，第一块体222可处于固定到支撑单元210的状态。

第二块体224联接到第一块体222的顶部，并且可以配置为根据控制单元240的驱动在涂覆剂的排出方向上移动。另外，偏移调整引导单元230可以设置在第二块体224上。如图7和8所示，第二块体224可以被配置为根据控制单元240的驱动在涂覆剂的排出方向上移动并对准间隔件24。

连接单元226可以联接到控制单元240，以连接第二块体224和控制单元240。控制单元240的一部分可以穿透到连接单元226中。另外，紧固孔E可以形成在连接单元226的上部部分。此时，可以通过将在垂直方向上穿透第二块体224的紧固构件B联接到紧固孔E来进行第二块体224和连接单元226之间的连接。

详细地，控制单元240可以包括驱动单元242和手柄单元244。

作为上述控制单元240的一部分的驱动单元242可以通过在涂覆剂的排出方向上延伸而设置在第一块体222内。此外，驱动单元242可以贯穿联接到连接单元226。作为示例，驱动单元242可以旋拧到连接单元226。

手柄单元244连接到驱动单元242，并且可以通过操作者的操纵来旋转驱动单元242，以控制驱动单元242在涂覆剂的排出方向上的驱动。在这种情况下，当驱动单元242在涂覆剂的排出方向上被驱动时，连接到驱动单元242的连接单元226可以在涂覆剂的排出方向上移动。因此，连接到连接单元226的第二块体224可以在涂覆剂的排出方向上移动。作为示例，可以在涂覆剂的排出方向上以大约0.001mm的间隔控制第二块体224的移动。

如上所述，由于间隔件24可以通过控制单元240和移动台单元220之间的螺纹联接来对准，因此即使当操作者的技能水平低时，也可以更精确地对准间隔件24。因此，可以减小取决于操作者的技能水平的间隔件24的对准偏差并提高可操作性。

特别地，第二块体224可以包括插入部分224a。作为示例，插入部分224a可以形成为在涂覆剂的排出方向(X轴方向)上延伸。

插入部分224a可以形成为在下端沿水平方向(Y轴方向)向内突出并插入第一块体222的上端。

此外，第一块体222可以包括凹进部分222a。作为示例，凹进部分222a可以形成为在涂覆剂的排出方向(X轴方向)上延伸。

凹进部分222a可以通过在第一块体222的顶部沿水平方向(Y轴方向)向内凹进而形成，并且可以被配置为容纳插入部分224a。即，第一块体222的凹进部分222a和第二块体224的插入部分224a可以形成为具有彼此对应的形状。

此外，凹进部分222a可以被配置为根据控制单元240的驱动来引导第二块体224在涂覆剂的排出方向上的移动。

根据实施例，可以更稳定地使第二块体224根据控制单元240的驱动而在涂覆剂的排出方向上移动。因此，可以实现间隔件24的更稳定和精确的对准。

返回参考图7至11，偏移调整模块200还可以包括突出构件250和移动限制单元260。

突出构件250可以形成为从第二块体224的侧面突出。作为示例，突出构件250可以在水平方向(Y轴方向)上从第二块体224的侧面突出。

移动限制单元260可以具有引导孔G，引导孔G被配置为引导突出构件250在涂覆剂的排出方向上的移动。突出构件250可以在水平方向(Y轴方向)上插入引导孔G中。此外，移动限制单元260可以固定到第一块体222。作为示例，引导孔G可以被配置为在涂覆剂的排出方向(X轴方向)上延伸。

另外，突出构件250可以被配置为通过与引导孔G的一端或另一端接触来限制在涂覆剂的排出方向上的移动。即，在使第二块体224在涂覆剂的排出方向上移动期间，突出构件250可以通过与引导孔G的一端或另一端接触来限制第二块体224的移动范围。

因此，可以防止由于通过偏移调整引导单元230连接到间隔件24的第二块体224在涂覆剂的排出方向上的过度移动而损坏间隔件24。

返回参考图1至4，偏移调整装置10还可以包括固定构件F。

固定构件F可以被配置为将偏移调整装置10固定到狭缝模头22的一侧。

具体而言，固定构件F可以将偏移测量模块100和偏移调整模块200固定到狭缝模头22的与模唇L相反的一侧。作为示例，固定构件F可以联接到第一模头22a的一侧。

更具体而言，固定构件F可以将偏移测量模块100的支撑托架120和偏移调整模块200的支撑单元210固定到第一模头22a的一侧。此时，固定构件F可以支撑所述支撑托架120和支撑单元210的下部部分。

