CN117583082B - 一种陶瓷靶材加工用球磨系统 - Google Patents

Abstract

本发明涉及陶瓷靶材加工技术领域，且公开了一种陶瓷靶材加工用球磨系统，包括底座，底座上设置有驱动机构和料筒，料筒包括筒体以及分别设置于筒体首尾两端的进料口和出料口；陶瓷靶材原料和磨介通过进料口进入筒体内后，通过驱动机构驱动筒体沿其自身中轴线逆时针旋转使得陶瓷靶材原料在磨介的爬升、抛射过程中进行破碎、研磨形成粉料，再通过出料口将粉料输出；该陶瓷靶材加工用球磨系统，通过将衬板设置为可伸缩、旋转的结构，在筒体旋转的过程中在磨介开始爬升时衬板延长并向着筒壁方向旋转以携带更多磨介到达更高的位置，在磨介开始抛射时衬板缩短并向着筒心方向旋转以辅助磨介抛射，从而提高球磨系统生产效率。

Description

一种陶瓷靶材加工用球磨系统

技术领域

本发明涉及陶瓷靶材加工技术领域，具体为一种陶瓷靶材加工用球磨系统。

背景技术

镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。其中，陶瓷靶材是非金属薄膜产业发展的基础材料，通常分类为ITO靶材、氧化镁靶材、碳化硅靶材、氮化硅靶材等。在陶瓷靶材的加工过程中，由于要求的粉料细度较高，因此通常采用球磨加工。

首先将各组分原料和磨介以及根据干/湿式球磨的区别而选择加入的液体均加入球磨机中，然后在球磨机的圆筒旋转过程中，作为磨介的大小直径两种钢球在离心力、摩擦力以及筒体内壁安装的衬板的作用下爬升到一定高度后抛射下来，由于冲击力而击碎矿石，同时磨介和原料颗粒自身也进行相互摩擦的研磨作用，从而将原料混合为均匀的粉料。

在陶瓷靶材的球磨加工过程中，衬板起到的作用是保护筒体以及携带部分磨介和原料颗粒爬升到一定高度，而现有的球磨系统中，衬板通常是依照设计而固定形状和尺寸的，这种设计就给衬板发挥作用带来了很多限制，一方面衬板不能设计的太薄太短，否则起不到足够的携带作用，另一方面衬板又不能过厚过高，否则会降低筒内有效容积，减少球磨系统生产效率。

因此，针对现有技术中存在的上述技术问题，提出一种陶瓷靶材加工用球磨系统。

发明内容

本发明提供了一种陶瓷靶材加工用球磨系统，具备通过将衬板设置为可伸缩、旋转的结构，在筒体旋转的过程中在磨介开始爬升时衬板延长并向着筒壁方向旋转以携带更多磨介到达更高的位置，在磨介开始抛射时衬板缩短并向着筒心方向旋转以辅助磨介抛射，从而提高球磨系统生产效率的有益效果，解决了上述背景技术中所提到的现有的陶瓷靶材加工用球磨系统衬板通常是依照设计而固定形状和尺寸的，衬板不能设计的太薄太短，否则起不到足够的携带作用，又不能过厚过高，否则会降低筒内有效容积的问题。

本发明提供如下技术方案：一种陶瓷靶材加工用球磨系统，包括底座，所述底座上设置有驱动机构和料筒，所述料筒包括筒体以及分别设置于所述筒体首尾两部的进料口和出料口；

陶瓷靶材原料和磨介通过所述进料口进入所述筒体内后，通过所述驱动机构驱动所述筒体沿其自身中轴线逆时针旋转使得陶瓷靶材原料在磨介的爬升、抛射过程中进行破碎、研磨形成粉料，再通过所述出料口将粉料输出；

所述筒体上还设置有衬板机构，所述衬板机构包括设置于所述筒体上的若干个安装座，若干个所述安装座上均设置有第一衬板，若干个所述第一衬板内均滑动设置有第二衬板。

作为本发明所述一种陶瓷靶材加工用球磨系统的一种可选方案，其中：所述衬板机构还包括第一控制组件，所述第一控制组件用于控制若干个所述第二衬板在随着所述筒体的旋转过程中，在靠近所述筒体圆周轨迹右下侧时向所述筒体圆心方向延长，在靠近所述筒体圆周轨迹右上侧时缩短；

