CN117597620A - 具有衰减区域的光学元件及其制造方法 - Google Patents

具有衰减区域的光学元件及其制造方法 Download PDF

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Abstract

提供光学元件，其将作为光源发挥功能的发光元件和受光元件光学耦合，能够简单地制造，高精度地实现期望的衰减率。光学元件以光源(L0)与接受来自该光源的光的受光元件光学耦合的方式具有入射面和出射面，该入射面(S1)构成为与光源对置，该出射面(S2)构成为与该受光元件对置，其中，该光学元件构成为从该光源入射到该入射面的光在该光学元件内形成该光源的第1像(L1)并且在从该出射面射出后形成该光源的第2像(L2)，在形成该第1像(L1)的位置附近具有使所通过的光的量减少的衰减区域。

Description

具有衰减区域的光学元件及其制造方法
技术领域
本发明涉及具有衰减区域的光学元件及其制造方法。
背景技术
在光通信的领域中，使用将作为光源发挥功能的发光元件与受光元件光学耦合的光学元件(光模块)。在使用这样的光学元件时，从安全性和规格的观点出发，有时要求使通过的光量以期望的衰减率衰减。为了使光量以期望的衰减率衰减，开发了在光通过的面具有光衰减用的膜的光学元件(专利文献1)、在内部具有使光扩散的形状的光学元件(专利文献2)等。
但是，为了制造具有膜的光学元件，工时和成本增加。另外，在具有在内部使光扩散的形状的光学元件的情况下，由扩散的光引起的噪声有可能增加。另外，在任意方法的情况下都不容易高精度地实现所希望的衰减率。
这样，尚未开发出一种光学元件及其制造方法，该光学元件是将作为光源发挥功能的发光元件和受光元件光学耦合的光学元件，能够简单地制造，高精度地实现期望的衰减率。因此，对于将作为光源发挥功能的发光元件与受光元件光学耦合的光学元件、即能够简单地制造且以高精度实现期望的衰减率的光学元件及其制造方法有需求。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开平11-119063
专利文献2：日本特开2008-145678
发明内容
发明所要解决的课题
本发明的技术课题在于提供一种光学元件及其制造方法，该光学元件是将作为光源发挥功能的发光元件和受光元件光学耦合的光学元件，能够简单地制造，高精度地实现期望的衰减率。
用于解决课题的手段
本发明的第1方式的光学元件以光源与接受来自该光源的光的受光元件光学耦合的方式具有入射面和出射面，该入射面构成为与光源对置，该出射面构成为与该受光元件对置，其中，该光学元件构成为从该光源入射到该入射面的光在该光学元件内形成该光源的第1像并且在从该出射面射出后形成该光源的第2像，在形成该第1像的位置附近具有使所通过的光的量减少的衰减区域。
本方式的光学元件是将作为光源发挥功能的发光元件和受光元件光学耦合的光学元件，能够简单地制造，以高精度实现期望的衰减率。
在本发明的第1方式的第1实施方式的光学元件中，该入射面和该出射面中的至少一方构成为隔着插芯而与光纤对置。
在本发明的第1方式的第2实施方式的光学元件中，将经过该入射面和该出射面的中心的光线的路径作为光轴，将该光源与该入射面之间的沿着光轴的设计上的距离表示为a，将该入射面与该出射面之间的沿着光轴的距离表示为l，将该出射面与该第2像之间的沿着光轴的设计上的距离表示为d，将该入射面的该光源侧的焦距表示为f1，将该出射面的该受光元件侧的焦距表示为f2，将该光学元件的折射率表示为n，则满足下式：
0<f1<a
0<f2<d
在本发明的第2方式的光学元件的制造方法中，该光学元件以光源与接受来自该光源的光的受光元件光学耦合的方式具有入射面和出射面，该入射面构成为与光源对置，该出射面构成为与该受光元件对置，该光学元件在内部具有衰减区域，其中，该光学元件的制造方法包含如下步骤：制造光学元件，该光学元件以从该光源入射到该入射面的光在该光学元件内形成该光源的第1像并且在从该出射面射出后形成该光源的第2像的方式确定形状；以及通过经由该入射面或该出射面照射激光，而在形成该第1像的位置的附近形成使所通过的光的量减少的衰减区域。