说明性地，固定构件F可以被配置为包括磁性材料，以便可以从狭缝模头22拆卸。此时，支撑托架120和支撑单元210可以被构造为包括金属材料。

根据实施例，在间隔件24的对准过程中，偏移调整装置10可以稳定地固定到狭缝模头22。因此，可以使设置狭缝模头22的工作空间的振动的影响减到最小，并且更稳定地对准间隔件24。

返回参考图1至4，可以在狭缝模头22的纵向方向(Y轴方向)上设置多个偏移调整装置10。

根据该构造，由于可以在狭缝模头22的纵向方向上的多个位置处对准间隔件24，因此可以更快速且精确地对准间隔件24。

另外，由于间隔件24可以在狭缝模头22的纵向方向上的多个位置处联接到偏移调整引导单元230，因此即使在对准间隔件24之后第一模头22a和第二模头22b再次联接时，也可以进一步使间隔件24的对准状态的未对准减到最小。

上述多个偏移调整装置10可以沿着狭缝模头22的纵向方向设置在狭缝模头22的纵向方向上的中心的两侧。

根据该构造，由于可以基于狭缝模头22的纵向方向上的中心在两侧上同时对准间隔件24，因此可以进一步使间隔件24的左右对准偏差减到最小。

特别地，多个偏移调整装置10可以基于狭缝模头22的纵向方向上的中心在狭缝模头22的纵向方向上对称地设置。

根据该构造，可以进一步使间隔件24的左右对准偏差减到最小。

图12是示出根据本公开内容的另一实施例的偏移调整装置12的视图。

由于根据本实施例的偏移调整装置12类似于前一实施例的偏移调整装置10，因此将省略与前一实施例的部件基本相同或类似的部件的冗余描述，下面将描述与前一实施例的不同之处。

参考图12，可以在狭缝模头22的纵向方向上设置多个偏移调整装置12。此外，多个偏移调整装置12之间的距离可以彼此调整。即，多个偏移调整装置12之间的间隔可以在狭缝模头22的纵向方向(Y轴方向)上彼此调整。

具体而言，偏移调整装置12可以包括间隔控制模块300。作为示例，间隔控制模块300可以是线性运动(LM)引导件，并且可以被配置为在狭缝模头22的纵向方向上延伸。

间隔控制模块300可以设置在狭缝模头22的与模唇L相反的一侧。作为示例，间隔控制模块300可以设置为与第一模头22a的一侧相邻。

另外，间隔控制模块300可以被配置为引导偏移测量模块100和偏移调整模块200在狭缝模头22的纵向方向上的移动。具体而言，固定偏移测量模块100和偏移调整模块200的固定构件F可以被配置为在间隔控制模块300上移动。

根据该构造，由于偏移调整装置12可以容易地移动到间隔件24未对准的位置，因此可以更容易地对准间隔件24。

如上所述，根据本公开内容的实施例，可以定量地测量狭缝模头22的模唇L和间隔件24之间的偏移。此外，可以实时测量偏移。另外，由于可以根据测量的偏移通过联接到间隔件24的偏移调整模块200对准间隔件24，因此具有可以更精确地对准间隔件24的优点。因此，可以使间隔件24的左右对准偏差减到最小，并且可以使从狭缝模头22排出涂覆剂的左右排出宽度的偏差减到最小。

另外，由于偏移调整模块200和间隔件24可以稳定地连接，因此可以使间隔件24在涂覆剂的排出方向上更精确地对准。

另外，由于间隔件24连接到偏移调整模块200，因此即使在对准间隔件24之后再次联接第一模头22a和第二模头22b时，也可以使间隔件24的对准状态的未对准减到最小。

已经详细描述了本公开内容。然而，应当理解，详细描述和具体示例虽然指示了本公开内容的优选实施例，但是仅以说明的方式给出，因为根据该详细描述，本公开内容的范围内的各种改变和修改对于本领域技术人员将变得显而易见。

另一方面，在本公开内容中，使用了指示诸如上、下、左、右、前、后的方向的术语，但是这些术语仅是为了便于解释，并且对于本公开内容领域的技术人员显而易见的是，这些术语可以根据目标对象的位置或观察者的位置而变化。

Claims (15)