通过所述第二衬板的伸缩辅助磨介随着筒体爬升。

作为本发明所述一种陶瓷靶材加工用球磨系统的一种可选方案，其中：所述底座上设置有外筒，且所述外筒与所述筒体同心设置；

所述第一控制组件包括分别滑动设置于若干个所述安装座上的若干个升降杆，所述筒体外侧设置有若干个第一固定架，若干个所述第一固定架上均滑动设置有导向杆，若干个所述导向杆分别与若干个所述升降杆连接；

若干个所述导向杆上均设置有导向球，所述外筒内壁开设有导向槽，若干个所述导向球均滑动设置于所述导向槽内。

作为本发明所述一种陶瓷靶材加工用球磨系统的一种可选方案，其中：所述导向槽包括相互连通的第一弧形段和第二弧形段，所述第一弧形段的半径大于所述第二弧形段的半径。

作为本发明所述一种陶瓷靶材加工用球磨系统的一种可选方案，其中：若干个所述升降杆上均开设有弧形滑槽，若干个所述导向杆上均设置有滑块，若干个所述滑块分别滑动设置于若干个所述弧形滑槽内。

作为本发明所述一种陶瓷靶材加工用球磨系统的一种可选方案，其中：所述筒体上开设有若干个转槽，若干个所述安装座分别转动设置于若干个所述转槽内；

所述衬板机构还包括第二控制组件，所述第二控制组件用于控制若干个所述安装座和若干个所述第二衬板在随着所述筒体的旋转过程中，在靠近所述筒体圆周轨迹右下侧时顺时针旋转，在靠近所述筒体圆周轨迹右上侧时逆时针旋转；

通过所述安装座和所述第二衬板顺时针旋转辅助磨介随着所述筒体爬升，通过所述安装座和所述第二衬板逆时针旋转辅助磨介向下抛射。

作为本发明所述一种陶瓷靶材加工用球磨系统的一种可选方案，其中：所述第二控制组件包括分别设置于若干个所述第一固定架上的若干个第二固定架，若干个所述第二固定架上均转动设置有转杆，若干个所述转杆上均设置有第一齿轮，若干个所述安装座位于所述筒体外的一侧均设置有第二齿轮，若干个所述第二齿轮分别与若干个所述第一齿轮啮合；

所述外筒内设置有外齿圈和内齿圈，所述外齿圈和所述内齿圈的位置分别对应所述筒体的圆周轨迹右下侧和右上侧，且所述外齿圈和所述内齿圈与若干个所述第一齿轮均适配。

作为本发明所述一种陶瓷靶材加工用球磨系统的一种可选方案，其中：所述第二控制组件还包括分别设置于若干个所述转杆上的若干个限位杆，所述外筒内壁开设有限位槽，若干个所述限位杆均滑动设置于所述限位槽内；

所述限位槽包括依次连通的第三弧形段、第四弧形段和第五弧形段，且所述第三弧形段、所述第四弧形段和所述第五弧形段的宽度依次增大。

作为本发明所述一种陶瓷靶材加工用球磨系统的一种可选方案，其中：所述驱动机构包括设置于所述底座上的电机，所述电机通过联轴器连接有减速器，所述减速器通过联轴器连接有转轴，所述转轴上设置有小齿轮，所述筒体上设置有大齿轮，所述大齿轮与所述小齿轮啮合。

作为本发明所述一种陶瓷靶材加工用球磨系统的一种可选方案，其中：所述底座上设置有两个第一轴承支架和两个第二轴承支架，两个所述第一轴承支架上均设置有第一轴承，所述筒体的两端分别与两个所述第一轴承的内壁连接，两个所述第二轴承支架上均设置有第二轴承，所述转轴的两端分别与两个所述第二轴承的内壁连接。

本发明具备以下有益效果：

1、该陶瓷靶材加工用球磨系统，与现有的固定结构的衬板不同，将衬板分为安装座和第二衬板组成的一组可伸缩结构，从而实现可变化的衬板厚度，而不必因衬板的尺寸太薄太厚均影响球磨机系统效率受到限制，从而提高球磨机系统的生产效率，在对陶瓷靶材加工时，研磨出质量更高的粉料。