根据本方式的光学元件的制造方法，能够简单地制造以高精度实现期望的衰减率的光学元件。
在本发明的第2方式的第1实施方式的光学元件的制造方法中，该入射面和该出射面中的至少一方构成为隔着插芯而与光纤对置，在形成该衰减区域的步骤中，经由该插芯和该入射面或该出射面照射该激光。
根据本实施方式，在形成衰减区域的步骤中，能够通过插芯高精度地定位激光的照射位置。
在本发明的第2方式的第2实施方式的光学元件的制造方法中，该光学元件是接收用光学元件，在形成衰减区域的步骤中，在动作时的光纤的位置配置光纤激光器，经由该入射面照射该激光。
根据本实施方式，在形成衰减区域的步骤中，在动作时的光纤的位置配置光纤激光器，经由入射面照射激光，因此能够在大致第1像的位置形成衰减区域。
在本发明的第2方式的第3实施方式的光学元件的制造方法中，该光学元件是发送用光学元件，在形成衰减区域的步骤中，在动作时的大致该第2像的位置配置光纤激光器，经由该出射面照射该激光。
根据本实施方式，在形成衰减区域的步骤中，在动作时的大致该第2像的位置配置光纤激光器，经由该出射面照射该激光，因此能够在大致第1像的位置形成衰减区域。
附图说明
图1是示出本发明的一个实施方式的光学元件的透视图。
图2是示出本发明的一个实施方式的光学元件、光纤以及为了将光学元件与光纤光学连接而使用的插芯的透视图。
图3是本发明的一个实施方式的光学元件、光纤以及用于将光学元件与光纤光学连接的插芯的俯视图。
图4是示出沿图3的A-A线的截面的图。
图5是示出沿图3的B-B线的截面的图。
图6是图4的C部分的放大图。
图7是图5的D部分的放大图。
图8是示出本发明的光学元件的光学系统的近轴成像光学系统模型的图。
图9是示出实施例1的光学元件动作时的光线路径的图。
图10是示出实施例1的光学元件的衰减区域形成时的光线路径的图。
图11是示出与实施例1同样地具有反射面的光学元件的包含衰减区域形成时的光线路径的截面的一例的图。
图12是示出与实施例1同样地具有反射面的光学元件的包含衰减区域形成时的光线路径的截面的其他例的图。
图13是示出实施例2的光学元件动作时的光线路径的图。
图14是示出与实施例2同样地不具有反射面的光学元件的包含动作时的光线路径的截面的一例的图。
图15是示出实施例2的光学元件的衰减区域形成时的光线路径的图。
图16是示出与实施例2同样地不具有反射面的光学元件的包含衰减区域形成时的光线路径的截面的一例的图。
图17是说明光学元件的制造方法的流程图，该光学元件以光源与接受来自该光源的光的受光元件光学耦合的方式具有入射面和出射面，该入射面构成为与光源对置，该出射面构成为与该受光元件对置，该光学元件在内部具有使所通过的光的量减少的衰减区域。
图18是示出光学元件动作时的光学系统的图。
具体实施方式
图1是示出本发明的一个实施方式的光学元件100的透视图。
图2是示出本发明的一个实施方式的光学元件100、光纤210以及用于将光学元件100与光纤210光学连接的插芯220的透视图。
图3是图2所示的光学元件100、光纤210以及用于将光学元件100与光纤210光学连接的插芯220的俯视图。
图4是示出沿图3的A-A线的截面的图。
图5是示出沿图3的B-B线的截面的图。
图6是图4的C部分的放大图。根据图6，配置为光学元件100的受光侧透镜110与光纤210对置，光学元件100的出射侧透镜120与受光元件300对置。从光纤210射出并入射到受光侧透镜110的光被全反射面R反射，并被出射侧透镜120聚光于受光元件300的受光面的附近。受光侧透镜110和出射侧透镜120分别形成受光侧透镜阵列和出射侧透镜阵列。来自多个光纤中的一个的光经由与该光纤对置的一个受光侧透镜、与该受光侧透镜对应的一个出射侧透镜到达与该出射侧透镜对置的一个受光元件。也将一个受光侧透镜以及一个出射侧透镜分别称为光学元件的入射面以及出射面。