1.一种偏移调整装置，所述偏移调整装置被配置用于对准设置在涂覆剂施加装置的狭缝模头中的间隔件，所述涂覆剂施加装置被配置为将涂覆剂施加到基底，所述偏移调整装置包括：

偏移测量模块，所述偏移测量模块被配置为测量所述狭缝模头的模唇和所述间隔件之间的偏移；以及

偏移调整模块，所述偏移调整模块联接到所述间隔件并且被配置为根据所测量的偏移来对准所述间隔件。

2.根据权利要求1所述的偏移调整装置，其中，所述偏移调整装置被配置为联接到所述狭缝模头的在涂覆剂的排出方向上与所述模唇相反的一侧。

3.根据权利要求1所述的偏移调整装置，其中，所述偏移测量模块包括：

支撑托架，所述支撑托架设置在所述狭缝模头上；以及

指示器，所述指示器由所述支撑托架支撑并且被配置为通过与所述狭缝模头和所述间隔件接触来测量所述偏移。

4.根据权利要求1所述的偏移调整装置，其中，所述偏移调整模块包括：

支撑单元，所述支撑单元设置在所述狭缝模头上；以及

移动台单元，所述移动台单元由所述支撑单元支撑并且被配置为根据在所述涂覆剂的排出方向上的移动来对准所述间隔件。。

5.根据权利要求4所述的偏移调整装置，其中，所述偏移调整模块还包括：

偏移调整引导单元，所述偏移调整引导单元设置在所述移动台单元上并联接到所述间隔件；以及

控制单元，所述控制单元被配置为驱动所述移动台单元在所述涂覆剂的排出方向上的移动。

6.根据权利要求5所述的偏移调整装置，

其中，所述间隔件在从所述狭缝模头向外突出而形成的部分中包括孔，

其中，所述偏移调整引导单元被配置为联接到所述间隔件的所述孔。

7.根据权利要求5所述的偏移调整装置，其中，所述移动台单元包括：

第一块体，所述第一块体联接到所述支撑单元；

第二块体，所述第二块体联接到所述第一块体的上部部分，并且被配置为根据所述控制单元的驱动在所述涂覆剂的排出方向上移动；以及

连接单元，所述连接单元联接到所述控制单元并且被配置为连接所述第二块体和所述控制单元，

其中，所述偏移调整引导单元设置在所述第二块体的上部部分。

8.根据权利要求7所述的偏移调整装置，

其中，所述第二块体包括插入部分，所述插入部分形成在所述第二块体的底部，在水平方向上向内突出并且被配置为插入到所述第一块体的顶部，

其中，所述第一块体包括凹进部分，所述凹进部分形成在所述第一块体的顶部，在水平方向上向内凹进并且被配置为容纳所述插入部分，

其中，所述凹进部分被配置为根据所述控制单元的驱动来引导所述第二块体在所述涂覆剂的排出方向上的移动。

9.根据权利要求7所述的偏移调整装置，其中，所述偏移调整模块还包括：

突出构件，所述突出构件形成为从所述第二块体的侧面突出；以及

移动限制单元，所述移动限制单元具有引导孔，所述引导孔被配置为引导所述突出构件在所述涂覆剂的排出方向上的移动，所述移动限制单元被固定到所述第一块体，

其中，所述突出构件被配置为通过与所述引导孔的一端或另一端接触来限制在所述涂覆剂的排出方向上的移动。

10.根据权利要求2所述的偏移调整装置，还包括固定构件，所述固定构件被配置为将所述偏移调整装置固定到所述狭缝模头的一侧。

11.根据权利要求1所述的偏移调整装置，

其中，在所述狭缝模头的纵向方向上设置多个偏移调整装置。

12.根据权利要求11所述的偏移调整装置，

其中，所述多个偏移调整装置沿着所述狭缝模头的纵向方向设置在所述狭缝模头的纵向方向上的中心的两侧。

13.根据权利要求12所述的偏移调整装置，

其中，所述多个偏移调整装置基于所述狭缝模头的纵向方向上的中心在所述狭缝模头的纵向方向上对称地设置。

14.根据权利要求11所述的偏移调整装置，

其中，所述多个偏移调整装置之间的距离被配置为彼此可调整。

15.一种涂覆设备，包括：

根据权利要求1至14中任一项所述的偏移调整装置；以及

涂覆剂施加装置，所述涂覆剂施加装置被配置为将涂覆剂施加到基底。