2、该陶瓷靶材加工用球磨系统，在筒体旋转过程中，当衬板移动至下侧时，第二衬板会在第一控制组件的控制下自动伸长，通过延长衬板的长度，使得衬板可以携带更多磨介和物料爬升，以及携带的磨介和物料可以爬升到更高的高度，从而可以使得磨介更好地完成抛射过程起到的对物料的破碎和研磨作用，而在由抛射点回到下侧料堆时又缩短回去，避免影响筒体的有效容积。

3、该陶瓷靶材加工用球磨系统，除了令衬板延长外，衬板还可旋转，安装座和第二衬板在第二控制组件的控制下，在衬板移动至下侧时，衬板会向筒壁方向旋转，通过夹紧的这一过程以助于携带磨介爬升，而在到达上侧抛射点时，衬板又旋转复位，使得磨介释放进行抛射。

附图说明

图1为本发明的整体结构示意图。

图2为本发明的第一整体剖视结构示意图。

图3为本发明的第二整体剖视结构示意图。

图4为本发明图3中A处的局部放大图。

图5为本发明料筒的第一剖视结构示意图。

图6为本发明图5中B处的局部放大图。

图7为本发明料筒的第二剖视结构示意图。

图8为本发明驱动机构的爆炸结构示意图。

图9为本发明衬板机构的整体结构示意图。

图10为本发明衬板机构的爆炸结构示意图。

图中：100、底座；110、外筒；200、驱动机构；210、电机；220、减速器；230、转轴；240、小齿轮；250、大齿轮；260、第一轴承支架；270、第一轴承；280、第二轴承支架；290、第二轴承；300、料筒；310、筒体；320、进料口；330、出料口；400、衬板机构；410、转槽；420、安装座；430、第一衬板；440、第二衬板；450、第一控制组件；451、升降杆；452、第一固定架；453、弧形滑槽；454、滑块；455、导向杆；456、导向球；457、导向槽；4571、第一弧形段；4572、第二弧形段；460、第二控制组件；461、第二固定架；462、转杆；463、第一齿轮；464、第二齿轮；465、外齿圈；466、内齿圈；467、限位杆；468、限位槽；4681、第三弧形段；4682、第四弧形段；4683、第五弧形段。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例一

现有的球磨机系统，在对陶瓷靶材的原料，如ITO靶材是将氧化铟和氧化锡原料通过球磨机系统进行粉碎为粉料时，筒体310内壁上的衬板通常是固定结构的，不能为磨介的抛射起到充足的辅助作用，因此为解决上述技术问题，提出实施例一；

请参阅图1-图10，一种陶瓷靶材加工用球磨系统，包括底座100，底座100上设置有驱动机构200和料筒300，料筒300包括筒体310以及分别设置于筒体310首尾两端的进料口320和出料口330；

陶瓷靶材原料和磨介通过进料口320进入筒体310内后，通过驱动机构200驱动筒体310沿其自身中轴线逆时针旋转使得陶瓷靶材原料在磨介的爬升、抛射过程中进行破碎、研磨形成粉料，再通过出料口330将粉料输出；

筒体310上还设置有衬板机构400，衬板机构400包括设置于筒体310上的若干个安装座420，若干个安装座420上均设置有第一衬板430，若干个第一衬板430内均滑动设置有第二衬板440；

衬板机构400还包括第一控制组件450，第一控制组件450用于控制若干个第二衬板440在随着筒体310的旋转过程中，在靠近筒体310圆周轨迹右下侧时向筒体310圆心方向延长，在靠近筒体310圆周轨迹右上侧时缩短；

通过第二衬板440的伸缩辅助磨介随着筒体310爬升。

本实施例中：首先选择常见的单仓结构的料筒300，将原料和配置好的磨介即两种不同直径的钢球放入筒体310内，通过驱动机构200的驱动，使得筒体310沿其前后方向的中轴线旋转，原料和磨介就会在离心力、与筒体310内壁的摩擦力以及衬板的带动下随着逆时针旋转到达右上侧再向左下侧抛射下来对原料进行粉碎和研磨。

而衬板结构由安装座420和第二衬板440两部分组成，安装座420安装在筒体310内壁上，安装座420位于筒体310内的一侧滑动安装的第二衬板440，构成一个伸缩的衬板结构，且通过第一控制组件450的控制，使得第二衬板440在随着筒体310作圆周运动的过程中，在处于圆形运动轨迹的右上侧逆时针运动到右下侧的这一过程均处于收缩状态，从而不影响筒体310的有效容积。在对应携带磨介到磨介抛射下来的过程中，第二衬板440在圆形轨迹的右下侧逆时针运动到右上侧的这一部分处于伸长状态，通过更厚更长的衬板以携带更多的磨介以及携带磨介到达的角度更高，从而有利于磨介抛射对物料的粉碎力度。