图7是图5的D部分的放大图。根据图7，通过将光学元件100的插芯嵌合用销105嵌合到插芯220的孔中，光学元件100和插芯220被定位和固定。其结果，光纤210和入射面110被高精度地对位。
通常，本发明的光学元件100构成为将光源和受光元件光学耦合。在光学元件100用于发送的情况下，光源是VCSEL(Vertical Cavity Surface Emitting LASER，垂直谐振器面发光激光器)等半导体光学元件，受光元件是光纤。在光学元件100用于接收的情况下，光源是光纤，受光元件是光电二极管等半导体光学元件。
使用图1-图6说明的光学元件是接收用光学元件。在光学元件100用于发送的情况下，入射面与作为光源的VCSEL等半导体光学元件对置，出射面与作为受光元件的光纤的端面对置。
使用近轴成像光学系统模型说明本发明的光学元件的光学系统的特征。如上所述，光学元件的入射面与光源对置，光学元件的出射面与受光元件对置。
图8是示出本发明的光学元件的光学系统的近轴成像光学系统模型的图。光学元件的光学系统构成为在光学元件的内部形成光源L0的第1像L1，在光学元件的外部形成光源L0的第2像L2。这里，将通过光源L0、入射面S1以及出射面S2的中心的光线的路径设为光学系统的光轴。另外，在图8中，光源及其像仅记载了比光轴靠上或靠下的部分。
为了构成为在光学元件的内部形成光源L0的第1像L1，在光学元件的外部形成光源L0的第2像L2，光学系统需要满足以下的条件。
0<f1<a (1)
0<f2<d (2)
标号说明如下。
a：从光源L0到入射面S1的沿着光轴的距离
b：从入射面S1到第1像L1的沿着光轴的距离
c：从第1像L1到出射面S2的沿着光轴的距离
d：从出射面S2到第2像L2的沿着光轴的距离
n：光学元件的折射率
f1：入射面S1的焦距
f2：出射面S2的焦距
接着，研究用于使光束收敛于出射面S2内的条件。为了使光束收敛于出射面S2内，光学系统需要满足以下的条件。
另一方面，根据图8，以下的关系成立。
P1＝h0+aθ0
根据上述的式子，作为用于使光束收敛于出射面S2内的条件，得到以下的式子。
标号说明如下。
p1：入射面S1的光束半径
p2：出射面S2的光束半径
h0：光源L0距光轴的最大高度
h1：第1像L1距光轴的最大高度
D：出射面S2的有效直径
θ0：光源的扩散角度(半角值，单位为弧度)
另外，若仅以主光线来研究用于使光束收敛于出射面S2内的条件，则得到以下的式子。
根据上述的式子，作为用于使光束收敛于出射面S2内的条件，得到以下的式子。
接着，设受光元件为光纤，研究用于使光束收敛于光纤端面内的条件。光源L0的第2像L2形成于光纤的端面上，为了使光束收敛于光纤芯内，光学系统需要满足以下的条件。
h2<hcore
另一方面，根据图8，以下的关系成立。
根据上述的式子，作为用于使光束收敛于光纤芯内的条件，得到以下的式子。
标号说明如下。
h2：第2像L2距光轴的最大高度
hcore：光纤芯的半径
根据式(4)以及(6)，为了使光束收敛于出射面以及光纤芯内，需要满足以下的条件。
此外，一般而言，若将光纤芯的半径置换为受光元件的圆状的受光面的半径，则若满足式(7)则光束收敛于受光元件的受光面内。
另外，若将最大像高的主光线与光轴所成的角度设为α，则根据图8，以下的关系成立。
这里，考虑
的话，将光纤的数值孔径设为NA，得到用于不产生光纤的损失的以下的关系。
以下说明本发明的实施例。在实施例中，透镜面的形状由下式定义。
标号说明如下。
sag：下沉量，即从透镜面顶点起的光轴方向的距离
从透镜面顶点起物体侧为负，像侧为正
c0：曲率(曲率半径的倒数)
r：距光轴的距离
k：圆锥常数
实施例1
图9是示出实施例1的光学元件动作时的光线路径的图。实施例1的光学元件以光源L0和受光元件光学耦合的方式包含入射面S1和出射面S2，入射面S1构成为与光源L0对置，出射面S2构成为与该受光元件对置。实施例1的光学元件是发送用光学元件，光源是VCSEL，受光元件是光纤。实施例1的光学元件在内部具有反射面R。从VCSEL放出的光在光学元件内形成光源的像(第1像)L1后，在反射面R全反射并通过出射面S2后，在光纤的端面附近形成光源L0的像(第2像)L2。在图9所示的光学系统中，光源L0与第2像L2处于共轭关系。在图9中，实线表示从光源的中心射出的光线，虚线表示从距光源的中心5μm的高度的点射出的光线。
表1是表示实施例1的光学系统的式(1)-(8)中使用的数据的表。在表1中，长度的单位是毫米。另外，由于使用近轴成像光学系统模型，因此正切(sinθ0)的值与用弧度表示的角度(θ0)的值大致相等。
表1
项目
a 0.284
b 0.686
c 0.742
d 0.288
f1 0.171
f2 0.176
n 1.639
sinθ0 0.2
NA 0.2
h0 0.005
D 0.250
hcore 0.025
根据表1，满足式(1)-(3)、式(7)以及式(8)。
表2是表示实施例1的各面的形状、面间距离以及透镜的材料、折射率的表。
表2
表2和以下所示的表4中，PEI表示聚醚酰亚胺。
接着，对如何在光学元件上形成衰减区域进行说明。在形成衰减区域时，经由插芯从发送用光学元件的动作时的出射面S2照射光纤激光等高强度的激光。发送用光学元件的动作时的出射面S2构成为在动作时经由插芯与光纤连接，因此能够将在动作时使用的插芯在衰减区域形成时直接用于光纤激光器。因此，能够高精度地实施光纤激光器等高强度的激光的光源相对于光学元件的对位。
图10是示出实施例1的光学元件的衰减区域形成时的光线路径的图。在图10的光学系统中，光纤激光器等光源L0’大致位于图9的光学系统的第2像的位置。如上所述，在图9所示的光学系统中，光源与第2像处于共轭关系，因此在图10的光学系统中，也大致在图9的光学系统的第1像的位置形成高强度的激光的光源L1’的像。因此，形成高强度的激光的光源的像的位置的树脂(塑料)的折射率或透射率变化，制作衰减区域。在图10中，实线表示从光源的中心射出的光线，虚线表示从距光源的中心5μm的高度的点射出的光线。
图11是示出与实施例1同样地具有反射面的光学元件的包含衰减区域形成时的光线路径的截面的一例的图。在图11中，从光纤激光器211射出并通过了光学元件100的激光的强度由光电二极管310测定。
图12是示出与实施例1同样地具有反射面的光学元件的包含衰减区域形成时的光线路径的截面的其他例的图。在图12中，从光纤激光器211射出并通过了光学元件100的激光的强度由功率计320测定。
如图11以及图12所示，通过一边测定从光纤激光器211射出并通过了光学元件100的激光的强度一边调整光纤激光器211的强度以及照射时间中的至少一方，能够制作所希望的衰减率的衰减区域。
当实施例1的光学元件的第1像存在于反射面R的附近时，光线的路径两次通过衰减区域，光的衰减量有可能过大。另外，若反射面R中的光束直径小，则由于反射面R的光束位置的局部的形状误差，光学性能有可能大幅劣化。因此，光学元件的第1像优选在光轴上从反射面R至少离开第1像L1的高度h1。
实施例2
图13是示出实施例2的光学元件动作时的光线路径的图。实施例2的光学元件以光源L0和受光元件光学耦合的方式包含入射面S1和出射面S2，入射面S1构成为与光源L0对置，出射面S2构成为与该受光元件对置。实施例2的光学元件是发送用光学元件，光源是VCSEL，受光元件是光纤。实施例2的光学元件在内部不具有反射面。从VCSEL放出的光在光学元件内形成光源L0的像(第1像)L1后，在通过出射面S2后，在光纤的端面附近形成光源的像(第2像)L2。在图13所示的光学系统中，光源L0与第2像L2处于共轭关系。在图13中，实线表示从光源的中心射出的光线，虚线表示从距光源的中心5μm的高度的点射出的光线。
图14是示出与实施例2同样地不具有反射面的光学元件的包含动作时的光线路径的截面的一例的图。入射面S1与用LD表示的VCSEL对置，出射面S2与光纤210对置。