需要进行补充说明的是，在进料口320和出料口330处还应设置有上料螺旋和下料螺旋，由于该部分结构不属于球磨系统本身，且作为常规技术手段，在此不作赘述。

实施例二

为实现第二衬板440能够随着筒体310的旋转过程自动在对应携带磨介到抛射的这一部分进行伸长，然后收回，提出实施例二；

本实施例是在实施例一的基础上做出的改进说明，具体的，请参阅图1-图10，底座100上设置有外筒110，且外筒110与筒体310同心设置；

第一控制组件450包括分别滑动设置于若干个安装座420上的若干个升降杆451，筒体310外侧设置有若干个第一固定架452，若干个第一固定架452上均滑动设置有导向杆455，若干个导向杆455分别与若干个升降杆451连接；

若干个导向杆455上均设置有导向球456，外筒110内壁开设有导向槽457，若干个导向球456均滑动设置于导向槽457内；

导向槽457包括相互连通的第一弧形段4571和第二弧形段4572，第一弧形段4571的半径大于第二弧形段4572的半径；

若干个升降杆451上均开设有弧形滑槽453，若干个导向杆455上均设置有滑块454，若干个滑块454分别滑动设置于若干个弧形滑槽453内。

本实施例中：在安装座420的另一侧滑动安装有升降杆451，升降杆451活动贯穿出安装座420的表面，在升降杆451的下侧与导向杆455连接，而第一固定架452安装在筒体310的外壁，导向杆455滑动安装在第一固定架452上，且滑动方向是筒体310的半径方向。

在导向杆455的末端安装有导向球456，如图6中所示，导向槽457在横截面上是与导向杆455、导向球456契合的，而在轮廓上，第一弧形段4571和第二弧形段4572这两部分之间平滑过渡。

当筒体310旋转使得一个第二衬板440到达第一弧形段4571和第二弧形段4572在下侧的连通处时，由于第二弧形段4572的半径较小，会使得导向球456和导向杆455沿着筒体310的半径方向向筒体310圆心滑动，从而带动升降杆451和第二衬板440向筒体310圆心移动，第二衬板440延长。

当筒体310继续逆时针旋转时，导向球456经过第一弧形段4571和第二弧形段4572在上侧的连通处，由第二弧形段4572进入第一弧形段4571，此时导向球456又会带动第二衬板440向着远离筒体310圆心的方向移动，第二衬板440缩短。

而将导向球456设置为宽于导向杆455的球体，是起到令导向过程平滑，以及限位的作用。

需要进行补充说明的是，外筒110的位置可以是固定的，也可以设置为可旋转的，从而可以实现能够调节第二衬板440延长以及旋转的节点。

实施例三

除了在磨介爬升到抛射的过程中通过衬板伸长来辅助携带磨介外，通过实施例三来进一步辅助磨介的携带和抛射；

本实施例是在实施例二的基础上做出的改进说明，具体的，请参阅图1-图10，筒体310上开设有若干个转槽410，若干个安装座420分别转动设置于若干个转槽410内；

衬板机构400还包括第二控制组件460，第二控制组件460用于控制若干个安装座420和若干个第二衬板440在随着筒体310的旋转过程中，在靠近筒体310圆周轨迹右下侧时顺时针旋转，在靠近筒体310圆周轨迹右上侧时逆时针旋转；

通过安装座420和第二衬板440顺时针旋转辅助磨介随着筒体310爬升，通过安装座420和第二衬板440逆时针旋转辅助磨介向下抛射；

第二控制组件460包括分别设置于若干个第一固定架452上的若干个第二固定架461，若干个第二固定架461上均转动设置有转杆462，若干个转杆462上均设置有第一齿轮463，若干个安装座420位于筒体310外的一侧均设置有第二齿轮464，若干个第二齿轮464分别与若干个第一齿轮463啮合；

外筒110内设置有外齿圈465和内齿圈466，外齿圈465和内齿圈466的位置分别对应筒体310的圆周轨迹右下侧和右上侧，且外齿圈465和内齿圈466与若干个第一齿轮463均适配；

第二控制组件460还包括分别设置于若干个转杆462上的若干个限位杆467，外筒110内壁开设有限位槽468，若干个限位杆467均滑动设置于限位槽468内；

限位槽468包括依次连通的第三弧形段4681、第四弧形段4682和第五弧形段4683，且第三弧形段4681、第四弧形段4682和第五弧形段4683的宽度依次增大。

本实施例中：首先安装座420呈圆柱形，且是转动安装在筒体310上的。在第一固定架452上安装有第二固定架461，第二固定架461的位置也与筒体310保持相对固定。转杆462上安装的第一齿轮463较长，可和第二齿轮464、外齿圈465、内齿圈466均啮合。在安装座420位于筒体310外的部分安装有第二齿轮464，第二齿轮464为不完全齿轮，在安装座420旋转过程中不会触碰到筒体310外壁。

而筒体310内安装的外齿圈465和内齿圈466均是以筒体310的圆心为圆心的两截弧形齿圈。外齿圈465可与第一齿轮463外侧啮合，而内齿圈466则可与第一齿轮463内侧啮合。由于啮合方向不同，因此第一齿轮463的旋转方向不同。

并且还设置有限位杆467和限位槽468来对第一齿轮463进行限位。

具体的，当第二衬板440随着筒体310的旋转由图7中所示的第三弧形段4681进入第四弧形段4682时，第四弧形段4682变宽了一些，使得矩形的限位杆467可以旋转，此时随着筒体310继续旋转，第一齿轮463与外齿圈465啮合，并在外齿圈465带动下作逆时针旋转，从而使得安装座420和第二衬板440作顺时针旋转，即向筒体310内壁方向旋转，通过夹紧的这一动作以助于携带磨介爬升。且此时旋转后的限位杆467会被第四弧形段4682正好限制住，尽量避免其回转。

当筒体310继续旋转，限位杆467由第四弧形段4682进入更宽的第五弧形段4683中，此时第一齿轮463与内齿圈466啮合而顺时针旋转，使得安装座420和第二衬板440逆时针旋转，而起到令携带的磨介释放得以抛射的作用。而后限位杆467从第五弧形段4683回到第三弧形段4681中，由于内齿圈466令其逆时针旋转复位，而后继续被限位使得第二衬板440处于筒体310的径向方向。

在第二衬板440的旋转过程中，以转槽410为圆心的弧形滑槽453，相对滑块454旋转，滑块454和导向杆455位置固定。

实施例四

本实施例是在实施例一的基础上做出的改进说明，具体的，请参阅图1-图8，驱动机构200包括设置于底座100上的电机210，电机210通过联轴器连接有减速器220，减速器220通过联轴器连接有转轴230，转轴230上设置有小齿轮240，筒体310上设置有大齿轮250，大齿轮250与小齿轮240啮合；

底座100上设置有两个第一轴承支架260和两个第二轴承支架280，两个第一轴承支架260上均设置有第一轴承270，筒体310的两端分别与两个第一轴承270的内壁连接，两个第二轴承支架280上均设置有第二轴承290，转轴230的两端分别与两个第二轴承290的内壁连接。

本实施例中：通过减速器220将电机210输入的转速降低后输出给转轴230，带动小齿轮240旋转，小齿轮240再带动大齿轮250和筒体310旋转。第一轴承270起到令筒体310旋转更加稳定的作用，第二轴承290起到令转轴230旋转更加稳定的作用。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (3)

1.一种陶瓷靶材加工用球磨系统，包括底座（100），其特征在于：所述底座（100）上设置有驱动机构（200）和料筒（300），所述料筒（300）包括筒体（310）以及分别设置于所述筒体（310）首尾两部的进料口（320）和出料口（330）；

陶瓷靶材原料和磨介通过所述进料口（320）进入所述筒体（310）内后，通过所述驱动机构（200）驱动所述筒体（310）沿其自身中轴线逆时针旋转使得陶瓷靶材原料在磨介的爬升、抛射过程中进行破碎、研磨形成粉料，再通过所述出料口（330）将粉料输出；

所述筒体（310）上还设置有衬板机构（400），所述衬板机构（400）包括设置于所述筒体（310）上的若干个安装座（420），若干个所述安装座（420）上均设置有第一衬板（430），若干个所述第一衬板（430）内均滑动设置有第二衬板（440）；