表3是表示实施例2的光学系统的式(1)-(8)中使用的数据的表。在表3中，长度的单位是毫米。另外，由于使用近轴成像光学系统模型，因此正切(sinθ0)的值与用弧度表示的角度(θ0)的值大致相等。
表3
项目
a 1.000
b 2.345
c 0.655
d 0.291
f1 0.590
f2 0.166
n 1.639
sinθ0 0.2
NA 0.2
h0 0.005
D 0.250
hcore 0.025
根据表3，满足式(1)-(3)、式(7)以及式(8)。
表4是表示实施例2的各面的形状、面间距离以及透镜的材料、折射率的表。
表4
接着，对如何在实施例2的光学元件上形成衰减区域进行说明。在形成衰减区域时，经由插芯从动作时的出射面S2照射光纤激光等高强度的激光。发送用光学元件的动作时的出射面S2构成为在动作时经由插芯与光纤连接，因此能够将在动作时使用的插芯在衰减区域形成时直接用于光纤激光器。因此，能够高精度地实施光纤激光器等高强度的激光的光源相对于光学元件的对位。
图15是示出实施例2的光学元件的衰减区域形成时的光线路径的图。在图15的光学系统中，光纤激光器等光源L0’大致位于图13的光学系统的第2像的位置。如上所述，在图13所示的光学系统中，光源与第2像处于共轭关系，因此在图15的光学系统中，也大致在图13的光学系统的第1像的位置形成高强度的激光的光源的像L1’。因此，形成高强度的激光的光源的像的位置的树脂(塑料)的折射率或透射率变化，制作衰减区域。在图15中，实线表示从光源的中心射出的光线，虚线表示从距光源的中心5μm的高度的点射出的光线。
图16是示出与实施例2同样地不具有反射面的光学元件的包含衰减区域形成时的光线路径的截面的一例的图。发送用光学元件100的入射面S1与功率计320的光量监视受光面对置，发送用光学元件100的出射面S2与作为光源的光纤激光器211对置。
在内部具有使所通过的光的量减少的衰减区域的光学元件的制造方法
图17是说明光学元件的制造方法的流程图，该光学元件以光源与接受来自该光源的光的受光元件光学耦合的方式具有入射面和出射面，该入射面构成为与光源对置，该出射面构成为与该受光元件对置，该光学元件在内部具有使所通过的光的量减少的衰减区域。
在图17的步骤S1010中，制造光学元件，该光学元件以从光源入射到入射面的光在光学元件内形成光源的第1像并且在从出射面射出后在外部形成光源的第2像的方式确定形状。
通过以满足式(1)-(3)的方式确定光学元件的形状，在由光源、光学元件和受光元件构成的光学系统中，从光源入射到入射面的光在光学元件内形成光源的第1像并且在从出射面射出后能够在外部形成光源的第2像。并且，通过满足式(7)，光束收敛于出射面和受光元件的受光面内。另外，在受光元件为光纤的情况下，如果满足式(8)，则不会产生光纤中的光的损失。
在图17的步骤S1020中，通过从入射面或出射面照射激光，在形成上述第1像的位置的周边形成使通过的光的量减少的衰减区域。优选使用光纤激光器作为上述激光的光源，经由入射面和出射面中的在动作时与光纤对置的面照射激光。通过使用在动作时使用的插芯，能够高精度地确定光纤激光器的照射位置。
在发送用光学元件的情况下，在衰减区域形成时，在动作时设置光纤的出射侧设置光纤激光器而形成衰减区域。通过将光纤激光器配置于大致第2像的位置，能够在第1像的附近形成衰减区域。在接收用光学元件的情况下，在衰减区域形成时动作时在设置光纤的入射侧设置光纤激光器而形成衰减区域。通过将光纤激光器配置于在动作时设置光纤的位置，能够在第1像的附近形成衰减区域。
作为一例，光纤激光器的输出为20kw至70kw的范围。
通常，光学元件的材料优选为PEI(聚醚酰亚胺)、PI(聚酰亚胺)以及PESU(PES)(聚醚砜)等树脂(塑料)。光学元件可以使用上述材料通过注塑成型一体地制造。
通过上述的方法，能够形成0％至100％的范围的任意的衰减率的衰减区域。通常，在通信光学系统中，衰减率为90％至25.5％(-0.5dB至-6.0dB)的范围。
这里，对动作时的光源的第2像的位置与受光面的位置的关系进行说明。
图18是示出动作时的光学元件的光学系统的图。如上所述，动作时的光学元件的光学系统构成为，光源L0的第2像L2形成于受光元件的受光面或光纤的端面。在图18中，用A表示第2像的位置。在发送用光学元件的情况下，若将光纤的端面配置于A，则光源与光纤的端面处于共轭关系。因此，在发送用光学元件的情况下，能够在衰减区域形成时在A设置光纤激光器并使光纤激光器的光束聚光于动作时的第1像的位置而形成衰减区域。
在图18中，用B表示从光学元件射出的光束的直径最小的位置。也可以考虑将受光面或光纤的端面配置于B。在该情况下，受光面或光纤的端面的对位的容许精度变大。
在发送用光学元件的情况下，若在衰减区域形成时在B设置光纤激光器而形成衰减区域，则无法使光纤激光器的光束聚光于动作时的第1像的位置而形成衰减区域，因此动作时的衰减效率降低。因此，需要在衰减区域形成时对用于在A设置光纤激光器的适配器等下功夫。
在接收用光学元件的情况下，在衰减区域形成时在动作时的光纤的位置配置光纤激光器，因此不会产生发送用光学元件的情况下的上述问题。因此，受光元件的受光面的位置以光束直径比受光面的直径小的方式确定即可。
关于衰减区域的位置，“第1像的位置的附近”是指衰减区域的各点距第1像的光轴上的位置的沿着光轴的距离为从光学元件的入射面到出射面的沿着光轴的距离的+/-15％以内的范围。进而，更优选衰减区域的各点距第1像的光轴上的位置的沿着光轴的距离为从光学元件的入射面到出射面的沿着光轴的距离的+/-5％以内。
在动作时，“在受光面的附近形成光源的第2像”是指，在受光元件的受光面能够从光束接收足够的光量的光轴上的位置形成光源的第2像。

Claims (7)

1.一种光学元件，其以光源与接受来自该光源的光的受光元件光学耦合的方式具有入射面和出射面，该入射面构成为与光源对置，该出射面构成为与该受光元件对置，
其中，
该光学元件构成为从该光源入射到该入射面的光在该光学元件内形成该光源的第1像并且在从该出射面射出后形成该光源的第2像，
在形成该第1像的位置附近具有使所通过的光的量减少的衰减区域。
2.根据权利要求1所述的光学元件，其中，
该入射面和该出射面中的至少一方构成为隔着插芯而与光纤对置。
3.根据权利要求1或2所述的光学元件，其中，
将经过该入射面和该出射面的中心的光线的路径作为光轴，将该光源与该入射面之间的沿着光轴的设计上的距离表示为a，将该入射面与该出射面之间的沿着光轴的距离表示为l，将该出射面与该第2像之间的沿着光轴的设计上的距离表示为d，将该入射面的该光源侧的焦距表示为f1，将该出射面的该受光元件侧的焦距表示为f2，将该光学元件的折射率表示为n，则满足下式：
0＜f1＜a
0＜f2＜d
4.一种光学元件的制造方法，该光学元件以光源与接受来自该光源的光的受光元件光学耦合的方式具有入射面和出射面，该入射面构成为与光源对置，该出射面构成为与该受光元件对置，该光学元件在内部具有衰减区域，
其中，
该光学元件的制造方法包含如下步骤：
制造光学元件，该光学元件以从该光源入射到该入射面的光在该光学元件内形成该光源的第1像并且在从该出射面射出后形成该光源的第2像的方式确定形状；以及
通过经由该入射面或该出射面照射激光，而在形成该第1像的位置的附近形成使所通过的光的量减少的衰减区域。
5.根据权利要求4所述的光学元件的制造方法，其中，
该入射面和该出射面中的至少一方构成为隔着插芯而与光纤对置，
在形成该衰减区域的步骤中，经由该插芯和该入射面或该出射面照射该激光。
6.根据权利要求4或5所述的光学元件的制造方法，其中，
该光学元件是接收用光学元件，
在形成衰减区域的步骤中，在动作时的光纤的位置配置光纤激光器，经由该入射面照射该激光。
7.根据权利要求4或5所述的光学元件的制造方法，其中，
该光学元件是发送用光学元件，
在形成衰减区域的步骤中，在动作时的大致该第2像的位置配置光纤激光器，经由该出射面照射该激光。
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