所述衬板机构（400）还包括第一控制组件（450），所述第一控制组件（450）用于控制若干个所述第二衬板（440）在随着所述筒体（310）的旋转过程中，在靠近所述筒体（310）圆周轨迹右下侧时向所述筒体（310）圆心方向延长，在靠近所述筒体（310）圆周轨迹右上侧时缩短；

通过所述第二衬板（440）的伸缩辅助磨介随着筒体（310）爬升；

所述底座（100）上设置有外筒（110），且所述外筒（110）与所述筒体（310）同心设置；

所述第一控制组件（450）包括分别滑动设置于若干个所述安装座（420）上的若干个升降杆（451），所述筒体（310）外侧设置有若干个第一固定架（452），若干个所述第一固定架（452）上均滑动设置有导向杆（455），若干个所述导向杆（455）分别与若干个所述升降杆（451）连接；

若干个所述导向杆（455）上均设置有导向球（456），所述外筒（110）内壁开设有导向槽（457），若干个所述导向球（456）均滑动设置于所述导向槽（457）内；

所述导向槽（457）包括相互连通的第一弧形段（4571）和第二弧形段（4572），所述第一弧形段（4571）的半径大于所述第二弧形段（4572）的半径；

若干个所述升降杆（451）上均开设有弧形滑槽（453），若干个所述导向杆（455）上均设置有滑块（454），若干个所述滑块（454）分别滑动设置于若干个所述弧形滑槽（453）内；

所述筒体（310）上开设有若干个转槽（410），若干个所述安装座（420）分别转动设置于若干个所述转槽（410）内；

所述衬板机构（400）还包括第二控制组件（460），所述第二控制组件（460）用于控制若干个所述安装座（420）和若干个所述第二衬板（440）在随着所述筒体（310）的旋转过程中，在靠近所述筒体（310）圆周轨迹右下侧时顺时针旋转，在靠近所述筒体（310）圆周轨迹右上侧时逆时针旋转；

通过所述安装座（420）和所述第二衬板（440）顺时针旋转辅助磨介随着所述筒体（310）爬升，通过所述安装座（420）和所述第二衬板（440）逆时针旋转辅助磨介向下抛射；

所述第二控制组件（460）包括分别设置于若干个所述第一固定架（452）上的若干个第二固定架（461），若干个所述第二固定架（461）上均转动设置有转杆（462），若干个所述转杆（462）上均设置有第一齿轮（463），若干个所述安装座（420）位于所述筒体（310）外的一侧均设置有第二齿轮（464），若干个所述第二齿轮（464）分别与若干个所述第一齿轮（463）啮合；

所述外筒（110）内设置有外齿圈（465）和内齿圈（466），所述外齿圈（465）和所述内齿圈（466）的位置分别对应所述筒体（310）的圆周轨迹右下侧和右上侧，且所述外齿圈（465）和所述内齿圈（466）与若干个所述第一齿轮（463）均适配；

所述第二控制组件（460）还包括分别设置于若干个所述转杆（462）上的若干个限位杆（467），所述外筒（110）内壁开设有限位槽（468），若干个所述限位杆（467）均滑动设置于所述限位槽（468）内；

所述限位槽（468）包括依次连通的第三弧形段（4681）、第四弧形段（4682）和第五弧形段（4683），且所述第三弧形段（4681）、所述第四弧形段（4682）和所述第五弧形段（4683）的宽度依次增大。

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷靶材加工用球磨系统，其特征在于：所述驱动机构（200）包括设置于所述底座（100）上的电机（210），所述电机（210）通过联轴器连接有减速器（220），所述减速器（220）通过联轴器连接有转轴（230），所述转轴（230）上设置有小齿轮（240），所述筒体（310）上设置有大齿轮（250），所述大齿轮（250）与所述小齿轮（240）啮合。

3.根据权利要求2所述的一种陶瓷靶材加工用球磨系统，其特征在于：所述底座（100）上设置有两个第一轴承支架（260）和两个第二轴承支架（280），两个所述第一轴承支架（260）上均设置有第一轴承（270），所述筒体（310）的两端分别与两个所述第一轴承（270）的内壁连接，两个所述第二轴承支架（280）上均设置有第二轴承（290），所述转轴（230）的两端分别与两个所述第二轴承（290）的内壁连接。